显示面板的制作方法及显示面板与流程

1.本技术涉及显示技术领域，尤其涉及一种显示面板的制作方法及显示面板。


背景技术：

2.显示面板制程曝光工艺中，第一层电路图案在空白的基板上进行曝光，第一电路图案的曝光也会形成对位标尺图案，作为后续各层曝光对位的基准。
3.结合图1a至图1c所示，当第一电路层11的材料经过湿蚀刻后，第一电路层11中的电路图案和对位标尺111已经形成。当第一电路层11需要重工时，可以通过蚀刻药液对第一电路层11的电路图案和对位标尺进行蚀刻，以去除玻璃基板10上方的第一电路层11。在蚀刻去除第一电路层11的同时，蚀刻药液也会与第一电路层11下方的玻璃基板10发生反应，使得玻璃基板10上方没有电路图案覆盖的区域会被蚀刻掉一部分，有电路图案覆盖的区域不会被蚀刻，导致玻璃基板10的表面会形成电路图案和对位标尺的残留印记101。
4.由于是第一层电路图案的曝光，其曝光精度由曝光设备本身决定，曝光设备的精度量级为100μm，与对位标尺111的大小为同量级，该玻璃基板10第二次投入时，由于曝光设备本身精度的限制，二次投入形成第一电路层11'的电路图案与前次残留的印记会出现错位重叠，二次投入形成的对位标尺111'的图案同样也会与残留印记101出现错位重叠，使得后续膜层曝光对位出现偏差，曝光后的图案将出现变形失效的情况。
5.综上所述，现有显示面板存在第一层电路图案重工时对位标尺的残留印记与重工后形成的对位标尺之间存在偏差，使得后续膜层曝光出现偏差，导致曝光后的图案出现变形失效的问题。故，有必要提供一种显示面板的制作方法及显示面板来改善这一缺陷。


技术实现要素：

6.本技术实施例提供一种显示面板的制作方法及显示面板，可以避免第一层电路图案重工后的后续膜层出现偏差导致曝光后的图案出现变形失效的问题。
7.本技术实施例提供一种显示面板的制作方法，所述显示面板的制作方法包括：
8.在基板上形成第一电路层，所述第一电路层包括多个对位标尺；
9.对所述第一电路层进行检测，判断是否需要重工；
10.若需要，则将所述第一电路层去除，并在所述基板的表面上方原本设有所述对位标尺的位置形成残留印记；
11.将所述基板旋转预设角度；
12.在所述基板上重新形成所述第一电路层；
13.其中，重新形成的所述对位标尺在所述基板上的正投影与距离最近的所述残留印记在所述基板上的正投影不重叠。
14.根据本技术一实施例，多个所述对位标尺关于所述基板的几何中心呈非中心对称设置。
15.根据本技术一实施例，所述基板具有虚设的第一对称轴和第二对称轴，所述第一
对称轴与所述第二对称轴相互垂直，并且均经过所述基板的几何中心，多个所述对位标尺中包括一对第一对位标尺和一对第二对位标尺，所述第一对位标尺和所述第二对位标尺分别设置于所述基板的沿平行于所述第一对称轴方向的相对两端；
16.其中，所述第一对称轴与所述第一对位标尺和所述第二对位标尺之间的距离不同，所述第二对称轴与所述第一对位标尺和所述第二对位标尺之间的距离相同。
17.根据本技术一实施例，所述第一对称轴与所述第一对位标尺之间的距离，大于所述第一对称轴与所述第二对位标尺之间的距离与所述第二对位标尺沿平行于所述第二对称轴方向的长度之和。
18.根据本技术一实施例，多个所述对位标尺中还包括一对第三对位标尺；
19.其中，两个所述第三对位标尺设置于所述第一对称轴的同一侧，并且位于所述第二对称轴的相对两侧，两个所述第三对位标尺关于所述第二对称轴对称设置。
20.根据本技术一实施例，所述第一对称轴与所述第三对位标尺之间的距离小于所述第一对称轴与所述第一对位标尺之间的距离、以及所述第一对称轴与所述第二对位标尺之间的距离。
21.根据本技术一实施例，所述预设角度为180度。
22.依据本技术上述实施例提供的显示面板的制作方法，本技术实施例还提供一种显示面板，所述显示面板可以由上述实施例提供显示面板的制作方法制作形成，所述显示面板包括：
23.基板；
24.第一电路层，设置于所述基板上，所述第一电路层包括多个对位标尺；
25.其中，所述基板靠近所述第一电路层的一侧表面上形成有多个残留印记，所述对位标尺在所述基板上的正投影与距离最近的所述残留印记在所述基板上的正投影不重叠。
