一种显示模组及其制备方法、电子设备与流程

1.本公开涉及显示技术领域，特别涉及一种显示模组及其制备方法、电子设备。


背景技术：

2.随着有机发光二极管(oled，organic light-emitting diode)面板的技术逐渐成熟，不同oled显示产品在设计和显示效果上的差异正在大幅度缩小，进而对产品成本的控制以及产品性能提出了更高的要求。


技术实现要素：

3.本公开实施例的目的在于提供一种显示模组及其制备方法、电子设备，用以解决现有技术中对产品成本的控制以及产品性能提出了更高要求的问题。
4.本公开的实施例采用如下技术方案：一种显示模组，包括：基板，所述基板包括多个阵列排布的像素区域以及用以划分所述像素区域的布线区域；设置在所述基板一侧表面的薄膜晶体管层；设置在所述薄膜晶体管层远离所述基板一侧的oled层，所述oled层中包括与所述像素区域一一对应的发光单元；设置在所述oled层远离所述薄膜晶体管层一侧的触控感应层，所述触控感应层在第一方向上的正投影被所述布线区域在所述第一方向上的正投影完全覆盖，所述第一方向为垂直与所述基板表面的方向；其中，所述触控感应层至少包括依次设置在所述oled层上的信号传输线、第一绝缘层以及触控信号线；所述信号传输线至少包括第一图形走线，所述第一图形走线与所有所述发光单元的阴极连通。
5.在一些实施例中，所述触控信号线包括多个按阵列排布的触控电极区域，每个所述触控电极区域内包括一个或多个相邻的所述像素区域。
6.在一些实施例中，所述信号传输线还包括第二图形走线，所述第二图形走线与所述第一图形走线之间不具有重合走线，并且所述第二图形走线与任意一个所述发光单元的阴极均不连通；所述第一绝缘层与所述第二图形走线对应的区域内开设有桥接孔，位于同一列中两个相邻的所述触控电极区域之间的所述触控信号线基于所述桥接孔与所述第二图形走线连接，以实现相邻的所述触控电极区域之间的信号传输。
7.在一些实施例中，所述触控感应层还包括第二绝缘层，所述第二绝缘层设置在所述触控信号线远离所述第一绝缘层一侧。
8.在一些实施例中，在所述第二绝缘层远离所述触控信号线的一侧表面的预设位置设置支撑结构，相邻的所述预设位置之间的距离大于或等于预设距离。
9.在一些实施例中，还包括：设置在所述触控感应层远离所述oled层一侧的平坦层和封装保护层。
10.本公开实施例还提供了一种显示模组的制备方法，用于制备如上述的显示模组，所述制备方法基于如下步骤实现：在基板表面制备薄膜晶体管层，其中，所述基板包括多个阵列排布的像素区域以及用以划分所述像素区域的布线区域；在所述薄膜晶体管层远离所述基板一侧制备oled层中各个发光单元的阳极层、像素定义层以及阻隔层，所述发光单元
与所述像素区域一一对应，所述像素定义层对应所述像素区域的位置具有开口；在所述阻隔层远离所述薄膜晶体管层的一侧制备触控感应层，所述触控感应层在第一方向上的正投影被所述布线区域在所述第一方向上的正投影完全覆盖，所述第一方向为垂直与所述基板表面的方向，其中，所述触控感应层至少包括依次设置在所述oled层上的信号传输线、第一绝缘层以及触控信号线，所述信号传输线至少包括第一图形走线；刻蚀掉所有所述像素区域对应的阻隔层，并在所有所述像素区域内的所述阳极层远离所述薄膜晶体管层的一侧依次制备发光层和阴极层，使所有所述阴极层与所述第一图形走线连通。
11.在一些实施例中，所述触控信号线包括多个按阵列排布的触控电极区域，每个所述触控电极区域内包括一个或多个相邻的所述像素区域；所述在所述像素定义层远离所述薄膜晶体管层的一侧制备触控感应层，包括：制备具有第二图形走线的所述信号传输线，所述第二图形走线与所述第一图形走线之间不具有重合走线，并且所述第二图形走线与任意一个所述发光单元的阴极均不连通；在所述第一绝缘层与所述第二图形走线对应的区域内开设桥接孔，使位于同一列中两个相邻的所述触控电极区域之间的所述触控信号线基于所述桥接孔与所述第二图形走线连接。
