一种纳米压印软膜及其制备方法与流程

技术特征：
1.一种纳米压印软模，其特征在于，包括：软模本体和薄膜层，所述软模本体的一侧形成有压印面，所述薄膜层被设置在所述压印面上，所述薄膜层的结构与所述压印面的结构相匹配，所述薄膜层被配置为用于隔绝所述软模本体与产品压印胶，以降低所述软模本体与所述产品压印胶之间的拔模力，所述薄膜层的材料为金属氧化物或者介质材料。2.根据权利要求1所述的纳米压印软模，其特征在于，所述薄膜层通过原子层沉积法沉积在所述压印面上。3.根据权利要求2所述的纳米压印软模，其特征在于，所述薄膜层的材料为金属氧化物，所述金属氧化物为氧化铝和二氧化钛中的至少一种。4.根据权利要求1所述的纳米压印软模，其特征在于，所述薄膜层的厚度小于或者等于20nm。5.根据权利要求1所述的纳米压印软模，其特征在于，所述薄膜层的材料为介质材料，所述介质材料为二氧化硅和氮化硅中的至少一种。6.根据权利要求1所述的纳米压印软模，其特征在于，所述软模本体包括软模胶层和基底层，所述软模胶层设置于所述基底层上，所述压印面形成于所述软模胶层上。7.根据权利要求6所述的纳米压印软模，其特征在于，所述软模胶层的材料为uv固化胶。8.根据权利要求6所述的纳米压印软模，其特征在于，所述基底层的材料为聚对苯二甲酸乙二醇酯。9.一种纳米压印软模的制备方法，其特征在于，包括：提供具有与母模纹路结构相镜像的纹路结构的软模本体，所述软模本体的一侧形成有压印面；在所述压印面上设置薄膜层；其中，所述薄膜层被配置为用于隔绝所述软模本体与产品压印胶，以降低所述软模本体与所述产品压印胶之间的拔模力，所述薄膜层的材料为金属氧化物或者介质材料。10.根据权利要求9所述的制备方法，其特征在于，所述薄膜层的材料为二氧化硅、氮化硅、二氧化钛或氧化铝中的至少一种。

技术总结
本公开实施例公开了一种纳米压印软模及其制备方法。该软模包括：软模本体和薄膜层，所述软模本体的一侧形成有压印面，所述薄膜层被设置在所述压印面上，所述薄膜层的结构与所述压印面的结构相匹配，所述薄膜层被配置为用于隔绝所述软模本体与产品压印胶，以降低所述软模本体与所述产品压印胶之间的拔模力，所述薄膜层的材料为金属氧化物或者介质材料。膜层的材料为金属氧化物或者介质材料。膜层的材料为金属氧化物或者介质材料。


技术研发人员：李莹 朱春霖 张玉良 吾晓 饶轶
受保护的技术使用者：歌尔光学科技有限公司
技术研发日：2022.08.12
技术公布日：2022/11/18