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液晶显示面板及其制备方法与流程

2022-11-28 13:11:27 来源:中国专利 TAG:

技术特征:
1.一种液晶显示面板,其特征在于,包括:衬底;第一电极层,设置于所述衬底一侧;第二电极层,设置于所述第一电极层远离所述衬底的一侧;绝缘层,设置于所述第一电极层和所述第二电极层之间;其中,所述液晶显示面板包括开口区和非开口区,所述开口区内所述绝缘层的厚度小于所述非开口区内所述绝缘层的厚度。2.如权利要求1所述的液晶显示面板,其特征在于,所述绝缘层包括钝化层,所述钝化层设置于所述第一电极层和所述第二电极层之间,所述开口区内所述钝化层的厚度小于所述非开口区内所述钝化层的厚度。3.如权利要求2所述的液晶显示面板,其特征在于,所述液晶显示面板还包括栅极层、有源层和源漏极层,所述栅极层设置于所述衬底与所述第一电极层之间,所述有源层设置于所述栅极层远离所述衬底的一侧,所述源漏极层设置于所述有源层远离所述栅极层的一侧,所述钝化层设置于所述源漏极层与所述第二电极层之间,所述源漏极层与所述第二电极层之间的间距大于所述第一电极层与所述第二电极层之间的间距。4.如权利要求3所述的液晶显示面板,其特征在于,所述第一电极层与所述第二电极层之间的间距范围为所述源漏极层与所述第二电极层之间的间距的六分之一至二分之一。5.如权利要求1所述的液晶显示面板,其特征在于,所述绝缘层包括栅极绝缘层和钝化层,所述栅极绝缘层设置于所述第一电极层和所述钝化层之间,所述钝化层设置于所述栅极绝缘层和所述第二电极层之间,所述开口区内所述栅极绝缘层和所述钝化层的厚度之和小于所述非开口区内所述栅极绝缘层和所述钝化层的厚度之和。6.如权利要求5所述的液晶显示面板,其特征在于,所述开口区内所述栅极绝缘层的厚度等于所述非开口区内所述栅极绝缘层的厚度,所述开口区内所述钝化层的厚度小于所述非开口区内所述钝化层的厚度。7.如权利要求5所述的液晶显示面板,其特征在于,所述开口区内所述栅极绝缘层的厚度小于所述非开口区内所述栅极绝缘层的厚度。8.如权利要求7所述的液晶显示面板,其特征在于,所述开口区内所述钝化层的厚度小于或者等于所述非开口区内所述钝化层的厚度。9.如权利要求5所述的液晶显示面板,其特征在于,所述开口区内所述栅极绝缘层的厚度大于所述非开口区内所述栅极绝缘层的厚度,所述开口区内所述钝化层的厚度小于所述非开口区内所述钝化层的厚度。10.一种液晶显示面板制备方法,其特征在于,包括:提供衬底;在所述衬底上形成第一电极层;在所述第一电极层上沉积绝缘层,并在所述绝缘层上形成光阻层;采用半透光光罩对所述光阻层进行显影和蚀刻,得到第一光阻部分、第二光阻部分和无光阻部分,其中,所述第二光阻部分对应开口区设置,所述第一光阻部分对应非开口区设置,所述无光阻部分的厚度为零,所述第二光阻部分的厚度小于所述第一光阻部分的厚度;对所述绝缘层进行刻蚀形成过孔;所述过孔对应所述无光阻部分;
去除所述第二光阻部分;对所述第二光阻部分对应区域的所述绝缘层进行刻蚀,以使得与所述第二光阻部分对应的所述开口区内所述绝缘层的厚度小于与所述第一光阻部分对应的所述非开口区内所述绝缘层的厚度;去除所述第一光阻部分,并在所述绝缘层上形成第二电极层,得到液晶显示面板。

技术总结
本申请提供一种液晶显示面板及其制备方法;该液晶显示面板通过使开口区内绝缘层的厚度小于非开口区内绝缘层的厚度,则可以增大开口区内的第一电极层和第二电极层之间的存储电容,减小液晶显示面板的驱动电压,降低功耗;同时,非开口区内绝缘层的厚度大于开口区内绝缘层的厚度,则非开口区内的电极或者走线之间的间距较大,使寄生电容较小,从而兼顾了液晶显示面板的寄生电容较小和功耗较低的要求。显示面板的寄生电容较小和功耗较低的要求。显示面板的寄生电容较小和功耗较低的要求。


技术研发人员:张宁
受保护的技术使用者:广州华星光电半导体显示技术有限公司
技术研发日:2022.08.23
技术公布日:2022/11/25
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