一种单晶硅片清洗装置的制作方法

技术特征：
1.一种单晶硅片清洗装置，其特征在于：包括清洗座（4），所述清洗座（4）上开设若干个功能槽，所述功能槽包括若干个连续设置的纯水清洗槽，所述若干个纯水清洗槽的顶部均设置开口，若干个纯水清洗槽的顶部高度依次升高，顶部最高的纯水清洗槽的一侧设置用于不间断进水的进水口（4101），顶部最低的纯水清洗槽的一侧设置出水口（4071）。2.根据权利要求1所述的一种单晶硅片清洗装置，其特征在于：所述纯水清洗槽包括第一纯水清洗槽（407）、第二纯水清洗槽（408）、第三纯水清洗槽（409）和第四纯水清洗槽（410），所述第四纯水清洗槽（410）的顶部高于第三纯水清洗槽（409）的顶部，所述第三纯水清洗槽（409）的顶部高于第二纯水清洗槽（408）的顶部，第二纯水清洗槽（408）的顶部高于第一纯水清洗槽（407）的顶部。3.根据权利要求2所述的一种单晶硅片清洗装置，其特征在于：所述第四纯水清洗槽（410）靠近第三纯水清洗槽（409）的侧壁开设第四溢流口（4102）。4.根据权利要求2所述的一种单晶硅片清洗装置，其特征在于：所述第三纯水清洗槽（409）靠近第二纯水清洗槽（408）的侧壁开设第三溢流口（4091）。5.根据权利要求2所述的一种单晶硅片清洗装置，其特征在于：所述第二纯水清洗槽（408）靠近第一纯水清洗槽（407）的侧壁开设第二溢流口（4081）。6.根据权利要求1所述的一种单晶硅片清洗装置，其特征在于：所述清洗座（4）的前后两侧固定设置与若干个纯水清洗槽位置相对应的导向板（401）。7.根据权利要求1所述的一种单晶硅片清洗装置，其特征在于：所述进水口（4101）通过管道与用于加温水的加热器（3）相通。8.根据权利要求1所述的一种单晶硅片清洗装置，其特征在于：所述清洗装置还包括转运装置，所述转运装置包括行走架（1），所述行走架（1）的底面滑动设置用于吸取和放置单晶硅片的抓取杆（2）。

技术总结
本实用新型公开了一种单晶硅片清洗装置，包括清洗座，清洗座上开设若干个功能槽，功能槽包括若干个连续设置的纯水清洗槽，若干个纯水清洗槽的顶部均设置开口，若干个纯水清洗槽的顶部高度依次升高，顶部最高的纯水清洗槽的一侧设置用于不间断进水的进水口，顶部最低的纯水清洗槽的一侧设置出水口。本实用新型的目的是提供一种清洗花篮印效果好、节能效果更好的单晶硅片清洗装置。的单晶硅片清洗装置。的单晶硅片清洗装置。


技术研发人员：李文
受保护的技术使用者：阜宁协鑫光伏科技有限公司
技术研发日：2022.08.16
技术公布日：2022/12/9