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用于单晶炉副炉室的清洗装置的制作方法

2022-12-10 07:53:08 来源:中国专利 TAG:


1.本技术涉及单晶炉技术领域,特别是涉及一种用于单晶炉副炉室的清洗装置。


背景技术:

2.单晶硅行业为生产出长度更长的单晶硅棒,提高产能,降低生产成本,通常会在副炉室上设置延伸段,以增加副炉室整体的长度,更大限度增加拉晶长度。
3.然而,随着副炉室延伸段的增加,也附带来其他一些问题,例如,由于单晶炉的副炉室延伸段与副炉室本体在直径和高度上均存在一定差异,在对单晶炉进行清洗时,通常会采用两种高度和直径不同的副室清理工具进行清洗,具体而言则是,先用一种清理工具对副炉室的延伸段进行清洗,延伸段清洗完成后再更换另一种清理工具对副炉室的本体进行清洗,在此期间,工作人员不仅要更换清洗工具,而且要重复清洗动作,清洗效率低,工作人员的劳动强度大。


技术实现要素:

4.基于此,本实用新型提供了一种用于单晶炉副炉室的清洗装置,能同时对清洗副炉室延伸段和副炉室本体进行清洗,解决了现有技术清洗单晶炉副炉室时需要更换清洗工具、重复清洗动作而导致的清洗效率,劳动强度大的问题。
5.为了达到上述目的,本实用新型的技术方案如下:
6.用于单晶炉副炉室的清洗装置,所述副炉室包括副炉室本体及同轴设置于所述副炉室本体上端的副炉室延伸段,所述清洗装置包括:
7.第一清洗部,与所述副炉室延伸段的内壁适配,所述第一清洗部沿所述副炉室延伸段的轴线方向移动以清洁所述副炉室延伸段的内壁;
8.第二清洗部,与所述副炉室本体的内壁适配,所述第二清洗部沿所述副炉室本体的轴线方向移动以清洁所述副炉室本体的内壁;
9.支撑杆,所述第一清洗部和所述第二清洗部沿轴线方向间隔设置在所述支撑杆上,所述支撑杆被配置为对所述第一清洗部和所述第二清洗部进行驱使以分别对所述副炉室延伸段和所述副炉室本体进行同时清洁。
10.在其中一个实施例中,所述第一清洗部包括第一架体及第一清洗件,所述第一清洗件包覆于所述第一架体用于清洗的部分;
11.所述第二清洗部包括第二架体及第二清洗件,所述第二清洗件包覆于所述第二架体用于清洗的部分。
12.在其中一个实施例中,所述第一清洗件和所述第二清洗件均为无尘布。
13.在其中一个实施例中,所述第一架体和所述第二架体均为圆环状架体,所述第一清洗件和所述第二清洗件分别包覆在所述第一架体和所述第二架体的外周面上。
14.在其中一个实施例中,所述第一架体上设置有第一连接部,所述第二架体上设置有第二连接部,所述第一架体和所述第二架体分别通过所述第一连接部和所述第二连接部
与所述支撑杆固定连接。
15.在其中一个实施例中,所述第一连接部包括由所述第一架体内侧壁的一部分向圆心方向延伸的第一凸起,所述第一凸起上设置有与所述支撑杆适配的第一通孔;
16.所述第二连接部包括由所述第二架体内侧壁的一部分向圆心方向延伸的第二凸起,所述第二凸起上设置有与所述支撑杆适配的第二通孔;
17.所述支撑杆依次穿过所述第二通孔和所述第一通孔并通过紧固件固定。
18.在其中一个实施例中,所述第一架体和所述第二架体同轴设置,且所述第一通孔和所述第二通孔到该轴线的距离相等。
19.在其中一个实施例中,所述支撑杆与所述第一架体之间还设置有倾斜延伸的至少一个第一加强杆,所述第一加强杆的下端与所述支撑杆固定连接,所述第一加强杆的上端与所述第一架体固定相连;
20.所述支撑杆与所述第二架体之间还设置有倾斜延伸的至少一个第二加强杆,所述第二加强杆的下端与所述支撑杆固定连接,所述第二加强杆的上端与所述第二架体固定相连。
21.在其中一个实施例中,所述第一加强杆的上端与所述第一架体的连接处与所述第一架体上设置所述第一连接部的位置沿所述第一架体的周向均匀分布;
22.所述第二加强杆的上端与所述第二架体的连接处与所述第二架体上设置所述第二连接部的位置沿所述第二架体的周向均匀分布。
23.在其中一个实施例中,所述第一清洗部与所述第二清洗部之间的距离大于或等于所述副炉室延伸段的长度。
24.本方案的有益效果:
