一种微晶产品的清洗装置的制作方法

1.本实用新型涉及一种微晶产品的清洗装置，属于玻璃清洁设备技术领域。


背景技术：

2.在3d微晶玻璃产品的加工过程中，由于其材质的特殊性，不能经过强碱药液进行清洗，现有的玻璃产品的清洗过程通常采用平板的磨盘进行清洗，很难清洗到3d产品的凹槽位置。如现有技术中通过采用研磨盘对玻璃产品的表面进行清洁，而采用这种研磨盘整面覆盖式很难清洗到凹槽位置，为了提升对凹槽位置的清洗，也有通过采用研磨磨头进行研磨、清洗，但是采用磨头是直接在磨头本体的下端设了研磨片，这种刚性连接在清洗时不易控制，容易在磨研的过程中损坏产品，不利于加工。


技术实现要素：

3.本实用新型针对以上现有技术中存在的缺陷，提供一种微晶产品的清洗装置，解决的问题是如何实现有效清洗玻璃和提高清洗质量。
4.本实用新型的目的是通过以下技术方案得以实现的，一种微晶产品的清洗装置，该清洗装置包括用于放置表盖的治具和位于所述治具上方能三轴移动的清洗磨头，其特征在于，所述清洗磨头包括本体，所述本体的下端连接有缓冲件和研磨片，所述缓冲件位于本体的下端与研磨片之间，所述缓冲件上端与本体的下端连接，所述缓冲件的下端与研磨片连接。
5.通过在研磨片与磨头本体之间设置缓冲件，避免了磨头本体直接与研磨片连接，使在清洗的过程中由于缓冲件结构的设计，实现缓冲的作用，有效的实现提高清洗的质量和保证清洗过程中不会造成加工损伤的效果。同时，上述的三轴移动的清洗磨头可通过现有的移动装置即可，三轴移动采用现有常规技术，如采用 xyz三轴移动的操作平台，使清洗磨头能够实现上下、前后、左右方向的移动，从而使有效的对放置在下方治具中不品位置的产品进行清洗，保证了清洗的全面性和有效性。
6.在上述微晶产品的清洗装置中，作为优选，所述缓冲件为呈圆柱状的海绵块，所述研磨片呈圆形。海绵块本身具有一定的弹性缓冲功能，同时其也具有较好的吸水性，在清洗的过程中能够吸水清洗液，从而能够更好的起到缓冲和清洗的功能。作为另一实施方式，这里的缓冲件也可以是采用弹性的橡胶件。
7.在上述微晶产品的清洗装置中，作为优选，所述海绵块的两端分别通过胶水与本体的下端和研磨片连接。能够直接它们之间的连接稳定性，且这样能够更好的保证缓冲件与研磨片之间的连接，避免通过采用其它硬质材料连接，更有利于保证整体的缓冲性，也能更好的避免出现局部受力集中的问题。
8.在上述微晶产品的清洗装置中，作为优选，所述研磨片的直径略小于所述海绵块的直径。使缓冲件海绵的尺寸略大一点，能使研磨片整体都受到缓冲件的支撑，在清洗的过程中更有利于保证受力的均匀性，提高清洗质量。
9.在上述微晶产品的清洗装置中，作为优选，所述治具包括基板，所述基板的上表面设置有聚酯板，所述聚酯板上设有若干个用于放置表盖的放置槽，所述放置槽的槽底设有用于与真空系统相通的通气孔。通过采用聚酯板能够更有利于的避免清洗过程中治具对产品表面的划伤；同时，清洗过程中通过通气孔与真空系统连通能将放置在上面的产品吸附住，提高清洗的稳定性。
10.在上述微晶产品的清洗装置中，作为优选，所述放置槽的槽底设有环形槽和十字槽，所述十字槽位于环形槽内侧，所述十字槽的外端均与所述环形槽相通，所述通气孔位于所述十字槽的交叉处。能够提高吸附的稳定性，更好的提到吸附功效。
11.综上所述，本实用新型与现有技术相比，具有以下优点：
12.1.本清洗装置通过设置缓冲件，能够有效的实现缓冲的作用，提高清洗的质量和保证清洗过程中不会造成加工损伤的效果。
