超低辐射率中性色镀膜玻璃及其制备方法与流程

超低辐射率中性色镀膜玻璃及其制备方法
1.技术领域
2.本发明涉及特种玻璃技术领域，具体涉及一种超低辐射率中性色镀膜玻璃及其制备方法。
3.

背景技术：

4.low-e玻璃又称低辐射玻璃，是在玻璃表面镀上多层金属或其他化合物组成的膜系产品，具有对中远红外线高反射的特性以及优异的保温隔热性能，是目前市面上使用最广泛的建筑节能玻璃。
5.随着low-e技术的发展，市场对产品的辐射率要求越来越高。目前国家对高性能low-e玻璃的辐射率要求为≤0.04，市场上高性能low-e玻璃普遍辐射率在0.015~0.02之间。
6.与此同时，随着人们对室外原色显示度要求的提高，所以高性能low-e玻璃的透过色中性的要求也随之提高。目前市场上主流的辐射率在0.015~0.02之间的高性能low-e玻璃，其透过色呈现偏绿或者偏蓝，原色显示度非常差。
7.公开于该背景技术部分的信息仅仅旨在增加对本发明的总体背景的理解，而不应当被视为承认或以任何形式暗示该信息构成已为本领域一般技术人员所公知的现有技术。
8.

技术实现要素：

9.为克服现有技术所存在的缺陷，现提供一种超低辐射率中性色镀膜玻璃及其制备方法，以解决目前市场上主流的辐射率在0.015~0.02之间的高性能low-e玻璃，其原色显示度非常差的问题。
10.为实现上述目的，提供一种超低辐射率中性色镀膜玻璃，包括：玻璃基板；第一复合膜，包括自下而上依次叠合于所述玻璃基板上的第一电介质膜层、第一功能膜层、第一保护膜层；第二复合膜，包括自下而上依次叠合于所述第一保护膜层上的第二电介质膜层、第二功能膜层、第二保护膜层；第三复合膜，包括自下而上依次叠合于所述第二保护膜层上的第三电介质膜层、第三功能膜层、第三保护膜层；第四复合膜，包括自下而上依次叠合于所述第三保护膜层上的第四电介质膜层、第四功能膜层、第四保护膜层；第五复合膜，包括自下而上依次叠合于所述第四保护膜层上的第五电介质膜层和第五保护膜层；
所述第一功能膜层、所述第二功能膜层、所述三功能膜层和所述第四功能膜层为银钛膜层；所述第一电介质膜层为tio
x
膜层、zno
x
膜层、znalo
x
膜层、znsno
x
膜层、sno
x
膜层中的至少一种，厚度为24.5~34.5nm；所述第一保护膜层为nb膜层、nbo
x
膜层、nbn
x
膜层、ti膜层、tiny膜层、tio
x
膜层、niv膜层中的至少一种，厚度为0.5~6.5nm；所述第二电介质膜层为tio
x
膜层、zno
x
膜层、znalo
x
膜层、znsno
x
膜层、sno
x
膜层中的至少一种，厚度为22.2~32.2nm；所述第二保护膜层为nb膜层、nbo
x
膜层、nbny膜层、ti膜层、tiny膜层、tio
x
膜层、niv膜层中的至少一种，厚度为0.5~6.5nm；所述第三电介质膜层为tio
x
膜层、zno
x
膜层、znalo
x
膜层、znsno
x
膜层、sno
x
膜层中的至少一种，厚度为30.9~40.9nm；所述第三保护膜层为nb膜层、nbo
x
膜层、nbny膜层、ti膜层、tiny膜层、tio
x
膜层、niv膜层中的至少一种，厚度为0.5~6.5nm；所述第四电介质膜层为tio
x
膜层、zno
x
膜层、znalo
x
膜层、znsno
x
膜层、sno
x
膜层中的至少一种，厚度为30.9~40.9nm；所述第四保护膜层为nb膜层、nbo
x
膜层、nbny膜层、ti膜层、tiny膜层、tio
x
膜层、niv膜层中的至少一种，厚度为0.5~6.5nm；第五电介质膜层为tio
x
膜层、zno
x
膜层、znalo
x
膜层、znsno
x
