基板传送系统和基板传送系统的使用方法与流程

技术特征：
1.一种用于电子装置处理系统的传送腔室，包含：第一磁悬浮轨道，设置于所述传送腔室之中的第一高度处，其中所述第一磁悬浮轨道具有面向上定向，所述面向上定向构造成在所述第一磁悬浮轨道上方产生第一磁场；第二磁悬浮轨道，设置于所述传送腔室之中的第二高度处，其中所述第二磁悬浮轨道具有面向下定向，所述面向下定向构造成在所述第一磁悬浮轨道下方产生第二磁场；和至少一个升降杆组件，所述至少一个升降杆组件构造成在所述第一磁悬浮轨道和所述第二磁悬浮轨道之间于垂直方向中移动多个基板载具。2.如权利要求1所述的传送腔室，进一步包含多个基板载具，所述多个基板载具构造成沿着所述第一磁悬浮轨道和所述第二磁悬浮轨道移动，其中所述多个基板载具的各个基板载具在所述基板载具的底部上包含第一磁体，以与所述第一磁场相互作用，且在所述基板载具的顶部上包含第二磁体，以与所述第二磁场相互作用。3.如权利要求1所述的传送腔室，其中所述传送腔室包含多个口，且其中所述多个口的各个口构造成准许对处理腔室的进出。4.如权利要求3所述的传送腔室，其中所述传送腔室包含长度和宽度，其中所述长度的第一尺寸大于所述宽度的第二尺寸数个数量级，且其中所述多个口沿着所述传送腔室的所述长度设置。5.如权利要求4所述的传送腔室，进一步包含额外口，所述额外口构造成准许对装载锁定件的进出，其中所述额外口沿着所述传送腔室的所述宽度设置于所述传送腔室的第一端处。6.如权利要求5所述的传送腔室，其中所述传送腔室的所述宽度不小于所述装载锁定件的宽度或基板的宽度。7.如权利要求1所述的传送腔室，其中所述第一磁悬浮轨道构造成沿着所述传送腔室的所述长度在第一方向中移动所述多个基板载具的一个或多个基板载具，且其中所述第二磁悬浮轨道构造成沿着所述传送腔室的所述长度在第二方向中移动所述多个基板载具的一个或多个基板载具，其中所述第二方向与所述第一方向相对。8.如权利要求2所述的传送腔室，其中所述多个基板载具的一个基板载具包含用于保持基板的终端受动器，其中所述第一磁悬浮轨道或所述第二磁悬浮轨道的至少一个磁悬浮轨道构造成使所述基板载具旋转，以放置所述基板至处理腔室中。9.如权利要求3所述的传送腔室，其中所述多个口是多个狭缝阀，其中所述多个狭缝阀的至少第一子集的第一传送平面对与所述第一磁悬浮轨道接合的所述多个基板载具的基板载具可进出。10.如权利要求9所述的传送腔室，其中所述多个狭缝阀的第二子集的第二传送平面对与所述第二磁悬浮轨道接合的所述多个基板载具的基板载具可进出。11.如权利要求3所述的传送腔室，其中所述多个口是多个狭缝阀，其中所述多个狭缝阀的至少一些狭缝阀具有第一晶片传送平面和在所述第一晶片传送平面上方的第二晶片传送平面，所述第一晶片传送平面对与所述第一磁悬浮轨道接合的所述多个基板载具的基板载具可进出，且其中所述第二晶片传送平面对与所述第二磁悬浮轨道接合的所述多个基板载具的基板载具可进出。12.如权利要求3所述的传送腔室，其中所述多个口是多个狭缝阀，其中所述多个狭缝
阀的至少一些狭缝阀的共同传送平面对与所述第一磁悬浮轨道接合的所述多个基板载具的基板载具可进出，且对与所述第二磁悬浮轨道接合的所述多个基板载具的基板载具可进出。13.如权利要求1所述的传送腔室，其中所述第一轨道和所述第二轨道以约40mm至约300mm的距离间隔开来。14.一种电子装置处理系统，包含：传送腔室，包含：第一磁悬浮轨道，设置于所述传送腔室之中的第一高度处，其中所述第一磁悬浮轨道具有面向上定向，所述面向上定向构造成在所述第一磁悬浮轨道上方产生第一磁场；第二磁悬浮轨道，设置于所述传送腔室之中的第二高度处，其中所述第二磁悬浮轨道具有面向下定向，所述面向下定向构造成在所述第一磁悬浮轨道下方产生第二磁场；多个基板载具，构造成沿着所述第一磁悬浮轨道和所述第二磁悬浮轨道移动，其中所述多个基板载具的各个基板载具在所述基板载具的底部上包含第一磁体，以与所述第一磁场相互作用，且在所述基板载具的顶部上包含第二磁体，以与所述第二磁场相互作用；和至少一个升降杆组件，构造成在所述第一磁悬浮轨道和所述第二磁悬浮轨道之间于垂直方向中移动所述多个基板载具；多个处理腔室，沿着所述传送腔室的长度连接至所述传送腔室；和第一装载锁定件，连接至所述传送腔室的一端。