12.在一些实施例中，所述在所述像素定义层远离所述薄膜晶体管层的一侧制备触控感应层，包括：在所述触控信号线远离所述第一绝缘层一侧制备第二绝缘层，并且在所述第二绝缘层远离所述触控信号线的一侧表面的预设位置设置支撑结构，相邻的所述预设位置之间的距离大于或等于预设距离。
13.在一些实施例中，还包括：在所述触控感应层远离所述oled层的一侧制备平坦层和封装保护层。
14.本公开实施例还提供了一种电子设备，至少包括如上述的显示模组。
15.本公开实施例的有益效果在于：通过调整显示模组的膜层结构，将触控感应层的位置向基板一侧下沉调整，并利用触控感应层中的传输信号线所形成的第一图形走线作为oled发光单元阴极的信号输入走线，使显示模组的整体厚度降低，实现产品成本的节约；并且在制备过程中将触控感应层的制备工序提至发光单元的发光材料制作之前，进而在制备过程中提升触控感应层的膜层性能，使显示模组在制备材料和工艺不变的情况下实现质量的提升。
附图说明
16.为了更清楚地说明本公开实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本公开中记载的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
17.图1为现有技术中显示模组的层级截面示意图；
18.图2为本公开第一实施例中显示模组的层级截面示意图；
19.图3为本公开第一实施例中信号传输线的设置示意图；
20.图4为本公开第一实施例中触控电极区域的设置示意图；
21.图5为本公开第一实施例中桥接区域的层级截面示意图；
22.图6为本公开第一实施例中支撑结构的层级截面示意图；
23.图7为本公开第二实施例中显示模组的制备方法流程图。
具体实施方式
24.此处参考附图描述本公开的各种方案以及特征。
25.应理解的是，可以对此处申请的实施例做出各种修改。因此，上述说明书不应该视为限制，而仅是作为实施例的范例。本领域的技术人员将想到在本公开的范围和精神内的其他修改。
26.包含在说明书中并构成说明书的一部分的附图示出了本公开的实施例，并且与上面给出的对本公开的大致描述以及下面给出的对实施例的详细描述一起用于解释本公开的原理。
27.通过下面参照附图对给定为非限制性实例的实施例的优选形式的描述，本公开的这些和其它特性将会变得显而易见。
28.还应当理解，尽管已经参照一些具体实例对本公开进行了描述，但本领域技术人员能够确定地实现本公开的很多其它等效形式，它们具有如权利要求的特征并因此都位于借此所限定的保护范围内。
29.当结合附图时，鉴于以下详细说明，本公开的上述和其他方面、特征和优势将变得更为显而易见。
30.此后参照附图描述本公开的具体实施例；然而，应当理解，所申请的实施例仅仅是本公开的实例，其可采用多种方式实施。熟知和/或重复的功能和结构并未详细描述以避免不必要或多余的细节使得本公开模糊不清。因此，本文所申请的具体的结构性和功能性细节并非意在限定，而是仅仅作为权利要求的基础和代表性基础用于教导本领域技术人员以实质上任意合适的详细结构多样地使用本公开。
31.本说明书可使用词组“在一种实施例中”、“在另一个实施例中”、“在又一实施例中”或“在其他实施例中”，其均可指代根据本公开的相同或不同实施例中的一个或多个。
32.随着oled面板的技术逐渐成熟，不同oled显示产品在设计和显示效果上的差异正在大幅度缩小，进而对产品成本的控制以及产品性能提出了更高的要求。图1示出了现有技术中oled显示产品的显示模组的层级截面示意图，其从下至上依次为基板、用于实现发光控制的薄膜晶体管(tft)层，包括但不限于图中所示的源漏极(sd2)、绝缘层(pln2)等；sd2与发光单元的阳极(anode)连接，通过tft实现对阳极的控制，阳极上设置有发光(el)材料和阴极层，在tft的控制下实现发光，hpdl层为像素定义层，利用hpdl层上开口的设置体现出像素区域，未开口的位置则可进行其他走线的布置，cvd1、ijp以及cvd2层等作为封装、平坦、绝缘等功能性层级依次设置在发光单元的阴极层表面，在特定位置的hpdl层表面还设置有ps层，主要用作发光层和阴极层制作时掩膜板(mask)的支撑结构；发光功能层上表面形成平面后在阻隔层barrier表面制作触控感应(touch sensor panel，tsp)相关的功能层级，包括但不限于用于实现触控信号传输的tmb走线，桥接区域内用于进行tmb走线跳线设置的tma走线，以及层间绝缘和保护作用的tld层、toc层等，上方还可以设置其他封装保护层，如玻璃盖板等，图1中未进行示出。现有技术中显示模组在进行制作时优先进行了发光单元相关层级的制作，进而导致在后续进行tsp层级制作时只能采用低温工艺进行，导致显示模组制作成本上升并且tsp膜层性能无法充分发挥出来，使制作成本增加，产品性能较
