一种多规格晶片中心检测装置的制作方法

1.本发明涉及晶片检测领域，特别是一种多规格晶片中心检测装置。


背景技术：

2.晶片传输系统在光刻及其它半导体设备中应用广泛，作为检测晶片中心的装置，必须高效，可靠，精准。目前，现有的装置只能进行单一规格晶片的中心位置检测，但是对于科研实验用户，往往需要频繁更换不同规格尺寸的晶片进行产品研究，目前的光刻设备大多只针对单一规格晶片进行检测，无法满足“一机多用”的需要。由于光刻机价格昂贵，更换设备需要花费大量的资金和时间，会大大提高生产经营成本。


技术实现要素：

3.本发明的目的在于克服现有技术的不足，提供一种多规格晶片中心检测装置，以解决上述技术背景中所提出的问题。
4.本发明的目的是通过以下技术方案来实现的：
5.一种多规格晶片中心检测装置，包括对称设置的光源及信号采集单元、用于放置晶片的旋转台、表面反射镜片以及反射镜片，所述光源及信号采集单元发出的检测光束依次经表面反射镜片和反射镜片的反射后竖直投射在固定在旋转台的晶片边缘，反射镜片上设有高度调节机构，反射镜片通过高度调节机构的上下动作改变投射在晶片上的位置。
6.上述发明内容中，进一步的，所述高度调节机构包括调节板、固定架以及调节螺杆，反射镜片固定在所述调节板上，调节板上固定有滑块，所述滑块滑动连接有导轨，固定架设有螺孔，调节板上设有过孔，所述调节螺杆由下而上依次穿过调节板过孔和固定架上的螺孔并与固定架和调节板之间转动连接，且调节螺杆的螺头与调节板下表面抵接。
7.上述发明内容中，进一步的，所述调节板呈z字形结构，所述滑块固定在z字形调节板的一块翼板上，z字形调节板的另一块翼板上设有三棱块，反射镜片固定在所述三棱块的表面。
8.上述发明内容中，进一步的，所述调节板上设有压板，三棱块通过所述压板固定在z字形调节板的另一块翼板上。
9.上述发明内容中，进一步的，还包括支座和支撑板，表面反射镜片固定在所述支座上，所述支撑板用于固定安装支座。
10.上述发明内容中，进一步的，所述三棱块为直角三棱块，反射镜片固定在所述直角三棱块的两个直角面上，所述支座固定有表面反射镜片的一面与水平面之间的夹角为45
°
。
11.上述发明内容中，进一步的，所述固定板上设有容置腔，z字形调节板的一块翼板和滑块均置于所述容置腔内。
12.上述发明内容中，进一步的，所述旋转台上设有真空吸盘。
13.本发明的有益效果是：
14.本发明通过设置表面反射镜片以及反射镜片，可以将光源及信号采集单元发出的
检测光束投射在边缘，进而完成晶片中心位置检测，其次，本发明通过高度调节机构的上下动作可以改变反射镜片投射在晶片上的位置，从而可以实现不同尺寸规格晶片的边缘数据检测采集，达到“一机多用”的目的。
附图说明
15.图1为本发明的立体结构示意图；
16.图2为本发明的另一立体结构示意图；
17.图3为本发明平面结构示意图；
18.图4为本发明检测光路图。
19.图中，101-光源及信号采集单元，102-固定架，103-滑块，104-调节螺杆，105-导轨，106-调节板，107-压板，108-三棱块，109-表面反射镜片，110-支座，111-支撑板，112-反射镜片，113-晶片，114-旋转台，115-真空吸盘，116-容置腔。
具体实施方式
20.以下通过特定的具体实例说明本发明的实施方式，本领域技术人员可由本说明书所揭露的内容轻易地了解本发明的其他优点与功效。本发明还可以通过另外不同的具体实施方式加以实施或应用，本说明书中的各项细节也可以基于不同观点与应用，在没有背离本发明的精神下进行各种修饰或改变。需说明的是，在不冲突的情况下，以下实施例及实施例中的特征可以相互组合。
21.需要说明的是，以下实施例中所提供的图示仅以示意方式说明本发明的基本构想，遂图式中仅显示与本发明中有关的组件而非按照实际实施时的组件数目、形状及尺寸绘制，其实际实施时各组件的型态、数量及比例可为一种随意的改变，且其组件布局型态也可能更为复杂。
