光学层叠体的制作方法

技术特征：
1.一种光学层叠体，所述光学层叠体包括基材、以及包含着色剂的粘合剂层，所述基材的单面进行了防反射处理和/或防眩光处理，在所述基材的未进行所述防反射处理和/或防眩光处理的一侧的面上层叠有所述粘合剂层。2.根据权利要求1所述的光学层叠体，其中，所述粘合剂层为由含有聚合物、光聚合性化合物、光聚合引发剂以及着色剂的光固化性粘合剂组合物形成的粘合剂层。3.根据权利要求2所述的光学层叠体，其中，所述着色剂的波长330～400nm的透过率的最大值大于波长400～700nm的透过率的最大值。4.根据权利要求2或3所述的光学层叠体，其中，所述光聚合引发剂在波长330～400nm的范围具有至少1个最大吸收。5.根据权利要求2～4中的任一项所述的光学层叠体，其中，所述聚合物为丙烯酸类聚合物。6.根据权利要求2～5中的任一项所述的光学层叠体，其中，所述聚合物的玻璃化转变温度为0℃以下。7.根据权利要求2～6中的任一项所述的光学层叠体，其中，所述光固化性粘合剂组合物进一步包含能够与所述聚合物交联的交联剂。8.根据权利要求1～7中的任一项所述的光学层叠体，其中，所述光学层叠体在350nm～450nm具有透过率的极大值。9.根据权利要求1～8中的任一项所述的光学层叠体，其中，所述粘合剂层的总透光率为80％以下。10.根据权利要求1～9中的任一项所述的光学层叠体，其中，所述粘合剂层的厚度为10～500μm。11.根据权利要求1～10中的任一项所述的光学层叠体，其中，所述粘合剂层在温度25℃下的剪切储能模量为10～1000kpa。12.根据权利要求1～11中的任一项所述的光学层叠体，其中，所述粘合剂层在温度85℃下的剪切储能模量为3～300kpa。13.根据权利要求1～12中的任一项所述的光学层叠体，其中，所述防眩光处理为在所述基材的单面设置的防眩光层。14.根据权利要求13所述的光学层叠体，其中，所述防眩光层使用包含树脂、颗粒及触变赋予剂的防眩光层形成材料来形成，所述防眩光层通过所述颗粒及所述触变赋予剂发生聚集，从而在所述防眩光层的表面具有形成凸状部的聚集部。15.根据权利要求14所述的光学层叠体，其中，在所述防眩光层表面的凸状部，平均倾角θa(
°
)为0.1～5.0的范围。16.根据权利要求1～15中的任一项所述的光学层叠体，其进一步在所述基材的进行了防反射处理和/或防眩光处理的面层叠有表面保护薄膜。17.一种自发光型显示装置，所述自发光型显示装置包括；在基板的单面排列有多个发光元件的显示面板、以及权利要求1～16中的任一项所述的光学层叠体，
所述显示面板的排列有发光元件的面与所述光学层叠体的粘合剂层层叠。18.根据权利要求17所述的自发光型显示装置，其中，所述显示面板为在基板的单面排列有多个led芯片的led面板。

技术总结
本发明的目的在于，在提高了防反射功能和/或防眩光功能、对比度的Mini/Micro LED显示装置等自发光型显示装置的制造工序中削减工序数量、必要构件。本发明的光学层叠体(10)包括基材(1)、以及包含着色剂的粘合剂层(2)。基材(1)对其单面(1a)实施了防反射处理和/或防眩光处理(3)。防反射处理和/或防眩光处理(3)优选为防眩光层。本发明的光学层叠体(10)在基材(1)的未进行防反射处理和/或防眩光处理的一侧的面(1b)上层叠有粘合剂层(2)。理的一侧的面(1b)上层叠有粘合剂层(2)。理的一侧的面(1b)上层叠有粘合剂层(2)。


技术研发人员：真田加纱音 家原惠太 浅井量子 仲野武史
受保护的技术使用者：日东电工株式会社
技术研发日：2021.03.26
技术公布日：2022/11/18