膜层、sno
x
膜层中的至少一种，厚度为25.5~35.5nm；所述第五保护膜层为tio
x
膜层、tiny膜层、zrny膜层、zro
x
膜层、zrnyo
x
膜层中的至少一种，厚度为5~10nm；x表示不完全氧化，y表示不完全氮化。
11.进一步的，所述第一功能膜层的厚度为7.1nm~ 17.1nm。
12.进一步的，所述第二功能膜层的厚度为8.1nm~18.1nm。
13.进一步的，所述第三功能膜层的厚度为0.5nm~10.5nm。
14.进一步的，所述第四功能膜层的厚度为17.1nm~27.1nm。
15.本发明提供一种超低辐射率中性色镀膜玻璃的制备方法，包括以下步骤：于玻璃基板的上部自下而上依次镀第一电介质膜层、第一功能膜层、第一保护膜层以于所述玻璃基板的上部形成第一复合膜；于所述第一复合膜的上部自下而上依次镀第二电介质膜层、第二功能膜层、第二保护膜层以于所述第一复合膜的上部形成第二复合膜；于所述第二复合膜的上部自下而上依次镀第三电介质膜层、第三功能膜层、第三保护膜层以于所述第二复合膜的上部形成第三复合膜；于所述第三复合膜的上部自下而上依次镀第四电介质膜层、第四功能膜层、第四保护膜层以于所述第三复合膜的上部形成第四复合膜；于第四复合膜的上部自下而上依次镀第五电介质膜层和第五保护膜层以于所述第四复合膜的上部形成第五复合膜。
16.本发明的有益效果在于，本发明的超低辐射率中性色镀膜玻璃通过调节膜层厚
度、材质选配及膜层关系使单片玻璃的辐射率降至0.008，远远低于目前市售高性能low-e玻璃的辐射率。在保持超低辐射率的同时，本发明的超低辐射率中性色镀膜玻璃的透过光的颜色呈现灰色接近于原色，提高了高性能low-e玻璃对室外原色显示度。
17.附图说明
18.通过阅读参照以下附图所作的对非限制性实施例所作的详细描述，本技术的其它特征、目的和优点将会变得更明显：图1为本发明实施例的超低辐射率中性色镀膜玻璃的结构示意图。
19.图2为本发明第一实施例的超低辐射率中性色镀膜玻璃的透过光谱颜色曲线图。
20.图3为本发明第一实施例的超低辐射率中性色镀膜玻璃的玻面光谱颜色曲线图。
21.图4为本发明第一实施例的超低辐射率中性色镀膜玻璃的辐射率曲线图。
22.图5为本发明第二实施例的超低辐射率中性色镀膜玻璃的透过光谱颜色曲线图。
23.图6为本发明第二实施例的超低辐射率中性色镀膜玻璃的玻面光谱颜色曲线图。
24.图7为本发明第二实施例的超低辐射率中性色镀膜玻璃的辐射率曲线图。
25.具体实施方式
26.下面结合附图和实施例对本技术作进一步的详细说明。可以理解的是，此处所描述的具体实施例仅仅用于解释相关发明，而非对该发明的限定。另外还需要说明的是，为了便于描述，附图中仅示出了与发明相关的部分。
27.需要说明的是，在不冲突的情况下，本技术中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。下面将参考附图并结合实施例来详细说明本技术。
28.参照图1至图7所示，本发明提供了一种超低辐射率中性色镀膜玻璃，包括：玻璃基板1、第一复合膜、第二复合膜、第三复合膜、第四复合膜和第五复合膜。
29.其中，玻璃基板1为普通白玻璃。
30.第一复合膜包括自下而上依次叠合于玻璃基板上的第一电介质膜层2、第一功能膜层3、第一保护膜层4。
31.第二复合膜包括自下而上依次叠合于第一保护膜层上的第二电介质膜层5、第二功能膜层6、第二保护膜层7。
32.第三复合膜包括自下而上依次叠合于第二保护膜层上的第三电介质膜层8、第三功能膜层9、第三保护膜层10。
33.第四复合膜包括自下而上依次叠合于第三保护膜层上的第四电介质膜层11、第四功能膜层12、第四保护膜层13。
