大口径基板表面光刻胶膜均匀烘烤设备

技术特征：
1.一种大口径基板表面光刻胶膜均匀烘烤设备，其特征在于，包括：烘烤系统，用于以风流循环加热方式实现对基板的烘烤，以及容纳基板升降装置；基板水平移动部件，用于固定所述的基板，并可移动至所述的基板升降装置上，并具有倾斜角度调节功能，使基板在烘烤时处于倾斜状态，实现流场的均匀分布；导流装置，设置于所述基板前方，前部呈子弹头或三角状，用于减少所述基板的边缘风阻；基板升降装置，设置于所述烘烤系统的下方，当承接所述基板水平移动部件后，可自动上升，使所述的烘烤系统的上部形成密闭的烘烤腔；控制系统，用于控制所述的基板水平移动部件的水平移动、基板升降装置的上下移动和所述烘烤系统的启动和关闭。2.根据权利要求1所述的大口径基板表面光刻胶膜均匀烘烤设备，其特征在于，所述的基板水平移动部件，包括转运小车(2)、传动轴(16)、传动电机(17)、支撑条(22)、支撑结构(23)、定位器(25)、传动螺杆(26)、旋转支杆(27)、支撑结构升降杆(28)和供所述转运小车(2)移动的导轨(31)；所述的导流装置，包括导流板(18)和导流板支撑块(19)；所述的传动轴(16)和传动电机(17)设置于所述的转运小车(2)的下方，所述的传动电机(17)通过传动轴(16)将动力作用于传动螺杆(26)，实现所述的转运小车(2)的水平移动；所述的支撑结构(23)放置在所述的转运小车(2)上，该支撑结构(23)的前端经所述的旋转支杆(27)与所述的转运小车(2)固定连接，该支撑结构(23)的后端经所述的支撑结构升降杆(28)与所述的转运小车(2)连接，当所述的支撑结构升降杆(28)升降时，以所述的旋转支杆(27)为中心，可实现所述的支撑结构(23)的小角度倾斜；在所述的支撑结构(23)上设置有用于固定所述导流板(18)的导流板支撑块(19)，以及用于固定所述基板的支撑条(22)。3.根据权利要求2所述的大口径基板表面光刻胶膜均匀烘烤设备，其特征在于，所述的导流板(18)紧邻所述的基板(20)的前侧面，所述的导流板(18)的高度与所述的基板(20)的厚度一致。4.根据权利要求2所述的大口径基板表面光刻胶膜均匀烘烤设备，其特征在于，所述的支撑条(22)通过螺钉固定在所述的支撑结构(23)的上表面。5.根据权利要求2或4所述的大口径基板表面光刻胶膜均匀烘烤设备，其特征在于，所述的支撑条(22)上表面的面积小于所述的基板(20)下表面的面积。6.根据权利要求2或4所述的大口径基板表面光刻胶膜均匀烘烤设备，其特征在于，在所述的支撑条(22)和基板(20)之间还设有聚四氟乙烯板(21)，用于防止支撑条(22)刮伤所述的基板(20)。7.根据权利要求2所述的大口径基板表面光刻胶膜均匀烘烤设备，其特征在于，在所述的转运小车(2)的尾部还设有把手(24)，用于实现手动推动转运小车(2)水平传动。8.根据权利要求1所述的大口径基板表面光刻胶膜均匀烘烤设备，其特征在于，所述的基板升降装置采用机械螺杆顶升平台结构或者采用气动式、气动和机械结合方式。9.根据权利要求1所述的大口径基板表面光刻胶膜均匀烘烤设备，其特征在于，所述的烘烤系统分为上下两部分，上部分由支架和外壳包裹而形成的下开口的烘烤腔室(8)，用于
