经由吹扫环防止局部化的等离子电弧的制作方法

技术特征：
1.一种吹扫环，其包括：供应端口，其被配置用于接收气体；连接到所述供应端口的外部通道；出口网络，其被配置用于接近所述吹扫环的内径的所述气体的出口流；多个通道，其被配置用于使所述气体沿径向方向从所述外部通道流向所述出口网络；多个过道，其被配置用于减少所述气体在所述外部通道和所述出口网络之间在所述径向方向上的流动，其中所述多个通道和所述多个过道被配置用于提供穿过所述出口网络的圆周的均匀压力的所述气体的所述出口流。2.根据权利要求1所述的吹扫环，其中所述外部通道被配置为在所述气体到所述出口网络的径向流动发生之前实现压力平衡。3.根据权利要求1所述的吹扫环，其进一步包括：连接所述外部通道和所述出口网络的分配体积，所述分配体积包括所述多个通道和所述多个过道。4.根据权利要求3所述的吹扫环，其进一步包括：贮存器，其将所述分配体积连接到所述出口网络，并且被配置为在所述气体到所述出口网络的径向流动发生之前实现压力平衡。5.根据权利要求1所述的吹扫环，其中以距所述吹扫环入口的第一径向距离为中心的第一过道的第一径向宽度大于以较靠近所述吹扫环入口的第二径向距离为中心的第二过道的第二径向宽度。6.根据权利要求1所述的吹扫环，其中以距所述吹扫环入口的第一径向距离为中心的第一过道的第一径向宽度小于以较靠近所述吹扫环入口的第二径向距离为中心的第二过道的第二径向宽度。7.根据权利要求1所述的吹扫环，其中所述多个过道中的过道包括多孔介质。8.根据权利要求1所述的吹扫环，其中所述出口网络包括出口孔隙的阵列，每个出口孔隙被配置用于提供所述气体的所述出口流的相应部分。9.根据权利要求8所述的吹扫环，其中出口孔隙的所述阵列中的出口孔隙围绕所述出口网络的所述圆周对称分布。10.根据权利要求8所述的吹扫环，其中出口孔隙的所述阵列被配置在所述吹扫环的底表面上。11.根据权利要求1所述的吹扫环，其中所述出口网络包括围绕所述圆周配置的一个或多个连续通道。12.根据权利要求11所述的吹扫环，其中至少一个连续通道包括多孔介质。13.处理腔室的基座组件，所述基座组件包括：用于支撑衬底的基座；吹扫环，其被配置用于围绕所述基座的周边放置，所述吹扫环包含：被配置用于接收气体的供应端口；连接到所述供应端口的外部通道；
出口网络，其被配置用于接近所述吹扫环的内径的所述气体的出口流；多个通道，其被配置用于使所述气体沿径向方向从所述外部通道流向所述出口网络；多个过道，其被配置用于减少所述气体在所述外部通道和所述出口网络之间在所述径向方向上的流动，其中所述多个通道和所述多个过道被配置用于提供穿过所述出口网络的圆周的均匀压力的所述气体的所述出口流。14.根据权利要求13所述的基座组件，其中所述吹扫环被配置为位于所述衬底下方。15.根据权利要求13所述的处理腔室，其中在所述吹扫环中，所述外部通道被配置为在所述气体向所述出口网络的径向流动发生之前实现压力平衡。16.根据权利要求13所述的处理腔室，其中所述吹扫环包括连接所述外部通道和所述出口网络的分配体积，所述分配体积包含所述多个通道和所述多个过道。17.根据权利要求16所述的处理腔室，所述吹扫环进一步包括贮存器，所述贮存器将所述分配体积连接到所述出口网络，并且被配置为在所述气体到所述出口网络的径向流动发生之前实现压力平衡。18.根据权利要求13所述的处理腔室，其中在所述吹扫环中，以距所述吹扫环入口的第一径向距离为中心的第一通道的第一径向宽度大于以较接近所述吹扫环入口的第二径向距离为中心的第二通道的第二径向宽度。19.根据权利要求13所述的处理腔室，其中在所述吹扫环中，以距所述吹扫环入口的第一径向距离为中心的第一过道的第一径向宽度小于以较接近所述吹扫环入口的第二径向距离为中心的第二过道的第二径向宽度。20.根据权利要求13所述的处理腔室，其中在所述吹扫环中，所述多个过道中的过道包括多孔介质。21.根据权利要求13所述的处理腔室，其中在所述吹扫环中，所述出口网络包括出口孔隙的阵列，每个出口孔隙被配置用于提供所述气体的所述出口流的相应部分。22.根据权利要求21所述的处理腔室，其中在所述吹扫环中，出口孔隙的所述阵列中的出口孔隙围绕所述出口网络的所述圆周对称分布。23.根据权利要求21所述的处理腔室，其中在所述吹扫环中，出口孔隙的所述阵列被配置在所述吹扫环的底表面上。24.根据权利要求13所述的处理腔室，其中在所述吹扫环中，所述出口网络包含围绕所述圆周配置的一个或多个连续通道。25.根据权利要求16所述的处理腔室，其中至少一个连续通道包括多孔介质。26.一种处理腔室，所述处理腔室包含：多个站，每个站包含基座组件，每个基座组件包含：用于支撑衬底的基座；吹扫环，其被配置用于围绕所述基座的周边放置，所述吹扫环包含：
