氮化硼烧结体、复合体及它们的制造方法、以及散热构件与流程

技术特征：
1.氮化硼烧结体，其为包含氮化硼粒子和气孔的氮化硼烧结体，且压缩弹性模量为1gpa以上。2.如权利要求1所述的氮化硼烧结体，其压缩强度为3mpa以上。3.如权利要求1或2所述的氮化硼烧结体，其气孔率为30～65体积％。4.如权利要求1～3中任一项所述的氮化硼烧结体，其堆密度为900～1500kg/m3。5.如权利要求1～4中任一项所述的氮化硼烧结体，其取向性指数为20以下。6.如权利要求1～5中任一项所述的氮化硼烧结体，其为片状，厚度小于5mm。7.复合体，其包含：权利要求1～6中任一项所述的氮化硼烧结体、和填充于所述氮化硼烧结体的所述气孔的至少一部分中的树脂。8.散热构件，其具有权利要求7所述的复合体。9.氮化硼烧结体的制造方法，其具有：氮化工序，将碳化硼粉末在氮气氛下进行烧成而得到包含碳氮化硼的烧成物；和烧结工序，进行包含所述烧成物和烧结助剂的配合物的成型及加热，从而得到包含氮化硼粒子和气孔的氮化硼烧结体，所述烧结助剂含有硼化合物及钙化合物，相对于所述烧成物100质量份而言，所述配合物包含合计1～20质量份的、所述硼化合物及所述钙化合物。10.如权利要求9所述的氮化硼烧结体的制造方法，其中，所述烧结工序中得到的氮化硼烧结体的压缩弹性模量为1gpa以上。11.如权利要求9或10所述的氮化硼烧结体的制造方法，其中，相对于构成所述硼化合物的硼100原子％而言，所述配合物包含0.5～40原子％的构成所述钙化合物的钙。12.如权利要求9～11中任一项所述的氮化硼烧结体的制造方法，其中，所述烧结工序中得到的氮化硼烧结体为片状，厚度小于2mm。13.复合体的制造方法，其具有使树脂组合物含浸于由权利要求9～12中任一项所述的制造方法得到的氮化硼烧结体中的含浸工序，所述复合体具有所述氮化硼烧结体、和填充于该氮化硼烧结体的所述气孔的至少一部分中的树脂。

技术总结
本发明提供氮化硼烧结体，其为包含氮化硼粒子和气孔的氮化硼烧结体，且压缩弹性模量为1GPa以上。还提供氮化硼烧结体的制造方法，其具有：氮化工序，将碳化硼粉末在氮气氛下进行烧成而得到包含碳氮化硼的烧成物；和烧结工序，进行包含烧成物和烧结助剂的配合物的成型及加热，从而得到包含氮化硼粒子和气孔的氮化硼烧结体，烧结助剂含有硼化合物及钙化合物，相对于烧成物100质量份而言，配合物包含合计1～20质量份的、硼化合物及钙化合物。～20质量份的、硼化合物及钙化合物。～20质量份的、硼化合物及钙化合物。


技术研发人员：武田真 五十岚厚树
受保护的技术使用者：电化株式会社
技术研发日：2021.03.30
技术公布日：2022/11/11