26.根据本技术一实施例，多个所述对位标尺关于所述基板的几何中心呈非中心对称设置。
27.根据本技术一实施例，所述基板具有虚设的第一对称轴和第二对称轴，所述第一对称轴与所述第二对称轴相互垂直，并且均经过所述基板的几何中心，多个所述对位标尺中包括一对第一对位标尺和一对第二对位标尺，所述第一对位标尺和所述第二对位标尺分别设置于所述基板的沿平行于所述第一对称轴方向的相对两端；
28.其中，所述第一对称轴与所述第一对位标尺和所述第二对位标尺之间的距离不同，所述第二对称轴与所述第一对位标尺和所述第二对位标尺之间的距离相同。
29.本技术实施例的有益效果：本技术实施例提供一种显示面板的制作方法及显示面板，所述显示面板的制作方法包括在基板上形成第一电路层，所述第一电路层包括多个对位标尺；对所述第一电路层进行检测，判断是否需要重工；若需要，则将所述第一电路层去除，并在所述基板的表面上方原本设有所述对位标尺的位置形成残留印记；将所述基板旋转预设角度；在所述基板上重新形成所述第一电路层。通过对显示面板的第一电路层进行重工去除后，将基板旋转预设角度，使重新形成的对位标尺与原对位标尺在基板上的残留印记不重叠，以此可以避免后续膜层在曝光时出现偏差，从而可以避免曝光后的图案出现变形失效的情况发生。
附图说明
30.为了更清楚地说明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是申请的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
31.图1a至图1c为现有显示面板的第一电路层的重工流程示意图；
32.图2为本技术实施例提供的显示面板的制作方法的流程图；
33.图3a至图3c为本技术实施例提供的第一电路层的重工流程示意图。
具体实施方式
34.以下各实施例的说明是参考附加的图示，用以例示本技术可用以实施的特定实施例。本技术所提到的方向用语，例如[上]、[下]、[前]、[后]、[左]、[右]、[内]、[外]、[侧面]等，仅是参考附加图式的方向。因此，使用的方向用语是用以说明及理解本技术，而非用以限制本技术。在图中，结构相似的单元是用以相同标号表示。
[0035]
下面结合附图和具体实施例对本技术做进一步的说明。
[0036]
本技术实施例提供一种显示面板的制作方法及显示面板，可以避免第一层电路图案重工后的后续膜层对位出现偏差导致曝光后的图案出现变形失效的问题。
[0037]
结合图2至图3c所示，图2为本技术实施例提供的显示面板的制作方法的流程图，图3a至图3c为本技术实施例提供的第一电路层的重工流程示意图，所述显示面板的制作方法包括：
[0038]
步骤s10：在基板20上形成第一电路层21，所述第一电路层21包括多个对位标尺211。
[0039]
所述步骤s10中，多个所述对位标尺211关于所述基板20的几何中心呈非中心对称设置。
[0040]
如图3a所示，所述基板20具有虚设的第一对称轴a1和第二对称轴a2，所述第一对称轴a1与所述第二对称轴a2相互垂直，并且均经过所述基板20的几何中心。
[0041]
在其中一个实施例中，所述基板20的形状为矩形，第一对称轴a1平行于水平方向x，第二对称轴a2平行于竖直方向y，第一对称轴a1和第二对称轴a2相交，并将所述基板20划分为四个面积大小相等的矩形区域。
[0042]
进一步的，多个所述对位标尺211中包括一对第一对位标尺2111和一对第二对位标尺2112，所述第一对位标尺2111和所述第二对位标尺2112关于所述基板20的几何中心呈非中心对称设置。
[0043]
所述第一对位标尺2111和所述第二对位标尺2112分别设置于所述基板20的沿平行于所述第一对称轴a1方向的相对两端。
[0044]
如图3a所示，两个所述第一对位标尺2111位于所述第一对称轴a1同一侧的两个直角处，两个所述第二对位标尺2112位于所述第一对称轴a1相对另一侧的两个直角处。
[0045]
在其中一个实施例中，所述第一对称轴a1与两个所述第一对位标尺2111之间的距离相同，所述第一对称轴a1与两个所述第2对位标尺2112之间的距离也相同。
