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含有聚胺和乙烯基单体的接枝共聚物的快速硬化水性涂料组合物的制作方法

2023-03-03 10:00:52 来源:中国专利 TAG:

技术特征:
1.一种阴离子稳定的水性乳液组合物,包含:a)以乳化形式存在于水性乳液组合物中的第一乳液聚合物,所述第一乳液聚合物包含作为聚合单元的至少一种单烯键式不饱和单体,所述第一乳液聚合物的tg为-60℃至40℃;b)一种挥发性碱;以及c)不同于第一乳液聚合物的聚胺接枝共聚物,其包含作为聚合单元的乙烯基单体,所述乙烯基单体接枝在水溶性含氨基聚合物上;其中,阴离子稳定的水性乳液组合物的ph值为8至11,并且其中,所述c)聚胺接枝共聚物的含量能有效地使水性乳液组合物在至少一部分挥发性碱蒸发时失去稳定性,但在制备和储存期间能保持阴离子稳定的水乳液组合物的稳定性。2.如权利要求1所述的阴离子稳定的水性乳液组合物,其中,所述c)聚胺接枝共聚物包含通过自由基接枝到含氨基聚合物的乙烯基单体。3.如权利要求1所述的阴离子稳定的水性乳液组合物,其中c)聚胺接枝共聚物以分散体的形式存在,其粒径为50nm至400nm。4.如权利要求1所述的阴离子稳定的水性乳液组合物,其中,所述阴离子稳定的水性乳液组合物的ph值为9至10.5。5.如权利要求1所述的阴离子稳定的水性乳液组合物,其中,所述c)聚胺接枝共聚物在水性乳液组合物中的浓度为a)第一乳液聚合物干燥后总重量的0.01重量%至10.0重量%。6.如权利要求1所述的阴离子稳定的水性乳液组合物,其中,所述c)聚胺接枝共聚物在组合物中的浓度为a)第一乳液聚合物干燥后总重量的0.1重量%至5.0重量%。7.如权利要求1所述的阴离子稳定的水性乳液组合物,其中,所述c)聚胺接枝共聚物以乳液聚合物颗粒的形式存在。8.如权利要求1所述的阴离子稳定的水性乳液组合物,其中,c)中所述的水溶性含氨基聚合物占阴离子稳定的水性乳液组合物干燥后总重量的0.01重量%-5重量%。9.如权利要求1所述的阴离子稳定的水性乳液组合物,其中,基于c)聚胺接枝共聚物的重量,c)聚胺自由基接枝共聚物包含5重量%至95重量%的乙烯基单体。10.如权利要求1所述的阴离子稳定的水性乳液组合物,其中,基于c)聚胺接枝共聚物的重量,c)聚胺接枝共聚物包含60重量%至90重量%的乙烯基单体。11.如权利要求1所述的阴离子稳定的水性乳液组合物,其中c)中的水溶性含氨基聚合物包含聚乙烯亚胺。12.如权利要求11所述的阴离子稳定的水性乳液组合物,其中,所述聚乙烯亚胺的mw为700da至200,000da,优选为2,000至200,000da。13.如权利要求11所述的阴离子稳定的水性乳液组合物,其中,所述聚乙烯亚胺的mw为2,000da至50,000da。14.如权利要求11所述的阴离子稳定的水性乳液组合物,其中,所述聚乙烯亚胺包含支化的分子。15.如权利要求1所述的阴离子稳定的水性乳液组合物,其中c)中的乙烯基单体选自下组:(甲基)丙烯酸烷基酯、c
2-c4烯烃、芳香族烯烃、共轭二烯及其混合物。16.如权利要求15所述的阴离子稳定的水性乳液组合物,其中c)中的乙烯基单体选自下组:丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸甲酯、丙烯酸丁酯、甲基丙烯酸丁酯、苯乙烯、α-甲基苯乙烯、
二乙烯基苯、丁二烯、乙烯、乙酸乙烯酯、叔碳酸乙烯酯、氯乙烯、丙烯酸2-乙基己酯及其混合物。17.如权利要求1所述的阴离子稳定的水性乳液组合物,其中,所述挥发性碱b)选自下组:氨、三甲胺、三乙胺、二甲基乙醇胺、吗啉、n-甲基吗啉、其前体以及其混合物。18.如权利要求1所述的阴离子稳定的水性乳液组合物,其中,所述的挥发性碱b)包含氨。19.如权利要求1所述的阴离子稳定的水性乳液组合物,其中,所述第一乳液聚合物a)包含作为聚合单元的选自下组的单体:(甲基)丙烯酸烷基酯、c
2-c4烯烃、芳香族烯烃、共轭二烯、乙烯基单体及其混合物。20.如权利要求1所述的阴离子稳定的水性乳液组合物,其中,所述第一乳液聚合物a)包含作为聚合单元的选自下组的单体:丙烯酸丁酯、甲基丙烯酸甲酯、苯乙烯、丙烯酸2-乙基己酯、乙酸乙烯酯及其混合物。21.一种水性涂料组合物,其包含如权利要求1所述的阴离子稳定的水性乳液组合物,以及d)非水溶性金属颜料。22.如权利要求20所述的水性涂料组合物,其中,所述水性涂料组合物的ph值为8至10.5。23.如权利要求21所述的水性涂料组合物,其中,所述成分c)占水性涂料组合物干燥后总重量的0.01重量%至5重量%。

技术总结
一种阴离子稳定的水性乳液组合物包括:a)第一乳液聚合物,其Tg为-60℃至40℃;b)一种挥发性碱;以及c)不同于第一乳液聚合物的聚合物颗粒,其以乳化形式存在。该c)聚合物颗粒是聚胺接枝共聚物,其中乙烯基单体形成的聚合物接枝到水溶性含氨基聚合物上。该阴离子稳定的水性乳液组合物的pH值可以是8至11。性乳液组合物的pH值可以是8至11。


技术研发人员:D
受保护的技术使用者:阿科玛股份有限公司
技术研发日:2021.04.15
技术公布日:2023/2/24
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