25.本装置第一清洗部与副炉室延伸段的内壁适配,使第一清洗部与副炉室延伸段的内壁充分接触,第二清洗部与副炉室本体的内壁适配,使第二清洗部与副炉室本体的内壁充分接触,进而支撑杆驱使第一清洗部和第二清洗部沿副炉室的轴线往复移动时可同时清洗副炉室延伸段和副炉室本体。
26.本装置将原有的两套清理工具合并成一套清理工具,能同时对清洗副炉室延伸段和副炉室本体进行清洗,一步到位,方便了工作人员的操作,省时省力,能够快速有效的精准清理,提高工作效率。
附图说明
27.图1为本实用新型用于单晶炉副炉室的清洗装置一实施例的示意图;
28.图2为图1的主视图;
29.图3为图1的俯视图;
30.图4为本实用新型用于单晶炉副炉室的清洗装置一实施例中第一架体的示意图;
31.图5为本实用新型用于单晶炉副炉室的清洗装置一实施例中第二架体的示意图。
32.说明书附图中的附图标记包括:10-支撑杆、20-第一清洗部、201-第一架体、202-第一清洗件、21-第一连接部、210-第一通孔、22-第一加强杆、30-第二清洗部、301-第二架体、302-第二清洗件、31-第二连接部、310-第二通孔、32-第二加强杆。
具体实施方式
33.为了使本技术的目的、技术方案及优点更加清楚明白,以下结合附图及实施例,对本技术进行进一步详细说明。应当理解,此处描述的具体实施例仅仅用以解释本技术,并不用于限定本技术。
34.需要说明的是,本实施例中所提供的图示仅以示意方式说明本实用新型的基本构想,遂图式中仅显示与本实用新型中有关的组件而非按照实际实施时的组件数目、形状及尺寸绘制,其实际实施时各组件的型态、数量及比例可为一种随意的改变,且其组件布局型态也可能更为复杂。
35.本说明书所附图式所绘示的结构、比例、大小等,均仅用以配合说明书所揭示的内容,以供熟悉此技术的人士了解与阅读,并非用以限定本实用新型可实施的限定条件,故不具技术上的实质意义,任何结构的修饰、比例关系的改变或大小的调整,在不影响本实用新型所能产生的功效及所能达成的目的下,均应仍落在本实用新型所揭示的技术内容得能涵盖的范围内。
36.本说明书中所引用的如“上”、“下”、“左”、“右”、“中间”、“纵向”、“横向”、“水平”、“内”、“外”、“径向”、“周向”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,亦仅为了便于简化叙述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本实用新型的限制。此外,术语“第一”、“第二”仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性。
37.本公开至少一实施例提供的清洗装置,用于单晶炉副炉室的清洗,其中,单晶炉的副炉室包括副炉室本体及设置于副炉室本体上端的副炉室延伸段,且所述副炉室本体与所述副炉室延伸段同轴设置,即本公开的清洗装置主要用于对副炉室本体和副炉室延伸段进行清洗。
38.具体地,本公开的清洗装置包括第一清洗部、第二清洗部以及支撑杆。
39.其中,第一清洗部与副炉室延伸段的内壁适配,第一清洗部沿副炉室延伸段的轴线方向移动以清洁副炉室延伸段的内壁。
40.第二清洗部与副炉室本体的内壁适配,第二清洗部沿副炉室本体的轴线方向移动以清洁副炉室本体的内壁。
41.第一清洗部和第二清洗部沿轴线方向间隔设置在支撑杆上,支撑杆被配置为对第一清洗部和第二清洗部进行驱使以分别对副炉室延伸段和副炉室本体进行同时清洁。
42.本装置在同一支撑杆上间隔设置第一清洗部和第二清洗部,使第一清洗部伸入副炉室延伸段中时第二清洗部刚好位于副炉室本体中。而第一清洗部与副炉室延伸段的内壁适配,使第一清洗部与副炉室延伸段的内壁充分接触,第二清洗部与副炉室本体的内壁适配,使第二清洗部与副炉室本体的内壁充分接触,基于此,支撑杆驱使第一清洗部和第二清洗部沿副炉室的轴线往复移动时可同时清洗副炉室延伸段和副炉室本体。
43.本装置将原有的两套清理工具合并成一套清理工具,能同时对清洗副炉室延伸段和副炉室本体进行清洗,一步到位,方便了工作人员的操作,省时省力,能够快速有效的精准清理,提高工作效率。
44.下面,结合附图对本公开实施例提供的用于单晶炉副炉室的清洗装置进行详细的说明。