34.第五复合膜包括自下而上依次叠合于第四保护膜层上的第五电介质膜层14和第五保护膜层15。
35.在本实施例中，第一功能膜层、第二功能膜层、三功能膜层和第四功能膜层为银钛膜层。
36.其中，第一功能膜层的厚度为7.1nm~ 17.1nm。
37.第二功能膜层的厚度为8.1nm~18.1nm。
38.第三功能膜层的厚度为0.5nm~10.5nm。
39.第四功能膜层的厚度为17.1nm~27.1nm。
40.具体的，第一电介质膜层为tio
x
膜层、zno
x
膜层、znalo
x
膜层、znsno
x
膜层、sno
x
膜层中的至少一种。第一电介质膜层的厚度为24.5~34.5nm。
41.第一保护膜层为nb膜层、nbo
x
膜层、nbn
x
膜层、ti膜层、tiny膜层、tio
x
膜层、niv膜层中的至少一种。第一保护膜层的厚度为0.5~6.5nm。
42.第二电介质膜层为tio
x
膜层、zno
x
膜层、znalo
x
膜层、znsno
x
膜层、sno
x
膜层中的至少一种。第二电介质膜层的厚度为22.2~32.2nm；第二保护膜层为nb膜层、nbo
x
膜层、nbny膜层、ti膜层、tiny膜层、tio
x
膜层、niv膜层中的至少一种。第二保护膜层的厚度为0.5~6.5nm。
43.第三电介质膜层为tio
x
膜层、zno
x
膜层、znalo
x
膜层、znsno
x
膜层、sno
x
膜层中的至少一种。第三电介质膜层的厚度为30.9~40.9nm；第三保护膜层为nb膜层、nbo
x
膜层、nbny膜层、ti膜层、tiny膜层、tio
x
膜层、niv膜层中的至少一种。第三保护膜层的厚度为0.5~6.5nm；第四电介质膜层为tio
x
膜层、zno
x
膜层、znalo
x
膜层、znsno
x
膜层、sno
x
膜层中的至少一种。第四电介质膜层的厚度为30.9~40.9nm；第四保护膜层为nb膜层、nbo
x
膜层、nbny膜层、ti膜层、tiny膜层、tio
x
膜层、niv膜层中的至少一种，厚度为0.5~6.5nm；第五电介质膜层为tio
x
膜层、zno
x
膜层、znalo
x
膜层、znsno
x
膜层、sno
x
膜层中的至少一种。第五电介质膜层的厚度为25.5~35.5nm；第五保护膜层为tio
x
膜层、tiny膜层、zrny膜层、zro
x
膜层、zrnyo
x
膜层中的至少一种。第五保护膜层的厚度为5~10nm。
44.在上述的膜层中，x表示不完全氧化，y表示不完全氮化。
45.本发明提供一种超低辐射率中性色镀膜玻璃的制备方法，包括以下步骤：s1：于玻璃基板的上部自下而上依次镀第一电介质膜层、第一功能膜层、第一保护膜层以于玻璃基板的上部形成第一复合膜。
46.s2：于第一复合膜的上部自下而上依次镀第二电介质膜层、第二功能膜层、第二保护膜层以于第一复合膜的上部形成第二复合膜。
47.s3：于第二复合膜的上部自下而上依次镀第三电介质膜层、第三功能膜层、第三保护膜层以于第二复合膜的上部形成第三复合膜。
48.s4：于第三复合膜的上部自下而上依次镀第四电介质膜层、第四功能膜层、第四保护膜层以于第三复合膜的上部形成第四复合膜。
49.s5：于第四复合膜的上部自下而上依次镀第五电介质膜层和第五保护膜层以于第四复合膜的上部形成第五复合膜。
50.在玻璃基板（普通白色浮法玻璃）的表面叠设膜层前，先采用benteler清洗机对普通白色浮法玻璃进行清洗，以去除玻璃基板表面上的有机污染物质。上述各个膜层可以通过磁控溅射等常规镀膜玻璃的工艺生产，在此不再展开赘述。
51.为了进一步说明本发明的超低辐射率中性色镀膜玻璃的具体性能，特举以下实施
例。