差。
33.为了解决上述问题，本实施例提供了一种显示模组，其层级截面示意图如图2所示，主要包括如下层级结构：
34.基板10，即用于承载显示模组各个层级的基板，其可以是玻璃基板或pi衬底，其表面可以划分为多个按照阵列排布的像素区域以及用于划分各个像素区域的布线区域，像素区域所对应的位置主要用于制作oled发光单元，布线区域所对应的位置则主要用于进行触控相关走线的布置。
35.在基板10的表面(即图2中基板10的上侧)设置有薄膜晶体管层20，薄膜晶体管层20中对应设置有多个薄膜晶体管tft，tft与像素区域一一对应，并通过tft与发光单元的阳极连接，实现通过tft的源极或漏极向阳极施加电压使发光单元发光。需要注意的是，图2中并未完全示出tft的层级结构，仅体现了tft的sd2(即源极或漏极)以及tft内的绝缘层pln1和pln2，由于其制备方式和结构设计均与现有技术相同，本实施例在此不进行详细赘述。
36.如图2所示，在薄膜晶体管层20远离基板10的一侧(即图2中薄膜晶体管层20的上侧)设置有oled层30，其主要包括与像素区域一一对应的多个发光单元，并通过tft的控制实现发光单元的发光。具体地，发光单元主要包括在薄膜晶体管层20表面依次设置阳极层31、发光层32以及阴极层33，其中，对于一个发光单元来说，其阳极层31完全覆盖与其对应的像素区域，其上设置有像素定义层34，并且在像素定义层34上设有开口，并通过开口大小限定出像素区域的大小，在对应开口处进行发光层32和阴极层33的制作。
37.区别与现有技术的结构，在本实施例中，触控感应层40(tsp)所包含的相关层级并未设置在封装后的oled层30表面，而是在像素定义层34表面与布线区域对应的位置处进行层级制作，即触控感应层40在第一方向上的正投影被布线区域在第一方向上的正投影完全覆盖，第一方向为垂直与基板表面的方向。具体地，触控感应层40至少包括依次设置在oled层30表面上的信号传输线41、第一绝缘层42以及触控信号线43，其中，触控信号线43主要用于实现触控功能，信号传输线41则主要用于进行各类信号的传递。本实施例中的信号传输线41所形成的图案至少包括第一图形走线411，并且第一图形走线411与oled层30内的所有发光单元的阴极层33连通，以通过信号传输线41向发光单元的阴极层33输入电信号，实现所有发光单元的阴极层33的统一控制，并在实际操作时利用tft向需要进行发光的发光单元的阳极层31输入电信号，实现发光效果。
38.需要了解的是，本实施例所提供的显示模组的层级结构在具体制备时，应当在制备完阳极层31以及像素定义层24之后，在其表面制备一阻隔层50以实现像素区域和布线区域的全覆盖，在后续制备过程中保护阳极材料，随后进行触控感应层40的相关层级的制备，并根据像素区域的位置按照第一图形走线进行信号传输线41的制备，形成阴极搭接线路，在触控感应层40的其他层级制备完毕后，刻蚀掉阳极层31表面与对应的阻隔层50材料，并在裸露出的阳极层表面上依次制作发光层32以及阴极层33，使阴极层33通过预留的传输信号线41的阴极搭接线路实现与传输信号线41的连通。
39.图3示出了信号传输线41的设置示意图。如图3所示，每一个六边形格子代表一个像素区域，而形成像素区域的实线则对应为信号传输线41所呈现的第一图形走线411，每个像素区域均与第一图形走线连接411，实现所有像素区域内发光单元的阴极的连通。本实施例通过对显示模组层级结构的调整，将触控感应层40的相关层级向下调整，无需优先制备