45.图1和图2为本公开一实施例提供的清洗装置的示意图。如图2所示,清洗装置包括一支撑杆10以及间隔设置在支撑杆10上的第一清洗部20和第二清洗部30,其中,第一清洗部20用于清洗副炉室延伸段,第二清洗部30用于清洗副炉室本体。
46.需要说明的是,由于副炉室延伸段通常设置于副炉室本体的上端并向上延伸,因此,本实施例中将由第一清洗部20指向第二清洗部30的方向定义为向下,将由第二清洗部30指向第一清洗部20的方向定义为向上,以便于理解本装置中各零部件的相对位置关系,例如,第一清洗部20位于第二清洗部30的上方。
47.其中,在本示例中,第一清洗部20与副炉室延伸段的内壁适配是指第一清洗部20置于副炉室延伸段中时第一清洗部20能够与副炉室延伸段的内壁充分接触,即第一清洗部20的外轮廓与副炉室延伸段的内轮廓刚好完全契合。例如,副炉室延伸段内部通孔横截面为圆,那么第一清洗部20整体可以为外径与该通孔直径适配的圆形结构;副炉室延伸段内部通孔横截面为矩形,那么第一清洗部20整体可以为与该通孔适配的矩形结构。该种结构设计下,第一清洗部20沿副炉室延伸段的轴线方向移动时可清洁副炉室延伸段的内壁,达到清洗副炉室的目的。
48.更进一步地,在本示例中,第一清洗部20与副炉室延伸段的内壁为全接触,全接触是指第一清洗部20的外轮廓与副炉室延伸段的内壁完全接触,通过该种方式,第一清洗部20在副炉室延伸段的内壁上滑移时,可以对副炉室延伸段的内壁进行全面清洁,避免漏刮现象,保障清洁效果。
49.同理,在本实施例中,第二清洗部30与副炉室本体的内壁适配是指第二清洗部30置于副炉室本体中时第二清洗部30能够与副炉室本体的内壁充分接触。而第二清洗部30与副炉室本体的内壁之间的配合可以参考第一清洗部20与副炉室延伸段的内壁之间的配合,此处不再赘述。
50.参见图2,在一示例中,第一清洗部20包括第一架体201及第一清洗件202,第一清洗件202包覆于第一架体201用于清洗的部分;第二清洗部30包括第二架体301及第二清洗件302,第二清洗件302包覆于第二架体301用于清洗的部分。
51.参见图4和图5,在本示例中,第一架体201和第二架体301为支撑骨架,其主要作用为形成与副炉室延伸段和副炉室本体内孔相适配的形状,使包覆在架体上的清洗件能够较好的与副炉室延伸段和副炉室本体的内壁形成接触。例如,副炉室延伸段和副炉室本体的内孔均为圆柱状,则第一架体201和第二架体301均为圆形结构,例如圆盘、圆柱或者圆环等。
52.其中,第一架体201用于清洗的部分是指第一架体201置于副炉室延伸段中时朝向副炉室延伸段内壁的一侧,即第一架体201的外周面;同理,第二架体301用于清洗的部分则是指第二架体301的外周面。第一清洗件202和第二清洗件302分别包覆在第一架体201和第二架体301的外周面上后,清洗件会沿架体的外周面围成与副炉室延伸段和副炉室本体内孔匹配的形状,进而使清洗件能够与副炉室延伸段和副炉室本体的内壁充分接触。
53.参见图1和图2,在一具体示例中,第一架体201和第二架体301均为圆环状架体,第一清洗件202和第二清洗件302分别包覆在第一架体201和第二架体301的外周面上。其中,圆环状架体相比于圆盘和圆柱结构而言,其具有质量小,制作成本低的优点,而且中部的通孔可以使杂质下落,能够及时取出杂质,保障清洗效果。
54.在本示例中,第一架体201和第二架体301均采用pvc材质制成,使第一架体201和第二架体301的自重更小,使工作人员能轻易的驱使第一清洗部20和第二清洗部30同时移动,易于操作,降低人工劳动强度。
55.在本示例中,第一清洗件202和第二清洗件302均为清洁能力较强的物件,例如,纤维纸、无尘布、海绵等,本示例中优选为无尘布,使用时,可以在第一清洗件202和第二清洗件302上喷洒或者浸入酒精等清洁溶剂,加强清洁能力。
56.在本示例中,第一清洗件202和第二清洗件302可以通过卡扣配合或者缠绕的方式设置在架体上,既能保证其运行稳定性,还能在必要时进行拆卸更换。本实用新型对第一清洗件202和第二清洗件302的设置方式不具体限定。