52.第一实施例参阅图1至图4所示，本实施例提供一种超低辐射率中性色镀膜玻璃，包括：玻璃基板1、第一复合膜、第二复合膜、第三复合膜、第四复合膜和第五复合膜。
53.其中，玻璃基板1为普通白玻璃。
54.第一复合膜包括自下而上依次叠合于玻璃基板上的第一电介质膜层2、第一功能膜层3、第一保护膜层4。
55.第二复合膜包括自下而上依次叠合于第一保护膜层上的第二电介质膜层5、第二功能膜层6、第二保护膜层7。
56.第三复合膜包括自下而上依次叠合于第二保护膜层上的第三电介质膜层8、第三功能膜层9、第三保护膜层10。
57.第四复合膜包括自下而上依次叠合于第三保护膜层上的第四电介质膜层11、第四功能膜层12、第四保护膜层13。
58.第五复合膜包括自下而上依次叠合于第四保护膜层上的第五电介质膜层14和第五保护膜层15。
59.在本实施例中，第一功能膜层、第二功能膜层、三功能膜层和第四功能膜层为银钛膜层。
60.第一电介质膜层为znsno
x
膜层和znalo
x
膜层，其中znsno
x
膜层的厚度为19.5nm、znalo
x
膜层的厚度为 10nm。
61.第一功能膜层为agti膜层，膜层的厚度为12.1nm。
62.第一保护膜层为tio
x
膜层。第一保护膜层的厚度为3.33nm。
63.第二电介质膜层为znalo
x
膜层和znsno
x
膜层，其中znsno
x
膜层的厚度为7.2nm，znalo
x
膜层的厚度均为10nm。
64.第二功能膜层为厚度为13.1nm的agti膜层。
65.第二保护膜层为tio
x
膜层。第二保护膜层的厚度为3.33nm。
66.第三电介质膜层为znalo
x
膜层和znsno
x
膜层，其中znsno
x
膜层的厚度为25.9nm，znalo
x
膜层的厚度为10nm。
67.第三功能膜层为厚度为0.9nm的agti膜层。
68.第三保护膜层为tio
x
膜层。第三保护膜层的厚度为2.5nm。
69.第四电介质膜层为znalo
x
膜层和znsno
x
膜层，其中，znsno
x
膜层的厚度为25.9nm，znalo
x
膜层的厚度为 10nm。
70.第四功能膜层为厚度为22.1nm的agti膜层。
71.第四保护膜层为tio
x
膜层，其厚度为3.3nm。
72.第五电介质膜层为znalo
x
膜层和znsno
x
膜层，其中，znsno
x
膜层的厚度为20.5nm，znalo
x
膜层的厚度为 10nm。
73.第五保护膜层为tio
x
膜层。第五保护膜层的厚度为8.8nm。
74.由此形成的超低辐射率中性色镀膜玻璃，其具有超低辐射率，辐射率为0.008。
75.采用在线检测光度计、datacolar checkii测量本实施例的超低辐射率中性色镀膜玻璃的玻璃外观颜色、光谱曲线，具体如图2~4所示。
76.从图2~4可知，rg＝10.97、lg=39.53、a
*g
=-1.56、b
*g
=-8.91、透过率t＝57.89％、透过颜色a
*t
＝-0.33、b
*t
＝-0.73，ε=0.0075。
77.rg表示镀膜玻璃玻面的反射值，a
*g
和b
*g
表示镀膜玻璃玻璃面的颜色值，a
*g
越正表示颜色越红，越负表示颜色越绿；b
*g
越正表示颜色越黄，越负表示颜色越蓝。
78.t表示镀膜玻璃的透过值，a
*t
和b
*t
表示镀膜玻璃透过的颜色值，a
*t
越正表示颜色越红，越负表示颜色越绿；b
*t
越正表示颜色越黄，越负表示颜色越蓝。
79.第二实施例参阅图1、图5至图7所示，本实施例提供一种超低辐射率中性色镀膜玻璃，包括：玻璃基板、第一复合膜、第二复合膜、第三复合膜、第四复合膜和第五复合膜。
80.其中，玻璃基板为普通白玻璃。