oled封装的相关层级结构即可直接进行布线设置，实现了显示模组整体结构厚度的降低。与此同时，因层级的变化所导致的制备工序的调整，可以在阴极层和发光层制备之前优先通过高温沉积制作tsp膜层，避免因阴极层和发光层的存在影响tsp膜层的沉积温度，导致其性能下降，无法实现其最优特性。
40.进一步地，触控信号线43主要用于实现显示模组的触控功能，结合像素区域的设置，触控信号线43被划分为多个按照阵列排布的触控电极区域100，如图4所示，对于单个触控电极区域100来说，其内部可以只包括一个独立的像素区域，也可以包括相邻的多个像素区域，位于同一列的触控电极区域100为触控信号的供电发射极(tx)，位于同一行的触控电极区域100则为触控信号的接收极(rx)。处于同一行的两个触控电极区域100之间可以利用边界处相邻的两个像素区域所共用的触控信号线43实现信号的传递，而位于同一列的相邻两个触控电极区域100之间则由于横向的rx极设置，无法实现直接连通。为了解决上述问题，本实施例中的显示模组在进行信号传输线41的制备时，在同一列中的两个相邻的触控电极区域100的桥接区域101内对应形成第二图形走线412，如图3中的虚线位置所示，并在第一绝缘层42与第二图形走线412对应的区域内开设桥接孔421，对应层级截面示意图如图5所示，实现触控信号线43在桥接区域内通过桥接孔421与第二图形走线412连接，并利用第二图形走线412实现跳线，完成同列中触控电极区域100的连接。需要注意的是，本实施例中的第二图形走线412仅用于实现触控信号线43的桥接功能，因此其不与第一图形走线411存在重合的走线，也并未与任何一个发光单元的阴极连通，仅通过在桥接区域的设置实现触控信号线的连通功能。
41.如图2所示，在实际制备触控感应层40时，在触控信号线43远离第一绝缘层42的一侧还设置有第二绝缘层44，主要用于实现触控信号线43的封装保护。在一些实施例中，进行发光层32和阴极层33的制备过程中，需要通过掩膜板来进行相应层级材料的蒸镀，而在设置掩膜板时则需要在当前已有的层级结构上进行支撑结构的设计，用以实现掩膜板的支撑，现有技术中需要在hpdl层上额外进行ps结构的设置以实现支撑效果，进一步导致显示模组层级厚度的增加。本实施例中，在将触控感应层40的相关结构下沉之后，可直接利用第二绝缘层44进行相应支撑结构441的设置，如图6所示，在第二绝缘层44远离触控信号线43的一侧表面(即图6中第二绝缘层42的上侧)的预设位置处制作支撑结构441，使预设位置处的第二绝缘层44的厚度大于其他位置的第二绝缘层44的厚度。具体地，预设位置是指根据实际制备需求和掩膜板的设计所确定的需要进行支撑结构放置的位置，其通常设置在蓝色像素周围的布线区域内，相邻的预设位置之间的距离大于或等于预设距离，一般情况下，预设距离为六个像素的尺寸，即在每隔六个像素的蓝色像素的布线区域设置支撑结构即可。需要注意的是，预设距离可以根据显示模组尺寸、显示模组分辨率、掩膜板尺寸以及实际需求进行设置，只要保证对应设置的支撑结构可以实现掩膜板支撑功能即可。
42.在实际实现时，如图2所示，触控感应层40远离oled层30一侧还设置有平坦层60和封装保护层70，主要用于实现显示模组表面的平整处理以及封装保护。实际上，基于本实施例中触控感应层40的下沉式设计，利用平坦层60替代图1中原有toc层的厚度，并进一步利用第二绝缘层44上支撑结构的设置实现tsp膜层对ps层的替代，使本实施例的显示模组的整体厚度相较于图1所示的显示模组来说减小了一组tsp膜层的厚度，实现对显示模组尺寸的缩减，降低了产品的制作成本。
43.本实施例通过调整显示模组的膜层结构，将触控感应层的位置向基板一侧下沉调整，并利用触控感应层中的传输信号线所形成的第一图形走线作为oled发光单元阴极的信号输入走线，使显示模组的整体厚度降低，实现产品成本的节约；并且在制备过程中将触控感应层的制备工序提至发光单元的发光材料制作之前，进而在制备过程中提升触控感应层的膜层性能，使显示模组在制备材料和工艺不变的情况下实现质量的提升。