被配置用于接收气体的供应端口；连接到所述供应端口的外部通道；出口网络，其被配置用于接近所述吹扫环的内径的所述气体的出口流；多个通道，其被配置用于使所述气体沿径向方向从所述外部通道流向所述出口网络；多个过道，其被配置用于减少所述气体在所述外部通道和所述出口网络之间在径向方向上的流动，其中所述多个通道和所述多个过道被配置用于提供穿过所述出口网络的圆周的均匀压力的所述气体的所述出口流；以及气体分配系统，其用于将具有均匀气体流量的所述气体分配到所述多个站中的每个站的基座组件。27.根据权利要求26所述的处理腔室，其进一步包括：穿过所述处理腔室的站分隔壁布线的气体输送结构，所述气体输送结构提供经由所述气体传输结构中的相应进入端口将所述气体输送到所述多个站中的每一个，以用于经由相应导管将所述气体输送结构连接到相应站的相应基座组件；在所述相应导管中的至少一个流体阻力器，其用以调节到所述相应站的气体流，使得到所述多个站中的每个站的所述气体流大约相等。28.根据权利要求27所述的处理腔室，其中所述至少一个流体阻力器包含配置在所述相应导管中的第一流体阻力器和第二流体阻力器。29.根据权利要求26所述的处理腔室，其中所述吹扫环被配置为位于所述衬底下方。30.根据权利要求26所述的处理腔室，其中在所述吹扫环中，所述外部通道被配置为在所述气体向所述出口网络的径向流动发生之前实现压力平衡。31.根据权利要求26所述的处理腔室，其中所述吹扫环包括连接所述外部通道和所述出口网络的分配体积，所述分配体积包含所述多个通道和所述多个过道。32.根据权利要求31所述的处理腔室，所述吹扫环进一步包括将贮存器，所述贮存器将所述分配体积连接到所述出口网络，并且被配置为在所述气体到所述出口网络的径向流动发生之前实现压力平衡。33.根据权利要求26所述的处理腔室，其中在所述吹扫环中，以距所述吹扫环入口的第一径向距离为中心的第一通道的第一径向宽度大于以较接近所述吹扫环入口的第二径向距离为中心的第二通道的第二径向宽度。34.根据权利要求26所述的处理腔室，其中在所述吹扫环中，以距所述吹扫环入口的第一径向距离为中心的第一过道的第一径向宽度小于以较接近所述吹扫环入口的第二径向距离为中心的第二过道的第二径向宽度。35.根据权利要求26所述的处理腔室，其中在所述吹扫环中，所述多个过道中的过道包括多孔介质。36.根据权利要求26所述的处理腔室，其中在所述吹扫环中，所述出口网络包含出口孔
隙的阵列，每个出口孔隙被配置用于提供所述气体的所述出口流的相应部分。37.根据权利要求36所述的处理腔室，其中在所述吹扫环中，出口孔隙的所述阵列中的出口孔隙围绕所述出口网络的所述圆周对称分布。38.根据权利要求36所述的处理腔室，其中在所述吹扫环中，出口孔隙的所述阵列被配置在所述吹扫环的底表面上。39.根据权利要求26所述的处理腔室，其中在所述吹扫环中，所述出口网络包含围绕所述圆周配置的一个或多个连续通道。40.根据权利要求39所述的处理腔室，其中至少一个连续通道包括多孔介质。

技术总结
一种吹扫环，其包括被配置用于接收气体的供应端口。外部通道连接到供应端口。出口网络被配置用于接近吹扫环内径的气体出口流。吹扫环包括多个通道，其被配置用于使气体沿径向方向从外部通道流向出口网络。吹扫环包括多个过道，其被配置用于减少在外部通道和出口网络之间沿径向方向的气体流。多个通道和多个过道被配置用于提供穿过出口网络圆周的均匀压力的气体出口流。气体出口流。气体出口流。


技术研发人员：卡尔
受保护的技术使用者：朗姆研究公司
技术研发日：2021.10.22
技术公布日：2023/2/13