81.第一复合膜包括自下而上依次叠合于玻璃基板上的第一电介质膜层2、第一功能膜层3、第一保护膜层4。
82.第二复合膜包括自下而上依次叠合于第一保护膜层上的第二电介质膜层5、第二功能膜层6、第二保护膜层7。
83.第三复合膜包括自下而上依次叠合于第二保护膜层上的第三电介质膜层8、第三功能膜层9、第三保护膜层10。
84.第四复合膜包括自下而上依次叠合于第三保护膜层上的第四电介质膜层11、第四功能膜层12、第四保护膜层13。
85.第五复合膜包括自下而上依次叠合于第四保护膜层上的第五电介质膜层14和第五保护膜层15。
86.在本实施例中，第一功能膜层、第二功能膜层、三功能膜层和第四功能膜层为银钛膜层。
87.第一电介质膜层为znsno
x
膜层和znalo
x
膜层，其中znsno
x
膜层的厚度为21.6nm、znalo
x
膜层的厚度为8.6nm。
88.第一功能膜层为agti膜层，膜层的厚度为8.1nm。
89.第一保护膜层为tio
x
膜层。第一保护膜层的厚度为3.33nm。
90.第二电介质膜层为znalo
x
膜层和znsno
x
膜层，其中znsno
x
膜层的厚度为11.4nm，znalo
x
膜层的厚度均为8.6nm。
91.第二功能膜层为厚度为17.1nm的agti膜层。
92.第二保护膜层为tio
x
膜层。第二保护膜层的厚度为3.33nm。
93.第三电介质膜层为znalo
x
膜层和znsno
x
膜层，其中znsno
x
膜层的厚度为28nm，znalo
x
膜层的厚度为8.6nm。
94.第三功能膜层为厚度为0.9nm的agti膜层。
95.第三保护膜层为tio
x
膜层。第三保护膜层的厚度为2.5nm。
96.第四电介质膜层为znalo
x
膜层和znsno
x
膜层，其中，znsno
x
膜层的厚度为28nm，znalo
x
膜层的厚度为8.6nm。
97.第四功能膜层为厚度为22.1nm的agti膜层。
98.第四保护膜层为tio
x
膜层，其厚度为3.3nm。
99.第五电介质膜层为znalo
x
膜层和znsno
x
膜层，其中，znsno
x
膜层的厚度为22.6nm，
znalo
x
膜层的厚度为8.6nm。
100.第五保护膜层为zro
x
膜层。第五保护膜层的厚度为8.8nm。
101.由此形成的超低辐射率中性色镀膜玻璃，其具有超低辐射率，辐射率为0.008。
102.采用在线检测光度计、datacolar checkii测量本实施例的超低辐射率中性色镀膜玻璃的玻璃外观颜色、光谱曲线，具体如图5~7所示。
103.从图5~7可知，rg＝10.38、lg=38.52、a
*g
=-1.03、b
*g
=-8.79、透过率t＝58.78％、透过颜色a
*t
＝-0.44、b
*t
＝-0.19，ε=0.00806。
104.rg表示镀膜玻璃玻面的反射值，a
*g
和b
*g
表示镀膜玻璃玻璃面的颜色值，a
*g
越正表示颜色越红，越负表示颜色越绿；b
*g
越正表示颜色越黄，越负表示颜色越蓝。
105.t表示镀膜玻璃的透过值，a
*t
和b
*t
表示镀膜玻璃透过的颜色值，a
*t
越正表示颜色越红，越负表示颜色越绿；b
*t
越正表示颜色越黄，越负表示颜色越蓝。
106.以上描述仅为本技术的较佳实施例以及对所运用技术原理的说明。本领域技术人员应当理解，本技术中所涉及的发明范围，并不限于上述技术特征的特定组合而成的技术方案，同时也应涵盖在不脱离所述发明构思的情况下，由上述技术特征或其等同特征进行任意组合而形成的其它技术方案。例如上述特征与本技术中公开的(但不限于)具有类似功能的技术特征进行互相替换而形成的技术方案。