22.实施例：
23.一种多规格晶片中心检测装置，请参阅附图1-附图4所示，包括对称设置的光源及信号采集单元101、用于放置晶片113的旋转台114、表面反射镜片109以及反射镜片112，所述光源及信号采集单元101发出的检测光束依次经表面反射镜片109和反射镜片112的反射后竖直投射在固定在旋转台114的晶片113边缘，反射镜片112上设有高度调节机构，反射镜片112通过高度调节机构的上下动作改变投射在晶片113上的位置。
24.具体的，高度调节机构包括调节板106、固定架102以及调节螺杆104，反射镜片固定在所述调节板106上，调节板106上固定有滑块103，所述滑块103滑动连接有导轨105，调节板106和滑块103一起可沿着导轨105滑动，固定架102设有螺孔，调节板106上设有过孔，所述调节螺杆104由下而上依次穿过固定架102螺孔和调节板106上的过孔并与固定架102和调节板106之间转动连接，且调节螺杆104的螺头与调节板下表面抵接。
25.更具体的，调节板106呈z字形结构，所述滑块103固定在z字形调节板的一块翼板上，z字形调节板的另一块翼板上设有三棱块108，反射镜片112固定在所述三棱块108的表面，z字形调节板上还设有压板107，三棱块108通过所述压板107固定在z字形调节板的另一块翼板上，更优的，固定板102上设有容置腔116，z字形调节板106的一块翼板和滑块均置于所述容置腔116内。
26.工作原理：在发明在使用过程中，将光源及信号采集单元101、固定架102、导轨105、支撑板111皆固定在外设的框架上，检测晶片113时，将晶片放置在旋转台114上，作为优选，旋转台114上的上方可设置真空吸盘115，方便固定晶片113，启动光源及信号采集单元101，光源及信号采集单元101发出的检测光束通过表面反射镜片109反射到反射镜片112上，经过反射镜片112的再反射，竖直向下的光束投射到下面的待检测的晶片113上，拧动调节螺杆104，调节螺杆104在固定架102螺孔和调节板106上的过孔中转动，从而使调节板106和滑块103沿导轨105向上或向下滑动，进而带动反射镜片112向上或向下运动，通过上述操作，可以调整反射镜片112投射到晶片113上的光束的位置，使反射镜片112反射的光束投射到晶片113的边缘，在晶片113通过旋转台114带动旋转过程中，两侧的检测光束对晶片边缘进行检测，检测数据反馈给光源及信号采集单元101，检测数据经过光源及信号采集单元101采集、计算、处理后得出被检测晶片113中心位置坐标，完成晶片113中心位置检测，通过上述可以看出，在本发明中，通过转动高度调节机构的调节螺杆104，可以调整反射镜片112投射到晶片113的光束的位置，进而使得在检测不同尺寸的晶片113时，拧动调节螺杆104便可以使光源及信号采集单元101发出的光束投射到不同尺寸的晶片113边缘，进而完成不同尺寸晶片113的中心位置的检测。
27.上述实施例中，作为一个优选的实施例，检测装置还包括支座110和支撑板111，表面反射镜片109固定在所述支座110上，所述支撑板111用于固定安装支座110，更优的，三棱块108为直角三棱块，反射镜片112固定在所述直角三棱块108的两个直角面上，所述支座110固定有表面反射镜片109的一面与水平面之间的夹角为45
°
，在本实施例中，光源及信号采集单元101发出的竖直的检测光束，经表面反射镜片109发射为水平光线，在通过反射镜片112发射为竖直光线投射到晶片113边缘。
28.以上所述实施例仅表达了本发明的具体实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对本发明专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明的保护范围。