57.参见图1,在一示例中,第一架体201上设置有第一连接部21,第二架体301上设置有第二连接部31,第一架体201和第二架体301分别通过第一连接部21和第二连接部31与支撑杆10固定连接。
58.在本示例中,第一连接部21和第二连接部31主要用于为支撑杆10提供安装部位,以实现第一架体201和第二架体301与支撑杆10之间的安装配合。其中,第一连接部21和第二连接部31与支撑杆10的固定连接可以为焊接、铆接、螺栓连接等。而在本示例中,优选采用螺栓连接、卡扣连接等可拆卸固定的连接方式,以使得支撑杆10可以与第一架体201、第二架体301拆分,从而便于第一清洗部20、第二清洗部30与支撑杆10的分体储存,同时也可在必要时对第一清洗部20、第二清洗部30、支撑杆10进行更换,或者对第一清洗部20、第二清洗部30的位置进行调节,使装置的适配性更好。
59.参见图1,在一具体示例中,第一连接部21包括由第一架体201内侧壁的一部分向圆心方向延伸形成的第一凸起,第一凸起上设置有与支撑杆10适配的第一通孔210;第二连接部31包括由第二架体301内侧壁的一部分向圆心方向延伸形成的第二凸起,第二凸起上设置有与支撑杆10适配的第二通孔310;支撑杆10依次穿过第二通孔310和第一通孔210并通过紧固件固定。
60.参见图1,本示例中,在上述结构设计下,使得第一连接部21和第二连接部31均位于在架体的内侧,进而使支撑杆10的安装不会对架体用于清洗的外周面造成干涉,确保了装置的可靠性。
61.应当理解,在本示例中,第一凸起和第二凸起的横截面积只需满足大于支撑杆10的横截面积即可,该种设计方式既能满足凸起上能够有足够面积设置通孔用以安装支撑杆10,又可以尽量减小第一凸起和第二凸起的体积以减轻装置整体的重量,便于操作。
62.参见图1,在本示例中,第一架体201和第二架体301与支撑杆10主要通过紧固件进行固定。例如,紧固件可以为螺钉,第一凸起和第二凸起侧壁上分别开设多个与第一通孔和第二通孔连通的穿孔,支撑杆10上也对应设置有多个螺纹孔,安装时将螺钉穿过穿孔后再与螺纹孔进行螺纹配合,即可实现第一架体201和第二架体301与支撑杆10的固定。在其他实施方式中,还可以采用销轴连接、卡扣连接等连接方式。
63.在本示例中,第一清洗部20与第二清洗部30之间的距离大于或等于副炉室延伸段的长度。如此设置,使第一清洗部20可移动的距离大于或等于副炉室延伸段的长度,即,当第二清洗部30抵住副炉室延伸段的底部时第一清洗部20上端会平齐或超出副炉室延伸段的上端,使第一清洗部20至少能够由上至下全面的对副炉室延伸段的内壁进行清洗。在实
际使用时,针对不同长度的副炉室,可以对第一清洗部20与第二清洗部30之间的距离进行调节,使两者之间的距离大于或等于副炉室延伸段的长度,确保清洗效果。
64.另外,值得说明的是,本装置还需满足:在清洗时第一清洗部20与副炉室延伸段同轴心设置,且第二清洗部30与副炉室本体同轴心设置,如此才能使第一清洗部20和第二清洗部30上下滑移时对副炉室延伸段和副炉室本体的内壁同时进行清洁。目前由于常规设计的副炉室延伸段和副炉室本体是同轴心设置的,因此本示例只需要保证第一清洗部20和第二清洗部30同轴心即可。基于此,参见图1和图3,在本示例中,所述第一架体201和所述第二架体301同轴设置,且第一通孔210和第二通孔310到其共同轴线的距离相同,如此,可以使得穿过第一通孔210和第二通孔310的支撑杆10为直线,这样更利于操控支撑杆10对副炉室本体和副炉室延伸段进行清洗。
65.参见图1,在一示例中,支撑杆10与第一架体201和第二架体301之间还设置有加强结构,以提升第一架体201和第二架体301的稳固性,确保装置的可靠性。
66.具体地,参见图1,在本示例中,支撑杆10与第一架体201之间设置有倾斜延伸的至少一个第一加强杆22,第一加强杆22的下端与支撑杆10固定连接,第一加强杆22的上端与第一架体201固定相连;支撑杆10与第二架体301之间设置有倾斜延伸的至少一个第二加强杆32,第二加强杆32的下端与支撑杆10固定连接,第二加强杆32的上端与第二架体301固定相连。