44.本公开的第二实施例提供了一种本公开第一实施例的显示模组的制备方法，其流程图如图7所示，主要包括步骤s10至s40：
45.s10，在基板表面制备薄膜晶体管层，基板包括多个阵列排布的像素区域以及用以划分像素区域的布线区域。具体地，布线区域和像素区域的具体尺寸可根据显示模组的尺寸、分辨率需求等进行设置，薄膜晶体管层的制备也可直接通过现有技术进行，本实施例不进行具体描述。
46.s20，在薄膜晶体管层远离基板一侧制备oled层中各个发光单元的阳极层、像素定义层以及阻隔层。发光单元与像素区域一一对应，像素定义层在制备之后需要在对应像素区域的位置开设开口使阳极层裸露在外，但为了便于进行后续膜层的制备，在步骤s20中优先利用阻隔层将阳极层和像素定义层进行保护。
47.s30，在阻隔层远离薄膜晶体管层的一侧制备触控感应层，所述触控感应层在第一方向上的正投影被所述布线区域在所述第一方向上的正投影完全覆盖，所述第一方向为垂直与所述基板表面的方向；具体地，触控感应层至少包括依次设置在所述oled层上的信号传输线、第一绝缘层以及触控信号线，信号传输线至少包括第一图形走线，用以进行与阴极层的连接。
48.s40，刻蚀掉所有所述像素区域对应的阻隔层，并在所有所述像素区域内的所述阳极层远离所述薄膜晶体管层的一侧依次制备发光层和阴极层，使所有所述阴极层与所述第一图形走线连通；具体地，阴极层在蒸镀时可以使用pattern化技术，使得tsp膜层不被屏蔽，同时通过信号传输线预留的阴极搭接线路实现不同发光单元的阴极连通，达到统一控制的目的。
49.在一些实施例中，触控信号线形成了多个按阵列排布的触控点击区域，每个触控电极区域内包括一个或多个相邻的像素区域，对应在制备触控感应层时，还需要制备具有第二图形走线的信号传输线，第二图形走线与第一图形走线之间不具有重合走线，并且第二图形走线也不与任何发光单元的阴极层连通；第二图形走线所设置的位置为同一列中相邻两个触控电极区域之间的桥接区域，在进行第一绝缘层的制备时，还需要在相邻的两个触控电极区域内的第一绝缘层上与第二图形走线对应的区域内开设桥接孔，使后续进行触控信号线的制备时使触控信号线基于桥接孔与第二图形走线连接，实现同列相邻的触控电极区域之间的连通。
50.在一些实施例中，制备触控感应层时还应当在触控信号线远离第一绝缘层的一侧制备第二绝缘层，并在预设位置处减少第二绝缘层材料的刻蚀程度使其在表面上形成支撑结构，用以实现掩膜板的支撑作用。具体地，相邻的预设位置之间的距离大于或等于预设距离，预设距离则可根据实际情况进行确定。
51.在实际实现时，在触控感应层远离oled层一侧还制备有平坦层和封装保护层，用以实现显示模组表面的平整处理以及封装保护。
52.需要注意的是，在本实施例中所进行的tsp相关层级的制备过程中，其所用到的制备材料和使用的制备工艺均可直接使用现有技术的材料和工艺，对应各个层级的厚度也可直接使用常规的厚度设置，只要保证在第一图形走线制作时预留与阴极搭接的线路，以及在桥接区域实现触控信号线的跳线即可。
53.本实施例通过调整显示模组的膜层结构，将触控感应层的位置向基板一侧下沉调整，并利用触控感应层中的传输信号线所形成的第一图形走线作为oled发光单元阴极的信号输入走线，使显示模组的整体厚度降低，实现产品成本的节约；并且在制备过程中将触控感应层的制备工序提至发光单元的发光材料制作之前，进而在制备过程中提升触控感应层的膜层性能，使显示模组在制备材料和工艺不变的情况下实现质量的提升。
54.本公开的第三实施例提供了一种电子设备，该电子设备可以是手机、电视、电脑等具有显示功能的设备，该电子设备至少包括本公开第一实施例提供的显示模组，进而实现电子设备整体厚度的降低，并提升了显示模组中触控感应层的膜层性能，使显示模组在制备材料和工艺不变的情况下实现质量的提升，用户在使用过程中也具有更好的使用体验。
55.以上对本公开多个实施例进行了详细说明，但本公开不限于这些具体的实施例，本领域技术人员在本公开构思的基础上，能够做出多种变型和修改实施例，这些变型和修改都应落入本公开所要求保护的范围之内。