13.2.通过使缓冲件海绵的尺寸略大一点，能使研磨片整体都受到缓冲件的支撑，保证受力的均匀性，避免清洗过程中受力不均的影响，整体提高清洗质量和产品品质。
附图说明
14.图1本微晶产品的清洗装置的局部立体结构示意图。
15.图2是图1中a处的放大结构示意图。
16.图3是图1中b处的放大结构示意图。
17.图4是图1中c处的放大结构示意图。
18.图中，1、清洗磨头；11、本体；12、缓冲件；13、研磨片； 2、治具；21、基板；22、聚酯板；221、放置槽；222、通气孔； 223、环形槽；224、十字槽。
具体实施方式
19.下面通过具体实施例和附图，对本实用新型的技术方案作进一步具体的说明，但是本实用新型并不限于这些实施例。
20.结合图1-图3所示，本微晶产品的清洗装置包括用于放置表盖的治具2和位于治具2上方能三轴移动的清洗磨头1，更重要的是，上述清洗磨头1包括本体11，本体11可直接采用金属材料制成，本体11的下端连接有缓冲件12和研磨片13，缓冲件12 位于本体11的下端与研磨片13之间，缓冲件12上端与本体11 的下端连接，缓冲件12的下端与研磨片13连接。通过在中间位置设置缓冲件12，使清洗磨头1下移对微晶产品进行清洗时，有效的起到缓冲作用，保证清洗的过程中避免造成产品损坏或损伤。对于上述的研磨片13的材料可采用聚氨酯抛光皮。
21.进一步的实施方案，对于上述的缓冲件12可采用具有一定弹性形变的材料制成，如可采用弹性硅胶垫片或弹性橡胶，也可采用海绵材料等弹性件，最好使上述缓冲件12为呈圆柱状的海绵块，使研磨片13呈圆形。能更好的起到缓冲功效，最好使海绵块在轴向的长度在1cm-2cm。
22.使上述海绵块的两端分别通过胶水与本体11的下端和研磨片13连接。通过胶水直接粘接即保证它们之间的结合，又能更好的保证整体的缓冲功能。进一步的还使上述本体11的上端端面呈平面状，使其与海绵块之间形成面接触，提高粘接牢固性，且采用平面状也
能更好的保证力的传递稳定性。进一步的优选方案，使研磨片13的直径略小于海绵块的直径。
23.作为更好的实施方案，上述治具2包括基板21，基板21的上表面设置有聚酯板22，聚酯板22上设有若干个用于放置表盖的放置槽221，放置槽221的槽底设有用于与真空系统相通的通气孔222。进一步的，结合图4所示，最好使放置槽221的槽底设有环形槽223和十字槽224，十字槽224位于环形槽223内侧，十字槽224的外端均与环形槽223相通，通气孔222位于十字槽 224的交叉处。有利于提高对放置在其上的产品的吸附功能，保证吸附的稳定性。
24.本微晶产品的清洗装置在对3d表盖进行清洗时，通过将待清洗的3d表盖放置在对应的治具2的放置槽221上，然后通过打开真空系统，使通过通气孔222处的通气功能对产品进行吸附，再打开本清洗装置的电源进行清洗，使上述的清洗磨头1进行移动对表盖的表面进行清洗，上述清洗磨头1的移动即通过三轴移动的方式进行清洗，这里的三轴移动是现有常规技术，如xyz三轴移动技术，使整体实现上下、左右、前后移动的控制，也能实现升降、平移和旋转的基本功能，在本微晶产品的清洗装置中未具体画出。
25.本实用新型中所描述的具体实施例仅是对本实用新型精神作举例说明。本实用新型所属技术领域的技术人员可以对所描述的具体实施例做各种各样的修改或补充或采用类似的方式替代，但并不会偏离本实用新型的精神或者超越所附权利要求书所定义的范围。
26.尽管对本实用新型已作出了详细的说明并引证了一些具体实施例，但是对本领域熟练技术人员来说，只要不离开本实用新型的精神和范围可作各种变化或修正是显然的。