1.本实用新型涉及一种圆盘式平台曝光机。
背景技术：
2.现有的曝光机的上料方式一般为单个台面或是双台面方式作为工件置换到工作台面上的机构设计方式，如cn206292532u一种双台面直写曝光机 ,台面驱动分为2个轴各自驱动各自的移动方向轴，如要交换工件时需要各自驱动各自台面到交换工件位做工件交换，同一台面无法同时进行上下料及工艺动作。
技术实现要素：
3.本实用新型的目的在于解决现有曝光装置的同一上料台面无法同时进行上下料和曝光操做的问题。
4.为解决本实用新型所提出的技术问题采用的技术方案为：本实用新型的圆盘式平台曝光机包括有底座，设于底座上的上料机构，以及曝光机构，所述的上料机构包括有设于底座上的上料转盘，上料转盘的一侧为左上料转盘，上料转盘的另一侧为右上料转盘，对应左上料转盘上方设有横跨座左上料转盘的摄像头支架，摄像头支架上设有一个以上的用于工件曝光找正的摄像头，摄像头沿摄像头支架方向滑动设置，所述的底座上设有驱动摄像头支架沿底座滑动的摄像头支架驱动机构；对应右上料转盘上方设有横跨座右上料转盘的曝光装置支架，曝光装置支架上设有一个以上的曝光装置，曝光装置沿曝光装置支架方向滑动设置，所述的底座上设有驱动曝光装置支架沿底座滑动的曝光装置支架驱动机构。
5.对本实用新型作进一步限定的技术方案包括：
6.所述的摄像头支架上设有驱动摄像头滑动的摄像头直线电机驱动。
7.所述的曝光装置支架上设有驱动曝光装置滑动的曝光装置直线电机驱动。
8.所述摄像头支架驱动机构为直线电机驱动机构。
9.所述摄曝光装置支架驱动机构为直线电机驱动机构。
10.通过上述技术方案，本实用新型的有益效果为：本实用新型的圆盘式平台曝光机使用时，可以在左上料转盘上料，然后摄像头移动对工件进行原点找正，找正完成后，上料转盘转动，左上料转盘和右上料转盘交换位置，然后曝光装置对左上料转盘上的工件进行曝光，同时右上料转盘可以进行上料，上料完毕，对右上料转盘上的工件进行原点找正，然后左上料转盘和右上料转盘再进行交换位置，曝光装置对右上料转盘上的工件进行曝光，同时可以将左上料转盘上曝光完成的工件进行下料，左上料转盘下料完毕，在进行左上料转盘的上料，依次循环，从而同一台面可以同时进行上下料以及曝光动作，节省了曝光时间和上下料时间。
附图说明
11.图1为本实用新型一种圆盘式平台曝光机的立体结构示意图。
具体实施方式
12.以下结合附图对本实用新型的结构做进一步说明。
13.参照图1，本实用新型的一种圆盘式平台曝光机包括有底座1，设于底座上的上料机构2，以及曝光机构3，上料机构2包括有设于底座上的上料转盘21，上料转盘21的一侧为左上料转盘211，上料转盘的另一侧为右上料转盘212，对应左上料转盘上方设有横跨座左上料转盘的摄像头支架3，摄像头支架上设有一个以上的用于工件曝光找正的摄像头4，摄像头沿摄像头支架方向滑动设置，底座上设有驱动摄像头支架沿底座滑动的摄像头支架驱动机构；对应右上料转盘上方设有横跨座右上料转盘的曝光装置支架5，曝光装置支架上设有一个以上的曝光装置6，曝光装置沿曝光装置支架方向滑动设置，底座上设有驱动曝光装置支架沿底座滑动的曝光装置支架驱动机构。本实施例中，摄像头支架上设有驱动摄像头滑动的摄像头直线电机驱动。摄像头直线电机驱动驱动摄像头沿曝光装置支架移动，摄像头支架驱动机构为直线电机驱动机构，摄像头支架驱动机构驱动摄像头支架在底座上滑动，摄像头对工件进行曝光位置找正。本实施例中，曝光装置支架上设有驱动曝光装置滑动的曝光装置直线电机驱动。曝光装置支架驱动机构为直线电机驱动机构。曝光装置支架驱动机构驱动曝光装置支架在底座上滑动，曝光装置对工件进行曝光。
