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一种用于辐射冷却的MgO涂料及其制备工艺

2023-02-02 02:46:06 来源:中国专利 TAG:

技术特征:
1.一种用于辐射冷却的mgo涂料,其特征在于,包括如下组分:mgo颗粒、涂料基质、无水乙醇、消泡剂和成膜助剂;其中,所述mgo颗粒的粒径分布不均一。2.根据权利要求1所述的一种用于辐射冷却的mgo涂料,其特征在于,所述涂料基质为pva溶液。3.根据权利要求1所述的一种用于辐射冷却的mgo涂料,其特征在于,所述用于辐射冷却的mgo涂料主要由:0.8~1.2体积份pva溶液、2体积份无水乙醇、0.8-1.2体积份mgo颗粒以及体积分数为0.3v%的消泡剂和体积分数为0.4v%的成膜助剂组成。4.根据权利要求3所述的一种用于辐射冷却的mgo涂料,其特征在于,所述用于辐射冷却的mgo涂料主要由:1体积份pva溶液、2体积份无水乙醇、1体积份mgo颗粒以及体积分数为0.3v%的消泡剂和体积分数为0.4v%的成膜助剂组成。5.根据权利要求1所述的一种用于辐射冷却的mgo涂料,其特征在于,所述mgo颗粒的粒径为0~2μm。6.根据权利要求2所述的一种用于辐射冷却的mgo涂料,其特征在于,所述pva溶液的质量分数为8%~10%。7.一种用于辐射冷却的mgo涂料的制备工艺,其特征在于,包括如下步骤:步骤100、取pva颗粒制备成pva溶液,作为涂料基质;步骤200、将mgo颗粒与涂料基质混合,并加入无水乙醇进行分散搅拌,获得预分散涂料;步骤300、对预分散涂料进行超声处理,再加入消泡剂和成膜助剂,获得涂料成品。8.根据权利要求7所述的一种用于辐射冷却的mgo涂料的制备工艺,其特征在于,在步骤100中,制备pva溶液具体包括:取pva颗粒置于水中常温搅拌第一预设时间,再加热至第一预设温度后搅拌第二预设时间以使得pva充分溶解,关闭加热继续搅拌直至pva溶液恢复至常温,获得pva溶液;其中,所述第一预设时间为10min;所述第一预设温度为90℃;所述第二预设时间为20min。9.根据权利要求7所述的一种用于辐射冷却的mgo涂料的制备工艺,其特征在于,在步骤200中,所述分散搅拌通过高速分散机实现;其中,所述高速分散机的分散频率为6000r/min-8000r/min,分散时间为3h。10.根据权利要求7所述的一种用于辐射冷却的mgo涂料的制备工艺,其特征在于,在步骤300中,超声处理通过细胞破碎仪实现;其中,超声处理时间为30min;超声功率为600w;超声间歇时间设置为2秒。

技术总结
本发明公开了一种用于辐射冷却的MgO涂料及其制备工艺,涉及辐射制冷技术领域,包括MgO颗粒、涂料基质、无水乙醇、消泡剂和成膜助剂;其中,所述MgO颗粒的粒径分布不均一;还公开了一种用于辐射冷却的MgO涂料的制备工艺,包括如下步骤:取PVA颗粒制备成PVA溶液,作为涂料基质;将MgO颗粒与涂料基质混合,并加入无水乙醇进行分散搅拌,获得预分散涂料;对预分散涂料进行超声处理,再加入消泡剂和成膜助剂,获得涂料成品;本发明采用不同粒径的MgO颗粒作为涂料的主要成分,不同粒径的颗粒对不同波段的太阳光散射效果不同,粒径非均一分布的涂料颗粒能更好地实现太阳光全波段的反射;并采用PVA溶液作为涂料的溶剂,使得涂料有更高的发射率。射率。射率。


技术研发人员:孙超 周志华 那艳玲 张云飞 刘俊伟 胡琪 江崇旭 武世强
受保护的技术使用者:天津大学
技术研发日:2022.10.24
技术公布日:2023/1/31
再多了解一些

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