基板的烘烤，下部分由支架组成，用于容纳所述的基板升降装置和基板水平移动部件；所述的烘烤腔室(8)的一侧为进风端面(11)，另一侧为有回风端面(12)，二者之间形成循环风道(13)，所述的烘烤腔室(8)的顶部安装有循环风机(5)、加热元件(6)和过滤器(7)，所述的循环风机(5)的扇叶处于所述的循环风道(13)中，为所述的烘烤腔室(8)提供气流循环动力，所述的加热元件(6)的发热丝处于所述的循环风道(13)中，为所述的烘烤腔室(8)提供气流加热源，所述的过滤器(7)处于所述的循环风道(12)中，且位于所述的进风端面(11)前方，用于对经该进风端口(11)的循环气流进行过滤，确保所述烘烤腔室(8)的百级洁净度。10.根据权利要求9所述的大口径基板表面光刻胶膜均匀烘烤设备，其特征在于，所述的进风端面(11)和回风端面(12)由均匀分布的通风孔(33)构成，每个通风孔(33)上设有挡片(32)，通过调节所述的挡片(32)，可以控制各通风孔(33)风速大小，从而调控所述的烘烤腔室(8)中整体气流的送风量和送风的分布形态，实现提升所述的烘烤腔室(8)温度均匀。11.根据权利要求9或10所述的大口径基板表面光刻胶膜均匀烘烤设备，其特征在于，在所述的过滤器(7)和进风端面(11)之间还设有风向导流片(10)，该风向导流片(10)的口径与所述进风端面(11)的口径一致，用于调节循环气流进入所述的烘烤腔室(8)的方向。12.根据权利要求9或10所述的大口径基板表面光刻胶膜均匀烘烤设备，其特征在于，所述的烘烤腔室(8)的下开口底部设有腔室密封圈(9)；当所述基板升降装置承接所述基板水平移动部件，自动上升后，所述的基板水平移动部件的支撑结构(23)上表面与所述的腔室密封圈(9)贴合，构成所述的烘烤腔室(8)的底面，使所述的烘烤腔室(8)内部处于封闭状态。13.根据权利要求12所述的大口径基板表面光刻胶膜均匀烘烤设备，其特征在于，当烘烤腔室(8)处于封闭状态时，所述的基板(20)上表面的高度位于所述的烘烤腔室(8)高度的1/2处。14.根据权利要求9或10所述的大口径基板表面光刻胶膜均匀烘烤设备，其特征在于，在所述的烘烤腔室(8)的外壳上分别设有保护气体输入端口(14)和排气端口(15)，所述输入端口(14)和排气端口(15)与所述循环风道(13)相连，用于保护基板表面膜层材料。15.根据权利要求9或10所述的大口径基板表面光刻胶膜均匀烘烤设备，其特征在于，在所述的烘烤系统的下部分支架上设有光电开关(30)，在所述转运小车(2)的底部设有定位器(25)；当所述的基板升降装置带动所述的基板水平移动部件向下移动，到达一定高度时，所述的基板水平移动部件触碰到所述的光电开关(30)，则所述的基板水平移动部件停止下降，转为水平移动，移出所述的烘烤系统。16.根据权利要求9或10所述的大口径基板表面光刻胶膜均匀烘烤设备，其特征在于，通过所述控制系统控制所述的烘烤腔室(8)内温度范围为20℃～200℃，温度均匀性优于
±
3℃，温度精度为
±
0.5℃。17.根据权利要求1或16所述的大口径基板表面光刻胶膜均匀烘烤设备，其特征在于，所述的控制系统的控制面板上设定有烘烤参数，包括第1阶段烘烤温度t1、升温时间t1；第2阶段烘烤温度t2、恒温时间t2；第3阶段烘烤温度t3、烘烤时间t3。

技术总结
一种大口径基板表面光刻胶膜均匀烘烤设备，该设备主要包括烘烤系统、基板上下样系统及控制系统。所述的烘烤系统主要由循环风机、加热元件、高效过滤器、烘烤腔室、腔室密封圈、风向导流片、进风端口、回风端口和循环风道、气体输入端口及排气端口构成，具有百级洁净度、温度控制范围20℃～200℃，腔室温度均匀性优于


技术研发人员：晋云霞 张辉 王云坤 彭亚 曹红超 张益彬 汪瑞
受保护的技术使用者：清华大学
技术研发日：2022.08.09
技术公布日：2022/12/5