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测量装置、测量方法以及程序与流程

2022-11-12 22:25:00 来源:中国专利 TAG:

技术特征:
1.一种测量装置,其特征在于,包括:引导光源部,拍摄部,以及测量部;所述引导光源部配置成输出引导光,并将其对多个测量基准点的测量面进行连续照射,其中所述测量基准点是到所述测量面的两点间的距离的一端;所述拍摄部配置成对第1测量基准点的所述测量面上的所述引导光的光点进行拍摄;所述测量部配置成基于拍摄到的所述光点的形状来计算所述测量面的倾斜度,并基于此来计算相当于所述第1测量基准点的下一个次数的第2测量基准点的深度。2.根据权利要求1所述的测量装置,其特征在于,还包括测量光源部以及测量光检测部,所述测量光源部配置成输出测量光,并将其照射至所述测量面,所述测量光检测部配置成测量所述测量光在所述测量面上的散乱光反射成分,所述测量部配置成基于所述散乱光反射成分连续地测量从测量开始点到所述测量面的所述测量光的反射点为止的距离即第1距离,并且计算所述第1距离与从所述测量基准点到所述测量开始点的距离即第2距离相加的测量距离,并由此来测量所述测量面的形状。3.根据权利要求2所述的测量装置,其特征在于,还包括拍摄控制部,所述拍摄控制部配置成调节所述拍摄部的位置或其焦点位置,以使所述深度进入所述拍摄部的景深内。4.根据权利要求3所述的测量装置,其特征在于,所述拍摄控制部配置成,基于所述拍摄部的位置或其焦点位置,使所述测量光源部从所述测量基准点移动至测量开始点。5.根据权利要求2至4中任一项所述的测量装置,其特征在于,还包括模式切换部,所述模式切换部配置成切换引导光模式和测量光模式,其中,所述引导光模式是所述引导光源部输出所述引导光的模式,所述测量光模式是所述测量光源部输出所述测量光的模式。6.根据权利要求2至5中任一项所述的测量装置,其特征在于,还包括存储部,所述存储部存储参照数据,其中所述参照数据是将相对于与所述引导光的照射方向垂直的面的梯度与各梯度中的所述光点的形状关联起来的数据,所述测量部配置成基于所述参照数据来计算所述测量面的倾斜度。7.根据权利要求6所述的测量装置,其特征在于,所述参照数据是学习了所述梯度与各梯度中所述光点的形状的相关性的已学习模型,所述测量部配置成基于所述已学习模型来计算所述测量面的倾斜度。8.根据权利要求2至7中任一项所述的测量装置,其特征在于,所述测量光源部是光梳(optical comb)光源。9.根据权利要求1至8中任一项所述的测量装置,其特征在于,
所述光点的形状是矩形。10.根据权利要求2至8中任一项所述的测量装置,其特征在于,还包括光度设定部,所述光度设定部基于所述测量面的倾斜度或在所述测量面反射的散乱光,来设定从所述测量光源部所输出的所述测量光的光度。11.一种测量方法,其特征在于,包括:引导光输出步骤,拍摄步骤,倾斜度测量步骤,拍摄控制步骤,测量光控制步骤,测量光输出步骤,测量光检测步骤,以及距离测量步骤;在所述引导光输出步骤中,输出引导光,并将其对多个测量基准点的测量面进行连续照射,其中所述测量基准点是到所述测量面的两点间的距离的一端;在所述拍摄步骤中,对第1测量基准点的所述测量面上的所述引导光的光点进行拍摄;在所述倾斜度测量步骤中,基于拍摄到的所述光点的形状来计算所述测量面的倾斜度,并基于此来计算相当于所述第1测量基准点的下一个次数的第2测量基准点的深度;在所述拍摄控制步骤中,调节拍摄部的位置或其焦点位置,以使所述深度进入所述拍摄部的景深内;在所述测量光控制步骤中,基于所述拍摄部的位置或其焦点位置,使测量光源部从所述测量基准点移动至测量开始点;在所述测量光输出步骤中,输出测量光,并将其照射至所述测量面;在所述测量光检测步骤中,检测所述测量光在所述测量面上的散乱光反射成分;在所述距离测量步骤中,基于所述散乱光反射成分连续地测量从所述测量开始点到所述测量面的所述测量光的反射点的距离即第1距离,计算所述第1距离与从所述测量基准点到所述测量开始点的距离即第2距离相加的测量距离,并由此来测量所述测量面的形状。12.一种程序,其特征在于,使计算机执行权利要求11所述的测量方法。

技术总结
根据本发明的一个方面,提供一种测量装置。所述测量装置包括引导光源部,拍摄部,以及测量部。引导光源部配置成输出引导光,并将其对多个测量基准点的测量面进行连续照射。测量基准点是到测量面的两点间的距离的一端。拍摄部配置成对第1测量基准点的测量面上的引导光的光点进行拍摄。测量部配置成基于拍摄到的光点的形状来计算测量面的倾斜度,并基于此来计算相当于第1测量基准点的下一个次数的第2测量基准点的深度。量基准点的深度。量基准点的深度。


技术研发人员:村木洋介
受保护的技术使用者:株式会社XTIA
技术研发日:2021.02.16
技术公布日:2022/11/11
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