基于溶液滴注并行合成阵列粉体样品库的高通量制备系统的制作方法

技术特征：
1.一种基于溶液滴注并行合成阵列粉体样品库的高通量制备系统，其特征在于，包括：存储合成粉体所需的多种化学成分起始溶液的储液单元；接收由储液单元输出的化学成分起始溶液、执行化学成分起始溶液输运和定点滴注的处置单元；接收处置单元中所定点滴注化学成分起始溶液的二维阵列微反应器单元；执行二维阵列微反应器单元中定点滴注化学成分起始溶液原位混合和干燥的成分均化与加热单元；操控与监测所述储液单元、处置单元、二维阵列微反应器单元、成分均化与加热单元工作的智能控制单元。2.根据权利要求1所述的基于溶液滴注并行合成阵列粉体样品库的高通量制备系统，其特征在于，所述储液单元包括：并列或阵列排布的多个储液瓶及与储液瓶数量相同的用于输运溶液的管路；每一个储液瓶仅储存一种化学成分起始溶液，或每一个储液瓶储存由两种及以上且不会相互发生化学反应的化学成分起始溶液组成的混合溶液。3.根据权利要求1所述的基于溶液滴注并行合成阵列粉体样品库的高通量制备系统，其特征在于，所述执行化学成分起始溶液输运和定点滴注的处置单元具备：可吸取储液单元中化学成分起始溶液、驱动储液单元溶液输运和定点滴注的并列排布的注射器和双向溶液处理器；所述双向溶液处理器用于吸取储液单元中的化学成分起始溶液，同时将吸取的化学成分起始溶液通过并列排布的注液器定点滴注到二维阵列微反应器单元中。4.根据权利要求3所述的基于溶液滴注并行合成阵列粉体样品库的高通量制备系统，其特征在于，所述定点滴注化学成分起始溶液的二维阵列微反应器单元具备阵列排布的孔位，其中孔位的阵列数为a
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b，a≥1，b≥2；所述二维阵列微反应器单元中相邻孔位间的距离与所述并列排布注液器的排列间距一致，以保证注液器中的化学成分起始溶液定点准确滴注到二维阵列微反应器单元上的每个孔位中。5.根据权利要求1所述的基于溶液滴注并行合成阵列粉体样品库的高通量制备系统，其特征在于，所述成分均化与加热单元置于二维阵列微反应器单元的下方；所述成分均化与加热单元包括第一振动装置和加热单元；优选地，所述成分均化与加热单元和二维阵列微反应器单元设置在带有微反应器盖的微反应器箱中；更优选地，所述微反应器箱内置微反应器固定架，用于承载和固定所述二维阵列微反应器单元；最优选地，所述微反应器箱底部设置有散热排风箱。6.根据权利要求4所述的基于溶液滴注并行合成阵列粉体样品库的高通量制备系统，其特征在于，所述智能控制单元具备操控储液单元中不同化学成分起始溶液依照高通量制备方案顺序完成学成分起始溶液吸取、输运、向二维阵列微反应器单元定点定量滴注、原位混合和干燥的功能，以实现并行合成a
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b个前驱粉体样品库，最终得到a
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b个独立样品组成的样品组；同时记录、显示和监控高通量制备实验过程及实验参数。7.根据权利要求1所述的基于溶液滴注并行合成阵列粉体样品库的高通量制备系统，其特征在于，除了储液单元和智能控制单元，高通量制备系统的其它部分均可放置在密闭的手套箱内并在手套箱内通入保护性气体。8.根据权利要求2所述的基于溶液滴注并行合成阵列粉体样品库的高通量制备系统，