67.其中,第一加强杆22和第二加强杆32分别用于为第一架体201和第二架体301提供支撑,其增加了第一架体201和第二架体301与支撑杆10之间的受力支撑点,提升了装置的稳定性,在清理作业时,第一架体201和第二架体301不易摆动、耗损,操作性好。
68.参见图1,在本示例中,所述第一加强杆22的上端与所述第一架体201的连接处与所述第一架体201上设置所述第一连接部21的位置沿所述第一架体201的周向均匀分布;所述第二加强杆32的上端与所述第二架体301的连接处与所述第二架体301上设置所述第二连接部31的位置沿所述第二架体301的周向均匀分布。
69.例如,第一加强杆22上端与第一架体201的连接处形成第一支撑点,支撑杆10与第一架体201的连接处形成第二支撑点,第一支撑点和第二支撑点沿第一架体201周向均匀分布;第二加强杆32上端与第二架体301的连接处形成第三支撑点,支撑杆10与第二架体301的连接处形成第四支撑点,第三支撑点和第四支撑点沿第二架体301周向均匀分布。周向均匀分布的支撑点可以使架体受到的支撑力更加均匀,有利于第一架体201和第二架体301的稳定性。
70.需要说明的是,在本示例中,对第一加强杆22和第二加强杆32的数量不做限定,其可以是一根、两根、三根或者四根等。例如,第一加强杆22数量为一根时,第一加强杆22相对支撑杆10设置,第一支撑点和第二支撑点相对于的位于第一架体201的两侧,使第一加强杆22和支撑杆10从两侧对第一架体201形成支撑。
71.在本示例中,优选第一加强杆22和第二加强杆32的数量为两根,图1示例性的展示了第一加强杆22和第二加强杆32的数量为两根的实施方式。下面以第一加强杆22数量为两根为例对其位置关系和效果进行阐述。
72.参见图1,第一加强杆22数量为两根时,两根第一加强杆22相对于支撑杆10对称设置,且两个第一加强杆22对第一架体201形成的两个第一支撑点与支撑杆10对第一架体201
形成的第二支撑点周向均匀分布在第一架体201上,该种结构设计下,两个第一加强杆22与支撑杆10构建稳固的三角结构,使其为第一架体201提供了更加稳定的支撑。
73.另外,为了保障装置整体的强度,在一示例中,第一加强杆22、第二加强杆32和支撑杆10均可以选用不锈钢材质制备。当然,为了减轻装置整体的自重,降低人工的劳动强度,第一加强杆22、第二加强杆32和支撑杆10可以采用不锈钢管制备。
74.参见图1,在本示例中,第一加强杆22上端与第一架体201之间可以采用螺钉进行固定,第一加强杆22下端与支撑杆10之间也可以采用螺钉进行固定,该种连接方式,使第一加强杆22具有可拆卸性,便于调整在支撑杆10上的位置。第二加强杆32与第二架体301、支撑杆10的连接方式可以参照第一加强杆22与第一架体201、支撑杆10的连接方式,此处不再赘述。
75.本公开实施例提供的清洗装置的实施原理描述如下:
76.先将蘸有酒精的无尘布分别缠绕在第一架体201和第二架体301的外周面上,然后将清洗装置整体由下至上伸入副炉室中,然后继续将清洗装置向上移动直到第一清洗部20伸入副炉室延伸段中,此时,第一架体201上的无尘布与副炉室延伸段的内壁充分接触,第二架体301上的无尘布与副炉室本体的内壁充分接触,然后再通过支撑杆10驱使第一清洗部20和第二清洗部30上下滑移进行反复擦拭,对副炉室延伸段和副炉室本体进行清理,清洗完成后取出装置,再取下无尘布即可。
77.以上详细描述了本实用新型的较佳具体实施例。应理解以上实施例的各技术特征可以进行任意的组合,为使描述简洁,未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述,然而,只要这些技术特征的组合不存在矛盾,都应当认为是本说明书记载的范围。
78.以上所述实施例仅表达了本技术的几种实施方式,其描述较为具体和详细,但并不能因此而理解为对实用新型专利范围的限制。应当指出的是,对于本领域的普通技术人员来说,在不脱离本技术构思的前提下,还可以做出若干变形和改进,这些都属于本技术的保护范围。因此,本技术专利的保护范围应以所附权利要求为准。
再多了解一些

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