15.如权利要求14所述的电子装置处理系统，其中所述第一装载锁定件对与所述第一磁悬浮轨道接合的所述多个基板载具的基板载具可进出，所述电子装置处理系统进一步包含：第二装载锁定件，在所述传送腔室的所述端处堆叠在所述第一装载锁定件上方，其中所述第二装载锁定件对与所述第二磁悬浮轨道接合的所述多个基板载具的基板载具可进出。16.如权利要求14所述的电子装置处理系统，其中在所述传送腔室的所述端处接近所述第一装载锁定件的所述传送腔室的第一高度大于所述传送腔室的其余部分的第二高度，所述传送腔室进一步包含：升降杆组件，所述升降杆组件构造成以垂直方向移动定位于所述第一装载锁定件的前方的所述多个基板载具的基板载具，以造成所述基板载具到达在所述第二高度上方的传送平面。17.如权利要求14所述的电子装置处理系统，其中所述传送腔室包含长度和宽度，其中所述长度的第一尺寸大于所述宽度的第二尺寸数个数量级，且其中所述多个口沿着所述传送腔室的所述长度设置：可选地，其中所述传送腔室的所述宽度大约等于所述装载锁定件的宽度或基板的宽度。18.如权利要求14所述的电子装置处理系统，其中所述第一磁悬浮轨道构造成沿着所述传送腔室的所述长度在第一方向中移动所述多个基板载具的一个或多个基板载具，且其中所述第二磁悬浮轨道构造成沿着所述传送腔室的所述长度在第二方向中移动所述多个基板载具的一个或多个基板载具，其中所述第二方向与所述第一方向相对。
19.一种在传送腔室中移动一个或多个基板的方法，包含以下步骤：通过与第一磁悬浮轨道接合的第一基板载具从装载锁定件取回第一基板，所述第一磁悬浮轨道定位靠近所述传送腔室的底表面，其中所述第一磁悬浮轨道具有面向上定向，所述面向上定向构造成在所述第一磁悬浮轨道上方产生第一磁场；通过所述第一磁悬浮轨道产生所述第一磁场，以沿着所述第一磁悬浮轨道在第一方向中移动具有所述第一基板的所述第一基板载具；以第一升降杆组件举升具有所述第一基板的所述第一基板载具至第二磁悬浮轨道，所述第二磁悬浮轨道定位靠近所述传送腔室的顶部表面，其中所述第二磁悬浮轨道具有面向下定向，所述面向下定向构造成在所述第一磁悬浮轨道下方产生第二磁场；侦测所述第一基板载具靠近所述第二磁悬浮轨道；和产生所述第二磁场以在所述第二磁悬浮轨道下方悬吊所述第一基板载具，且沿着所述第二磁悬浮轨道在第二相对方向中移动具有所述第一基板的所述第一基板载具。20.如权利要求19所述的方法，进一步包含以下步骤：以第二升降杆组件举升具有所述第二基板的所述第二基板载具至所述第二磁悬浮轨道；侦测所述第二基板载具靠近所述第二磁悬浮轨道；产生所述第二磁场以在所述第二磁悬浮轨道下方悬吊所述第二基板载具，且沿着所述第二磁悬浮轨道在所述第二方向中移动具有所述第二基板的所述第二基板载具。

技术总结
本文公开涉及用于电子装置处理系统的传送腔室的系统和方法。传送腔室可包括具有面向上定向的第一磁悬浮轨道和与第一磁悬浮轨道分隔开且具有面向下定向的第二磁悬浮轨道。系统可包括沿着第一磁悬浮轨道和第二磁悬浮轨道移动的基板载具，其中各个基板载具包括在底部部分上与第一磁场相互作用的磁体和在顶部部分上与第二磁场相互作用的第二磁体。系统亦可包括至少一个升降杆组件，在垂直方向中于第一磁悬浮轨道与第二磁悬浮轨道之间移动基板载具。载具。载具。


技术研发人员：亚历克斯
受保护的技术使用者：应用材料公司
技术研发日：2021.03.19
技术公布日：2022/11/8