一种牙膏增稠剂用沉淀二氧化硅的制备方法与流程

技术特征：
1.一种牙膏增稠剂用沉淀二氧化硅的制备方法，其特征在于，包括：(1)首先，配制水玻璃溶液，将硅酸钠添加到去离子水中，以200-250r/min转速搅拌40min，得到13-18wt％的水玻璃溶液；配制硫酸溶液，将硫酸缓慢添加到去离子水中，边添加边搅拌，直到溶液混合均匀，得到质量分数为40-50％的硫酸溶液；(2)将硫酸溶液添加到反应釜中，调节反应釜温度至80℃，然后在搅拌的条件下，先添加焦磷酸四钠，再滴加水玻璃溶液，待水玻璃溶液滴加结束后，控制反应ph在8.0-9.0，反应50-60min，然后再继续添加硫酸溶液，直至反应ph至4.0-5.0，然后调节温度至85-95℃，保温；(3)在ph值保持在4.5-5.0范围内的条件下，将反应釜内抽至真空，然后进行二次加料，向反应釜中滴加与步骤(2)等量的水玻璃溶液，待水玻璃溶液滴加结束后，继续加入硫酸溶液，直至反应ph控制在4.0-4.2范围内，搅拌陈化30min，再经过压滤、洗涤、制浆、喷雾干燥，得到二氧化硅颗粒；(4)将得到的二氧化硅颗粒粉碎至平均粒度为8-10微米，得到牙膏增稠剂用沉淀二氧化硅。2.根据权利要求1所述的一种牙膏增稠剂用沉淀二氧化硅的制备方法，其特征在于，所述水玻璃溶液的模数为3.3-3.5，透明度大于210mm。3.根据权利要求1所述的一种牙膏增稠剂用沉淀二氧化硅的制备方法，其特征在于，所述去离子水的电导率为15μs/cm。4.根据权利要求1所述的一种牙膏增稠剂用沉淀二氧化硅的制备方法，其特征在于：所述焦磷酸四钠添加量为水玻璃溶液质量的0.8-1.2％。5.根据权利要求1所述的一种牙膏增稠剂用沉淀二氧化硅的制备方法，其特征在于，所述抽真空的真空度为0.02-0.05pa。6.根据权利要求1所述的一种牙膏增稠剂用沉淀二氧化硅的制备方法，其特征在于，所述牙膏增稠剂用沉淀二氧化硅的rda摩擦值在100-150之间。7.根据权利要求1所述的一种牙膏增稠剂用沉淀二氧化硅的制备方法，其特征在于：所述牙膏增稠剂用沉淀二氧化硅的ph在5.5-8.5之间。8.根据权利要求1所述的一种牙膏增稠剂用沉淀二氧化硅的制备方法，其特征在于：所述牙膏增稠剂用沉淀二氧化硅中二氧化硅纯度≥96％。9.根据权利要求1所述的一种牙膏增稠剂用沉淀二氧化硅的制备方法的制备方法，其特征在于：所述牙膏增稠剂用沉淀二氧化硅吸水量＜50ml/20g。10.根据权利要求1所述的一种牙膏增稠剂用沉淀二氧化硅的制备方法的制备方法，其特征在于：所述牙膏增稠剂用沉淀二氧化硅折光指数为1.43-1.46n。

技术总结
本发明涉及牙膏增稠剂技术领域，且公开了一种牙膏增稠剂用沉淀二氧化硅的制备方法，包括：(1)首先，配制水玻璃溶液，配制硫酸溶液；(2)将硫酸溶液添加到反应釜中，调节反应釜温度，先添加焦磷酸四钠，再滴加水玻璃溶液，待水玻璃溶液滴加结束后，控制反应pH，然后再继续添加硫酸溶液，直至反应pH至4.0-5.0，然后调节温度，保温；(3)得到二氧化硅颗粒；(4)将得到的二氧化硅颗粒粉碎，得到牙膏增稠剂用沉淀二氧化硅；本发明制备的牙膏增稠剂用沉淀二氧化硅，产品摩擦值RDA在100-150范围内，牙膏上的RDA指代牙膏的摩擦值,数值越高代表的摩擦力也就越高，去除牙菌斑和牙垢的能力也就越强，吸水量高于50ml/20g，比表面积在70-110m2/g范围内。围内。围内。


技术研发人员：于方琪 毛善兵 王永庆 马加佳
受保护的技术使用者：确成硅化学股份有限公司
技术研发日：2022.09.01
技术公布日：2022/11/11