一种抗光幕布及其制备方法与流程

技术特征：
1.一种抗光幕布，其特征在于，包括反光层，所述反光层经由如下反光涂料固化而成，所述反光涂料包括如下重量份的各物质：无机粒子40-60份分散剂0.5-1.0份润湿剂0.1-0.5份消泡剂0.1-0.5份流平剂0.5-1.0份成膜物树脂20-40份交联剂1.0-3.0份去离子水10-20份；其中，所述的无机粒子为二氧化硅与二氧化钛的混合物，二者比例为1：(2-10)。2.根据权利要求1所述的一种抗光幕布，其特征在于，所述二氧化钛的粒径在200-700纳米，所述二氧化硅的粒径在50-200纳米。3.根据权利要求1所述的一种抗光幕布，其特征在于，所述的分散剂为聚酯类分散剂、低聚皂分散剂、高分子分散剂中的一种或任意重量比的几种；所述聚酯类分散剂为改性聚酯；所述低聚皂分散剂为聚羧酸钠盐、磷酸酯盐、多己内多酯多元醇-多乙烯亚胺嵌段共聚物中的一种或任意重量比的多种；所述高分子分散剂为聚苯乙烯、聚乙二醇中的一种或任意重量比的两种。4.根据权利要求1所述的一种抗光幕布，其特征在于，所述的润湿剂为烷基硫酸盐、磺酸盐、聚氧乙烯烷基酚醚、聚氧乙烯脂肪醇醚中的一种或任意重量比的几种。5.根据权利要求1所述的一种抗光幕布，其特征在于，所述的消泡剂为高级醇类、脂肪酸及其盐类、磷酸酯类、烃油类、聚醚类、有机硅聚合物、酰胺类中的一种或任意重量比几种。6.根据权利要求1所述的一种抗光幕布，其特征在于，所述的流平剂为聚二甲基改性硅氧烷、聚醚聚酯改性有机硅氧烷、烷基改性有机硅氧烷中的一种或任意重量比几种。7.根据权利要求1所述的一种抗光幕布，其特征在于，所述成膜物树脂为水性丙烯酸树脂，所述交联剂为脂肪族多异氰酸酯。8.根据权利要求1所述的一种抗光幕布，其特征在于，所述的基材层为光学棱镜阵列，所述光学棱镜阵列采用若干个棱镜紧密排布而成，所述棱镜沿水平方向的截面为三角形。9.根据权利要求1所述的一种抗光幕布，其特征在于，包括基材层、反光层与吸光层，所述反光层涂布在基材层中的三角形棱镜的下侧面，所述吸光层涂布在基材层中的三角形棱镜的上侧面，所述吸光层为一种吸光材料。10.根据权利要求9所述的一种抗光幕布，其特征在于，所述吸光层厚度小于反射层。11.一种制备权利要求1-10任一项所述的抗光幕布的方法，其特征在于，包括：a制备基材层将基材通过压印辊进行图案化处理，形成沿水平方向的截面为三角形的棱镜阵列，得到基材层；b制备吸光层选择黑色的tpu材料或者涂布炭黑、铁黑等吸光材料，得到吸光层或者吸光层涂料；
c制备反光层按顺序分别加入配比量的去离子水、分散剂、润湿剂、无机粒子、消泡剂、成膜物树脂、流平剂、交联剂混合搅拌制成反光层涂料；d获得抗光幕布将吸光层与反光层分别涂布在三角形棱镜的上侧面与下侧面，得到抗光幕布。

技术总结
本申请公开了一种抗光幕布及其制备方法，其包括基材层、吸光层、反光层；所述反光层涂料包括无机粒子、分散剂、润湿剂、消泡剂、流平剂、成膜物树脂、交联剂、去离子水。本申请的抗光幕布具有优秀的防污性能，且本申请的抗光幕布能在极端环境下具有优秀的耐候性。在极端环境下具有优秀的耐候性。在极端环境下具有优秀的耐候性。


技术研发人员：郑宇翔 李彩翠 刘玉磊 周守发 黄永华 唐超军 程兴远
受保护的技术使用者：合肥乐凯科技产业有限公司
技术研发日：2022.09.04
技术公布日：2022/11/29