一种热熔胶复合镭射膜的制作方法

技术特征：
1.一种热熔胶复合镭射膜，其特征在于，包括依次层叠的基层(1)、离型层(2)、镭射膜层(3)和热熔胶层(4)，所述离型层(2)的厚度为0.2-0.4μm，所述热熔胶层(4)为热熔胶膜，热熔胶膜与镭射膜层(3)相互粘结。2.根据权利要求1所述的一种热熔胶复合镭射膜，其特征在于，所述基层(1)可剥离。3.根据权利要求2所述的一种热熔胶复合镭射膜，其特征在于，所述基层(1)为pet膜，厚度为10-15μm。4.根据权利要求2所述的一种热熔胶复合镭射膜，其特征在于，所述基层(1)为离型纸层。5.根据权利要求1所述的一种热熔胶复合镭射膜，其特征在于，所述热熔胶膜的厚度为10-30μm。6.根据权利要求1所述的一种热熔胶复合镭射膜，其特征在于，所述镭射膜层(3)包括保护层(5)、信息层(6)和阻隔层(7)，所述保护层(5)、信息层(6)和阻隔层(7)依次层叠于离型层(2)远离基层(1)的一侧。7.根据权利要求6所述的一种热熔胶复合镭射膜，其特征在于，所述保护层(5)的厚度为0.4-0.6μm，阻隔层(7)为镀铝层或硫化锌层，阻隔层(7)的厚度为0.05-0.07μm。8.根据权利要求6所述的一种热熔胶复合镭射膜，其特征在于，所述信息层(6)包括若干信息单层(8)，每层信息单层(8)的厚度为1-2μm。9.根据权利要求8所述的一种热熔胶复合镭射膜，其特征在于，每层信息单层(8)均形成带有信息的色彩和花形。10.根据权利要求6所述的一种热熔胶复合镭射膜，其特征在于，所述信息层(6)压印有镭射纹路，所述镭射纹路延伸至保护层(5)内，镭射纹路深入保护层(5)的厚度为0.2-0.3μm。

技术总结
本实用新型公开一种热熔胶复合镭射膜，涉及镭射膜技术领域，其技术方案要点是：包括依次层叠的基层、离型层、镭射膜层和热熔胶层，所述离型层的厚度为0.2-0.4μm，所述热熔胶层为热熔胶膜，热熔胶膜与镭射膜层相互粘结。本实用新型中镭射复合膜的一侧以热熔胶膜层形成膜状的支撑，并可直接进行热压粘结，方便镭射膜层的复合粘结，而在复合镭射膜的另一侧表面设置可剥离的基层，可对镭射膜层表面进行保护。护。护。


技术研发人员：南金花 朱明星 李庆伟 陇应高
受保护的技术使用者：绍兴东佑新材料科技有限公司
技术研发日：2022.08.30
技术公布日：2022/11/10