[0046]
在其中一个实施例中，两个所述第一对位标尺2111可以关于所述第二对称轴a2对
称设置，两个所述第二对位标尺2112也可以关于所述第二对称轴a2对称设置。
[0047]
进一步的，所述第一对称轴a1与所述第一对位标尺2111和所述第二对位标尺2112之间的距离不同，所述第二对称轴a2与所述第一对位标尺2111和所述第二对位标尺2112之间的距离相同。
[0048]
在其中一个实施例中，如图3a所示，所述第一对称轴a1与所述第一对位标尺2111之间的距离为l1，所述第一对称轴a1与所述第二对位标尺2112之间的距离为l2，所述第二对位标尺沿平行于所述第二对称轴方向的长度为l3，所述第一对称轴a1与所述第一对位标尺2111之间的距离l1大于所述第一对称轴a1与所述第二对位标尺2112之间的距离l2与所述第二对位标尺2112沿平行于所述第二对称轴a2方向的长度l3之和，即l1＞l2 l3。
[0049]
在其中一个实施例中，所述第一对位标尺2111沿平行于所述第二对称轴a2方向的长度可以与所述第二对位标尺2112沿平行于所述第二对称轴a2方向的长度l3相等。
[0050]
进一步的，多个所述对位标尺211中还包括一对第三对位标尺2113，两个所述第三对位标尺2113设置于所述第一对称轴a1的同一侧，并且位于所述第二对称轴a2的相对两侧，两个所述第三对位标尺2113关于所述第二对称轴a2对称设置。
[0051]
如图3a所示，两个所述第三对位标尺2113均设置于所述第一对称轴a1靠近所述第一对位标尺2111的一侧，并且与所述第一对称轴a1之间的距离l4相同，两个所述第三对位标尺2113与所述第二对称轴a2之间的距离也可以相同。在其他一些实施例中，两个所述第三对位标尺2113也可以同时设置于所述第一对称轴a1靠近所述第二对位标尺2112的一侧。
[0052]
在其中一个实施例中，所述第二对称轴a2与所述第一对位标尺2111、所述第二对位标尺2112以及所述第三对位标尺2113之间的距离均相同。
[0053]
进一步的，所述第一对称轴a1与所述第三对位标尺2113之间的距离小于所述第一对称轴a1与所述第一对位标尺2111之间的距离、以及所述第一对称轴a1与所述第二对位标尺之间2112的距离。
[0054]
如图3a所示，相较于第一对位标尺2111和第二对位标尺2112，所述第三对位标尺2113更加靠近所述第一对称轴a1，且不与所述第一对称轴a1接触。
[0055]
如图3a所示，外面一圈黑色线框所包围的矩形区域表示的是基板20，内部一圈黑色线框所包围的矩形区域表示的是曝光图案的区域。基板20右上角的三角形标尺可以用于判断基板20是否已经完成旋转。
[0056]
步骤s20：对所述第一电路层21进行检测，判断是否需要重工。
[0057]
所述步骤s20中，在制作形成所述第一电路层21后，需要对第一电路层21的电路图案进行检测，若第一电路层21的电路图案没有出现缺陷，则可以进行后续其他膜层的制程，或者所述第一电路层21的电路图案出现可以修复的缺陷，将所述缺陷修复完成后，可以进行后续其他膜层的制程。若第一电路层21的电路图案出现无法修复的缺陷，则需要对第一电路层21进行重工，以重新制备所述第一电路层21。
[0058]
步骤s30：若需要，则将所述第一电路层21去除，并在所述基板20的表面上原本设有所述对位标尺211的位置形成残留印记201。
[0059]
结合图3a至图3b所示，残留印记201包括一对第一残留印记2011和一对第二残留印记2012，第一残留印记2011是去除所述第一对位标尺2111后在基板20表面形成的，第二残留印记2012是去除所述第二对位标尺2112后在所述基板20表面形成的。
[0060]
如图3b所示，所述残留印记201包括一对第三残留印记2013，所述第三残留印记2013是去除所述第三对位标尺2113后在所述基板20表面形成的。
[0061]
步骤s40：将所述基板20旋转预设角度。
[0062]
在其中一个实施例中，所述预设角度为180度。
[0063]
