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一种基于微结构的陶瓷材料的制备方法及其应用与流程

2022-12-20 00:39:16 来源:中国专利 TAG:

技术特征:
1.一种基于微结构的陶瓷材料的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:在陶瓷基体的表面加工微结构层,将隔热材料与加工完成的陶瓷基体连接,即得陶瓷材料;其中,所述微结构层由若干周期排列的凸台组成,所述凸台的底面与陶瓷基体连接;所述凸台的底面和顶面为同心正方形,顶面的正方形边长小于底面的正方形边长;所述凸台的横截面形状为梯形,所述梯形的下底边与陶瓷基体连接。2.根据权利要求1所述的一种基于微结构的陶瓷材料的制备方法,其特征在于,所述微结构层包括第一结构层,或者,所述微结构层包括第一结构层和第二结构层,所述第一结构层和第二结构层分别设置在陶瓷基体的两面;所述第一结构层由若干第一凸台组成,所述第二结构层由若干第二凸台组成。3.根据权利要求2所述的一种基于微结构的陶瓷材料的制备方法,其特征在于,所述第一凸台的高度h1为6.3~7.3mm,顶部正方形边长a1为3.4~3.8mm,底部正方形边长b1为5.3~6.3mm,周期p1为6.9~7.1mm。4.根据权利要求2所述的一种基于微结构的陶瓷材料的制备方法,其特征在于,所述第二凸台的高度h2为4.9~5.3mm,顶部正方形边长a2为3.1~4.1mm,底部正方形边长b2为4.9~5.1mm,周期p2为6.9~7.1mm。5.根据权利要求2所述的一种基于微结构的陶瓷材料的制备方法,其特征在于,所述第二凸台的底部与陶瓷基体之间设有倒角结构,所述倒角结构具有弧形开口,弧形开口的宽度为1~1.5mm。6.根据权利要求1所述的一种基于微结构的陶瓷材料的制备方法,其特征在于,所述陶瓷基体的介电常数为2.9~3.3,介电损耗角正切值不大于0.008,陶瓷基体的总厚度为16.1~26.5mm。7.根据权利要求2所述的一种基于微结构的陶瓷材料的制备方法,其特征在于,所述隔热材料与第一结构层连接,所述隔热材料的介电常数为1.1~1.4,介电损耗角正切值不大于0.008,隔热材料的厚度为4.8~5.2mm。8.根据权利要求1所述的一种基于微结构的陶瓷材料的制备方法,其特征在于,所述隔热材料通过粘结剂与陶瓷基体连接,所述粘结剂为磷酸二氢铝。9.一种基于权利要求1-8任一所述的基于微结构的陶瓷材料的制备方法制备得到的陶瓷材料,所述陶瓷材料在4~18ghz内透波率达到70%以上。10.一种由权利要求1-8任一所述的制备方法制备得到的陶瓷材料在宽频带天线罩中应用。

技术总结
一种基于微结构的陶瓷材料的制备方法及其应用,包括以下步骤:在陶瓷基体的表面加工微结构层,将隔热材料与加工完成的陶瓷基体连接,即得陶瓷材料;其中,所述微结构层由若干周期排列的凸台组成,所述凸台的底面与陶瓷基体连接;所述凸台的底面和顶面为同心正方形,顶面的正方形边长小于底面的正方形边长;所述凸台的横截面形状为梯形,所述梯形的下底边与陶瓷基体连接。所述陶瓷材料在4~18GHz内透波率可达到70%以上。可达到70%以上。可达到70%以上。


技术研发人员:张萍萍 王洪升 盖莹 韦其红 王永昊 朱保鑫 袁维军 李昌胜
受保护的技术使用者:山东工业陶瓷研究设计院有限公司
技术研发日:2022.08.15
技术公布日:2022/12/16
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