一种卷对卷纳米压印装备的制作方法

1.本发明涉及印刷技术领域，特别是涉及一种卷对卷纳米压印装备。


背景技术：

2.膜材的表面uv印刷工艺包括uv压印、uv涂布等多种，相对应地，有uv压印设备与uv涂布设备，印刷厂家根据工艺需求进行选择。但有些厂家生产需求不足，同时配置两种设备造成成本过高、生产设施的浪费以及固定资产的过大投入，降低了市场竞争力。并且，现有设备上胶方式单一，只设有一种上胶机构，采用微凹、狭缝、点胶三种上胶方式中的一种进行上胶，需要采用其它方式时需更换设备，同样也造成效率低、成本高、生产设施的浪费以及固定资产的过大投入，降低了市场竞争力。再者，现有设备制备得到的膜厚度不均一，尤其是膜的始段和末段，这样得到的产品质量参差不齐，良率较低。
3.前面的叙述在于提供一般的背景信息，并不一定构成现有技术。


技术实现要素：

4.本发明的目的在于提供一种支持uv压印、uv涂布两种工作方式的卷对卷纳米压印装备。
5.本发明提供一种卷对卷纳米压印装备，包括依序设置的放料单元、上胶单元、压印固化单元、收料单元，所述压印固化单元包括压印模块与固化模块，所述压印固化单元能通过调整穿膜方式来使设备在实现uv压印功能与实现uv涂布功能之间切换；实现uv压印功能时，膜从所述上胶单元经所述压印模块、所述固化模块至所述收料单元；实现uv涂布功能时，膜从所述上胶单元直接经所述固化模块至所述收料单元。
6.进一步地，所述压印模块包括依序设置的第一托辊、压印主机构、第二托辊，所述压印主机构位于所述第一托辊、第二托辊下方，使膜能从所述第一托辊跨过所述压印主机构直接至所述第二托辊。
7.进一步地，所述压印主机构包括一次固化装置与用于压印的模具版辊。
8.进一步地，所述一次固化装置为紫外光源，所述紫外光源为led灯或汞灯或无极灯。
9.进一步地，所述放料单元包括依序设置的放卷驱动机构、收保护膜机构、粘尘机构、放卷静电消除机构、放卷张力检测机构、材料等离子处理机构。
10.进一步地，所述上胶单元包括微凹涂布机构、狭缝涂布机构、点胶上胶机构，实现微凹、狭缝、点胶三种方式上胶。
11.进一步地，所述上胶单元还包括微凹/狭缝切换驱动机构，用以实现微凹涂布机构与狭缝涂布机构之间的切换。
12.进一步地，在所述微凹涂布机构与狭缝涂布机构后设有加热箱，用以对涂布后的膜进行溶剂挥发。
13.进一步地，所述固化模块包括二次固化装置，所述二次固化装置包括用于uv固化
的led灯和氮气保护装置。
14.进一步地，所述收料单元包含依序设置的覆保护膜机构、收卷静电消除机构、收卷张力检测机构、收料驱动机构。
15.本发明提供的卷对卷纳米压印装备通过压印固化单元能通过调整穿膜方式来使设备在实现uv压印功能与实现uv涂布功能之间切换，从而支持uv压印、uv涂布两种工作方式，解决了配置两种设备造成的成本过高、生产设施的浪费以及固定资产的过大投入等问题，成本低，能显著节约生产设施，降低固定资产投入，进而能显著提升企业市场竞争力。并且支持微凹、狭缝、点胶三种上胶方式，同一设备上可采用三种上胶方式，从而效率高、成本低，能显著节约生产设施，降低固定资产投入。再者，因为可采用微凹和狭缝方式上胶，故使用本发明卷对卷纳米压印装备制得的产品膜厚均一，精度高，良率高。
附图说明
16.图1为本发明实施例卷对卷纳米压印装备实现uv压印功能的示意图。
17.图2为图1所示卷对卷纳米压印装备实现uv涂布功能的示意图。
18.图3为图1所示卷对卷纳米压印装备中上胶单元采用微凹涂布方式时的示意图。
19.图4为图1所示卷对卷纳米压印装备中上胶单元采用狭缝涂布方式时的示意图。
具体实施方式
20.下面结合附图和实施例，对本发明的具体实施方式作进一步详细描述。以下实施例用于说明本发明，但不用来限制本发明的范围。
21.如图1、图2所示，本实施例中，卷对卷纳米压印装备包括依序设置的放料单元1、上胶单元2、压印固化单元3、收料单元4。
22.压印固化单元3包括压印模块31与固化模块32，压印固化单元3能通过调整穿膜方式来使设备在实现uv压印功能与实现uv涂布功能之间切换。具体而言，如图1所示，实现uv压印功能时，膜5从上胶单元2经压印模块31、固化模块32至收料单元4。如图2所示，实现uv涂布功能时，膜5从上胶单元2直接经固化模块32至收料单元4。
23.本实施例卷对卷纳米压印装备通过压印固化单元3能通过调整穿膜方式来使设备在实现uv压印功能与实现uv涂布功能之间切换，从而支持uv压印、uv涂布两种工作方式，解决了因生产需求不足时配置两种设备造成的成本过高、生产设施的浪费以及固定资产的过大投入等问题，能显著提升企业市场竞争力。