结合图3a至图3c所示，在基板20未旋转180度之前，三角形标尺位于基板20的右上角，当基板20旋转180度后，三角形标尺可以跟随基板20旋转至左下角。
[0064]
所述步骤s40中，将所述基板20旋转180度后，两个所述第一残留印记2011均由所述基板20的下端旋转到至基板20的上端，两个所述第二残留印记2012均由所述基板20的下端旋转到了基板20的上端，两个所述第三残留印记2013均由所述第一对称轴a1上方旋转至所述第一对称轴a1的下方。
[0065]
步骤s50：在所述基板20上重新形成所述第一电路层21'。
[0066]
需要说明的是，重新制作形成的第一电路层21'与重工前制作形成的第一电路层21的电路结构完全相同，将重新制作形成的第一电路层标号设置为21'，便于与重工前制作形成的第一电路层21进行区别。
[0067]
所述步骤s50中，采用与步骤s10中相同的方法在所述基板20上重新制作形成所述第一电路层，与此同时，还重新制作形成了所述第一对位标尺2111'、所述第二对位标尺2112'以及第三对位标尺2113'。
[0068]
在本技术实施例中，重新形成的所述对位标尺211'在所述基板20上的正投影与距离最近的所述残留印记201在所述基板20上的正投影不重叠。
[0069]
需要说明的是，由于曝光设备本身精度的限制，重新制作形成的第一对位标尺2111'在所述基板20上的位置可以与图3a中第一对位标尺2111所处的位置相同或者略微偏移，第二对位标尺2112'在所述基板20上的位置可以与图3a中第二对位标尺2112所处的位置相同或者略微偏移，第三对位标尺2113'在所述基板20上的位置可以与图3a中第三对位标尺2113所处的位置相同或者略微偏移。
[0070]
由于所述第一对称轴a1与所述第一对位标尺2111之间的距离l1大于所述第一对称轴a1与所述第二对位标尺2112之间的距离l2与所述第二对位标尺沿平行于所述第二对称轴方向的长度l3之和，可以使得重新制作形成的第一对位标尺2111'位于所述第二残留印记2012远离所述第一对称轴a1的一侧，并且所述第一对位标尺2111'在所述基板20上的正投影与所述第二残留印记2012在所述基板20上的正投影不重叠。
[0071]
重新制作形成的所述第二对位标尺2112'位于所述第一残留印记2011靠近所述第一对称轴a1的一侧，并且所述第二对位标尺2112'在所述基板20上的正投影与所述第一残留印记2011在所述基板20上的正投影不重叠。
[0072]
重新制作形成的第三对位标尺2113'与第三残留印记2013分别设置于所述第一对称轴a1的相对两侧，如此可以使得所述第三对位标尺2113'在所述基板20上的正投影与所述第三残留印记2013在所述基板20上的正投影不重叠。
[0073]
由于基板20上重新制作形成的各个对位标尺与残留印记在基板20上的正投影不重叠，曝光设备在抓取对位标尺时可以不受残留印记的影响，从而可以避免在后续膜层曝光对位时出现偏差导致曝光后的图案出现变形时效的情况发生。
[0074]
依据本技术实施例提供的显示面板的制作方法，本技术实施例还提供一种显示面
板，所述显示面板可以由本技术上述实施例提供的显示面板的制作方法制作形成，如图3c所示，所述显示面板包括基板20和第一电路层21'，所述第一电路层21'设置于所述基板20上，所述第一电路层21'可以包括多个对位标尺211'。
[0075]
所述基板20靠近所述第一电路层21的一侧表面上形成有多个残留印记201，所述对位标尺211'在所述基板20上的正投影与距离最近的所述残留印记201在所述基板20上的正投影不重叠。
[0076]
多个所述对位标尺211'关于所述基板20的几何中心呈非中心对称设置。
[0077]
如图3c所示，所述基板20具有虚设的第一对称轴a1和第二对称轴a2，所述第一对称轴a1与所述第二对称轴a2相互垂直，并且均经过所述基板20的几何中心。
[0078]
在其中一个实施例中，所述基板20的形状为矩形，第一对称轴a1平行于水平方向x，第二对称轴a2平行于竖直方向y，第一对称轴a1和第二对称轴a2相交，并将所述基板20划分为四个面积大小相等的矩形区域。