其特征在于，所述储液单元中的储液瓶下方设置加温器和第二振动装置，所述第二振动装置为机械振动装置、或超声振动装置；优选地，多个储液瓶和振动装置安装在储液箱中；更优选地，储液箱的一侧设置有散热孔。9.根据权利要求2所述的基于溶液滴注并行合成阵列粉体样品库的高通量制备系统，其特征在于，所述储液单元中的储液瓶四周设置有环绕加温装置。10.根据权利要求9所述的基于溶液滴注并行合成阵列粉体样品库的高通量制备系统，其特征在于，所述环绕加温装置的加热温度可调范围为室温（25℃）至70℃。11.根据权利要求3所述的基于溶液滴注并行合成阵列粉体样品库的高通量制备系统，其特征在于，所述执行化学成分起始溶液输运和定点滴注的处置单元还配置在x-y-z三维方向移动的机械臂，且并列排布的注液器固定在机械臂上，并随机械臂通过机械臂移动导杆在三维方向移动；所述机械臂沿z方向移动，向上抬起可将注液器取下更换，向下定位可将注射器出射端近距离对准微反应器阵列中的孔位；所述机械臂沿x-y平面移动，可带动并列排布的注液器将化学成分起始溶液定点滴注到二维阵列微反应器单元中的每一个孔位中。12.根据权利要求3所述的基于溶液滴注并行合成阵列粉体样品库的高通量制备系统，其特征在于，所述执行化学成分起始溶液输运和定点滴注的处置单元中注射器和双向溶液处理器的所有管路表面设置细丝加热装置。13.根据权利要求12所述的基于溶液滴注并行合成阵列粉体样品库的高通量制备系统，其特征在于，所述细丝加热装置的加热温度可调范围为室温（25℃）至70℃。14.根据权利要求4所述的基于溶液滴注并行合成阵列粉体样品库的高通量制备系统，其特征在于，所述接收所定点滴注化学成分起始溶液的二维阵列微反应器单元为：具备a
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b个凹坑的陶瓷板、或由a
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b排布的玻璃管阵列。15.根据权利要求5所述的基于溶液滴注并行合成阵列粉体样品库的高通量制备系统，其特征在于，所述第一振动装置为机械振动装置、或超声振动装置；所述加热单元包括油浴装置和水浴装置；所述油浴装置的加热温度可调范围为室温（25℃）至140 ℃，所述水浴装置的加热温度可调范围为室温（25℃）至100℃。16.根据权利要求15所述的基于溶液滴注并行合成阵列粉体样品库的高通量制备系统，其特征在于，在接收所定点滴注化学成分起始溶液的二维阵列微反应器单元和第一振动装置之间设置加热单元；所述加热单元通过冷却管和加热管实现温度调控。17.根据权利要求6所述的基于溶液滴注并行合成阵列粉体样品库的高通量制备系统，其特征在于，所述智能控制单元由计算机程序操控并通过显示屏显示；所述智能控制单元包括：溶液化学成分设计方案模块、系统机械部分运行模块、温度控制模块、全管路清洗模块；所述计算机程序为可编程逻辑控制器plc。18.根据权利要求6所述的基于溶液滴注并行合成阵列粉体样品库的高通量制备系统，其特征在于，通过安装在系统上的wan 接口配置app，在手机上实现智能控制单元的操作、监控、运行。

技术总结
本发明涉及基于溶液滴注并行合成阵列粉体样品库的高通量制备系统。所述基于溶液滴注并行合成阵列粉体样品库的高通量制备系统包括：存储合成粉体所需的多种化学成分起始溶液的储液单元；接收由储液单元输出的化学成分起始溶液、执行化学成分起始溶液输运和定点滴注的处置单元；接收处置单元中所定点滴注化学成分起始溶液的二维阵列微反应器单元；执行二维阵列微反应器单元中定点滴注化学成分起始溶液原位混合和干燥的成分均化与加热单元；操控与监测所述储液单元、处置单元、二维阵列微反应器单元、成分均化与加热单元工作的智能控制单元。相比一次制备一个样品的传统模式，本发明显著提升了样品的制备效率。明显著提升了样品的制备效率。明显著提升了样品的制备效率。


技术研发人员：刘茜 王家成 徐小科 周真真 花云
受保护的技术使用者：亚申科技（浙江）有限公司
技术研发日：2021.06.02
技术公布日：2022/12/5