24.本实施例中，压印模块31包括依序设置的第一托辊311、压印主机构(未标示)、第二托辊312。压印主机构包括一次固化装置(一次固化装置为紫外光源313，紫外光源313可为led灯或汞灯或无极灯，本实施例中采用无极灯进行固化)与用于压印的模具版辊314。压印主机构位于第一托辊311、第二托辊下方312，使膜5能从第一托辊311跨过压印主机构直接至第二托辊312。
25.本实施例中，放料单元1包括依序设置的放卷驱动机构11(主要包括电机以及与电机相连的放料辊)、收保护膜机构12、粘尘机构13、放卷静电消除机构14、放卷张力检测机构15、材料等离子处理机构16。
26.上胶单元2包括微凹涂布机构21、狭缝涂布机构22、加热箱23、点胶上胶机构24，实
现微凹、狭缝、点胶三种方式上胶。加热箱23用以对涂布后的膜进行溶剂挥发。
27.本实施例中，上胶单元2还包括微凹/狭缝切换驱动机构(未图示)，用以实现微凹涂布机构21与狭缝涂布机构22之间的切换，使微凹涂布机构和狭缝涂布机构可二选一工作，支持两者的无缝切换。
28.微凹涂布机构与狭缝涂布机构的切换操作具体为：当涂布方式为微凹涂布时，上胶单元2的结构如图3所示，膜经过下方的微凹涂布机构21，狭缝涂布机构22不工作，狭缝涂布头与膜表面垂直或形成夹角；当涂布方式为狭缝涂布时，上胶单元2的结构如图4所示，导向辊210抬起，膜不经过下方的微凹涂布机构21，狭缝涂布机构22工作。
29.本实施例中，固化模块32包括二次固化装置，二次固化装置包括用于uv固化的led灯和氮气保护装置，氮气保护装置用以在固化时提供氮气保护，提高产品的耐折性能。根据工艺要求，可以只采用二次固化装置进行一次固化，或者在采用一次固化装置一次固化后再采用led灯和氮气保护装置进行二次固化，以进一步提高材料性能。
30.本实施例中，收料单元4包含依序设置的覆保护膜机构41、收卷静电消除机构42、收卷张力检测机构43、收料驱动机构44(主要包括电机以及与电机相连的收料辊)。
31.本实施例卷对卷纳米压印装备操作时，首先将筒状卷积待压印材料(即膜5)设置于放卷驱动机构11的放料辊上，膜5的开放端经过中间元件，最终缠绕在收料驱动机构44的收料辊上，然后放卷驱动机构11与收料驱动机构44以相同速度转动该放料辊和收料辊，使膜5沿规定路线传输。
32.在放料单元1，膜5从放卷驱动机构11出来后，经过收保护膜机构12回收贴附于膜5表面的保护膜，经过粘尘机构13对膜5进行粘尘清洁，经过放卷静电消除机构14消除膜5上的静电，经过放卷张力检测机构15检测膜5的张力，经过材料等离子处理机构16对膜5进行等离子处理，增加膜5表面附着力，最后传往上胶单元2。
33.在上胶单元2，根据设计要求，选择使用微凹涂布机构21、狭缝涂布机构22或点胶上胶机构24对膜5采用微凹、狭缝或点胶方式进行上胶处理。根据工艺要求，膜5可在加热箱23中受热，将涂布后的膜5上的溶剂挥发。
34.在压印固化单元3，实现uv压印功能时，膜5从上胶单元2经压印模块31、固化模块32至收料单元4(如图1)，在该单元进行压印和固化；实现uv涂布功能时，膜5从上胶单元2直接经固化模块32至收料单元4(如图2)，在该单元只进行固化。
35.在收料单元4，膜5经过覆保护膜机构41在膜5上贴覆保护膜，经过收卷静电消除机构42清除膜5上所带的静电，经过收卷张力检测机构43检测膜5的张力量，最后到达收料驱动机构44。
36.在附图中，为了清晰起见，会夸大层和区域的尺寸和相对尺寸。应当理解的是，当元件例如层、区域或基板被称作“形成在”、“设置在”或“位于”另一元件上时，该元件可以直接设置在所述另一元件上，或者也可以存在中间元件。相反，当元件被称作“直接形成在”或“直接设置在”另一元件上时，不存在中间元件。
37.在本文中，用于描述元件的序列形容词“第一”、“第二”等仅仅是为了区别属性类似的元件，并不意味着这样描述的元件必须依照给定的顺序，或者时间、空间、等级或其它的限制。
38.在本文中，除非另有说明，“多个”、“若干”的含义是两个或两个以上。
39.以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。
40.在本文中，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，除了包含所列的那些要素，而且还可包含没有明确列出的其他要素。
41.以上所述，仅为本发明的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此，本发明的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。