[0079]
多个所述对位标尺211'中包括一对第一对位标尺2111'和一对第二对位标尺2112'，所述第一对位标尺2111'和所述第二对位标尺2112'关于所述基板20的几何中心呈非中心对称设置。
[0080]
所述第一对位标尺2111'和所述第二对位标尺2112'分别设置于所述基板20的沿平行于所述第一对称轴a1方向的相对两端。
[0081]
如图3c所示，两个所述第一对位标尺2111'位于所述第一对称轴a1同一侧的两个直角处，两个所述第二对位标尺2112'位于所述第一对称轴a1相对另一侧的两个直角处。
[0082]
在其中一个实施例中，所述第一对称轴a1与两个所述第一对位标尺2111'之间的距离相同，所述第一对称轴a1与两个所述第2对位标尺2112'之间的距离也相同。
[0083]
在其中一个实施例中，两个所述第一对位标尺2111'可以关于所述第二对称轴a2对称设置，两个所述第二对位标尺2112'也可以关于所述第二对称轴a2对称设置。
[0084]
进一步的，所述第一对称轴a1与所述第一对位标尺2111'和所述第二对位标尺2112'之间的距离不同，所述第二对称轴a2与所述第一对位标尺2111'和所述第二对位标尺2112'之间的距离相同。
[0085]
在其中一个实施例中，所述第一对称轴a1与所述第一对位标尺2111'之间的距离大于所述第一对称轴a1与所述第二对位标尺2112'之间的距离与所述第二对位标尺2112'沿平行于所述第二对称轴a2方向的长度之和。
[0086]
所述残留印记201包括一对第一残留印记2011和一对第二残留印记2012，第一残留印记2011是去除所述第一对位标尺2111后在基板20表面形成的，第二残留印记2012是去除所述第二对位标尺2112后在所述基板20表面形成的。
[0087]
所述残留印记201还包括一对第三残留印记2013，所述第三残留印记2013是去除所述第三对位标尺2113后在所述基板20表面形成的。
[0088]
在本技术实施例中，所述对位标尺211'在所述基板20上的正投影与距离最近的所述残留印记201在所述基板20上的正投影不重叠。
[0089]
如图3c所示，第一对位标尺2111'位于所述第二残留印记2012远离所述第一对称轴a1的一侧，并且所述第一对位标尺2111'在所述基板20上的正投影与所述第二残留印记2012在所述基板20上的正投影不重叠。
[0090]
所述第二对位标尺2112'位于所述第一残留印记2011靠近所述第一对称轴a1的一侧，并且所述第二对位标尺2112'在所述基板20上的正投影与所述第一残留印记2011在所述基板20上的正投影不重叠。
[0091]
所述第三对位标尺2113'与第三残留印记2013分别设置于所述第一对称轴a1的相对两侧，如此可以使得所述第三对位标尺2113'在所述基板20上的正投影与所述第三残留印记2013在所述基板20上的正投影不重叠。
[0092]
由于基板20上重新制作形成的各个对位标尺与残留印记在基板20上的正投影不重叠，曝光设备在抓取对位标尺时可以不受残留印记的影响，从而可以避免在后续膜层曝光对位时出现偏差导致曝光后的图案出现变形时效的情况发生。
[0093]
本技术实施例的有益效果：本技术实施例提供一种显示面板的制作方法及显示面板，所述显示面板的制作方法包括在基板上形成第一电路层，所述第一电路层包括多个对位标尺；对所述第一电路层进行检测，判断是否需要重工；若需要，则将所述第一电路层去除，并在所述基板的表面上方原本设有所述对位标尺的位置形成残留印记；将所述基板旋转预设角度；在所述基板上重新形成所述第一电路层。通过对显示面板的第一电路层进行重工去除后，将基板旋转预设角度，使重新形成的对位标尺与原对位标尺在基板上的残留印记不重叠，以此可以避免后续膜层在曝光时出现偏差，从而可以避免曝光后的图案出现变形失效的情况发生。
[0094]
综上所述，虽然本技术以优选实施例揭露如上，但上述优选实施例并非用以限制本技术，本领域的普通技术人员，在不脱离本技术的精神和范围内，均可作各种更动与润饰，因此本技术的保护范围以权利要求界定的范围为基准。