一种多晶硅抛光组合物及其应用的制作方法

技术特征：
1.一种多晶硅抛光组合物，以纳米二氧化硅胶体为磨料，其特征在于，还包括聚醇醚类物质和烷基葡糖酰胺类物质作为表面活性剂。2.根据权利要求1所述的多晶硅抛光组合物，其特征在于，包括纳米二氧化硅胶体、表面活性剂、碱性化合物、ph调节剂和去离子水；优选地，各组分含量为：纳米二氧化硅胶体5～24wt％、表面活性剂0.006～1.2wt％、碱性化合物0.5～7wt％、ph调节剂0.01～1wt％，余量为去离子水；更优选地，各组分含量为：纳米二氧化硅胶体10～18wt、表面活性剂0.15～0.75wt％、碱性化合物1～5wt％、ph调节剂0.05～0.5wt％，余量为去离子水。3.根据权利要求1或2所述的多晶硅抛光组合物，其特征在于，所述表面活性剂中聚醇醚类物质和烷基葡糖酰胺类物质的质量比为1:1～1:14；优选为1:4～1:9。4.根据权利要求1或2所述的多晶硅抛光组合物，其特征在于，所述纳米二氧化硅胶体的平均粒径为60-90nm，质量浓度为20wt％～30wt％。5.根据权利要求1～3任一项所述的多晶硅抛光组合物，其特征在于，所述聚醇醚类物质表面活性剂选自聚乙二醇单甲醚、聚乙二醇二甲醚、聚乙二醇单辛醚、聚乙二醇三甲基壬基醚、聚乙二醇二乙烯基醚、聚乙二醇辛基苯基醚、聚乙二醇壬基苯基醚、聚乙二醇烯丙基甲基醚、聚乙二醇二缩水甘油醚、聚乙二醇十二烷基醚、聚乙二醇十六烷基醚、聚乙二醇十八烷基醚、聚乙二醇缩水甘油基十二烷基醚、聚乙二醇双(3-氨丙基)醚、聚乙二醇单(2-月桂酰胺基乙基)醚、聚丙二醇单甲醚、聚丙二醇单丁醚、聚丙二醇-单异十三烷基醚、聚丙二醇十八烷基醚、聚丙二醇二缩水甘油醚中的至少任一种，优选为聚乙二醇单甲醚、聚乙二醇三甲基壬基醚、聚乙二醇烯丙基甲基醚、聚乙二醇二缩水甘油醚、聚乙二醇十二烷基醚、聚丙二醇单丁醚、聚丙二醇二缩水甘油醚中的至少任一种。6.根据权利要求1～3任一项所述的多晶硅抛光组合物，其特征在于，所述烷基葡糖酰胺类物质表面活性剂选自羟乙基月桂葡糖酰胺、丁基月桂葡糖酰胺、辛基葡萄糖酰胺、十二酰基胺乙基葡糖酰胺、十二烷基甲基葡糖酰胺、己酰基甲基葡糖酰胺、癸酰基甲基葡糖胺、辛酰基甲基葡糖胺、壬酰基甲基葡萄糖胺、十四烷基葡糖酰胺、十六烷基葡糖酰胺、十八烷基葡糖酰胺、乙酰基正八烷葡糖酰胺、乙酰基正十烷葡糖酰胺、乙酰基正十二烷葡糖酰胺、丙酰基正八烷葡糖酰胺、丙酰基正十烷葡糖酰胺、丙酰基正十二烷葡糖酰胺、n-(3-三乙氧硅基丙基)葡糖酰胺、椰油酰基甲基葡萄糖胺、肉豆蔻酰甲基葡糖酰胺中的至少任一种，优选为癸酰基甲基葡糖胺、十二烷基甲基葡糖酰胺、辛酰基甲基葡糖胺、十八烷基葡糖酰胺、n-(3-三乙氧硅基丙基)葡糖酰胺中的至少任一种。7.根据权利要求2所述的多晶硅抛光组合物，其特征在于，所述碱性化合物选自高哌嗪、甲基高哌嗪、乙基高哌嗪、甲酰基高哌嗪、哌嗪、甲基哌嗪、吡嗪、哒嗪、单乙醇胺、异丙醇胺、咪唑、甲基咪唑、碳酸胍、四甲基胍、乙二胺、氢氧化铵、四甲基氢氧化铵、四乙基氢氧化铵、四丙基氢氧化铵、四丁基氢氧化铵中的至少任一种，优选为单乙醇胺、乙二胺、氢氧化铵、四甲基氢氧化铵。8.根据权利要求2所述的多晶硅抛光组合物，其特征在于，所述ph调节剂选自赖氨酸、组氨酸、脯氨酸、丙氨酸、甘氨酸、缬氨酸、丝氨酸、酪氨酸、谷氨酸、苏氨酸、异亮氨酸、亮氨酸、色氨酸、甲硫氨酸、苯丙氨酸、天冬氨酸、半胱氨酸中的至少任一种；优选为赖氨酸、甘氨酸。9.根据权利要求8所述的多晶硅抛光组合物，其特征在于，调节所述多晶硅抛光组合物
的ph值为10～12。10.权利要求1-9任一项所述的多晶硅抛光组合物在多晶硅化学机械抛光中的应用。

技术总结
本发明公开了一种多晶硅抛光组合物及其应用，所述多晶硅抛光组合物以纳米二氧化硅胶体为主要抛光组分，并添加有聚醇醚类物质和烷基葡糖酰胺类物质作为助剂。本发明的抛光组合物中同时添加聚醇醚类物质和烷基葡糖酰胺类物质作为表面活性剂，绿色低毒，在保持较高多晶硅去除速率的条件下，有效抑制碟形凹陷的产生，与现有技术相比，具有明显优势。具有明显优势。


技术研发人员：王永东 卞鹏程 徐贺 王庆伟 王瑞芹 李国庆 崔晓坤 卫旻嵩
受保护的技术使用者：万华化学集团电子材料有限公司
技术研发日：2022.11.17
技术公布日：2023/3/3