14.使用时，可以在左上料转盘上料，然后摄像头移动对工件进行原点找正，找正完成后，上料转盘转动，左上料转盘和右上料转盘交换位置，然后曝光装置对左上料转盘上的工件进行曝光，同时右上料转盘可以进行上料，上料完毕，对右上料转盘上的工件进行原点找正，然后左上料转盘和右上料转盘再进行交换位置，曝光装置对右上料转盘上的工件进行曝光，同时可以将左上料转盘上曝光完成的工件进行下料，左上料转盘下料完毕，在进行左上料转盘的上料，依次循环，从而同一台面可以同时进行上下料以及曝光动作，节省了曝光时间和上下料时间。
15.虽然结合附图对本实用新型的具体实施方式进行了详细地描述，但不应理解为对本实用新型的保护范围的限定。在权利要求书所描述的范围内，本领域技术人员不经创造性劳动即可做出的各种修改和变形仍属于本实用新型的保护范围。
技术特征：
1.一种圆盘式平台曝光机，包括有底座，设于底座上的上料机构，以及曝光机构，其特征在于：所述的上料机构包括有设于底座上的上料转盘，上料转盘的一侧为左上料转盘，上料转盘的另一侧为右上料转盘，对应左上料转盘上方设有横跨座左上料转盘的摄像头支架，摄像头支架上设有一个以上的用于工件曝光找正的摄像头，摄像头沿摄像头支架方向滑动设置，所述的底座上设有驱动摄像头支架沿底座滑动的摄像头支架驱动机构；对应右上料转盘上方设有横跨座右上料转盘的曝光装置支架，曝光装置支架上设有一个以上的曝光装置，曝光装置沿曝光装置支架方向滑动设置，所述的底座上设有驱动曝光装置支架沿底座滑动的曝光装置支架驱动机构。2.如权利要求1所述的一种圆盘式平台曝光机，其特征在于：所述的摄像头支架上设有驱动摄像头滑动的摄像头直线电机驱动。3.如权利要求1所述的一种圆盘式平台曝光机，其特征在于：所述的曝光装置支架上设有驱动曝光装置滑动的曝光装置直线电机驱动。4.如权利要求1所述的一种圆盘式平台曝光机，其特征在于：所述摄像头支架驱动机构为直线电机驱动机构。5.如权利要求1所述的一种圆盘式平台曝光机，其特征在于：所述曝光装置支架驱动机构为直线电机驱动机构。
技术总结
本实用新型涉及一种圆盘式平台曝光机，解决现有曝光装置的同一上料台面无法同时进行上下料和曝光操做的问题。包括有底座，设于底座上的上料机构，以及曝光机构，使用时，可以在左上料转盘上料，然后摄像头移动对工件进行原点找正，找正完成后，上料转盘转动，左上料转盘和右上料转盘交换位置，然后曝光装置对左上料转盘上的工件进行曝光，同时右上料转盘可以进行上料，上料完毕进行原点找正，然后左上料转盘和右上料转盘再进行交换位置，曝光装置对右上料转盘上的工件进行曝光，同时可以将左上料转盘上曝光完成的工件进行下料，然后在进行左上料转盘的上料，依次循环，从而同一台面可以同时进行上下料以及曝光动作，节省了曝光时间和上下料时间。和上下料时间。和上下料时间。
技术研发人员：蔡志国 江俊龙 刘振良
受保护的技术使用者：深圳凯世光研股份有限公司
技术研发日：2022.06.01
技术公布日：2022/9/13
再多了解一些
本文用于企业家、创业者技术爱好者查询，结果仅供参考。