研磨液供应喷头、系统以及研磨设备的制作方法

技术特征：
1.一种研磨液供应喷头，其特征在于，包括：研磨液过滤器，包括沿研磨液供应方向依次连通设置的过滤器入口、过滤单元以及过滤器出口；其中，所述过滤器入口用于与研磨液供应模块连通；研磨液喷嘴，与所述过滤器出口连通。2.根据权利要求1所述的研磨液供应喷头，其特征在于，所述研磨液过滤器包括两个以上的串联的研磨液过滤单元；两个以上的所述研磨液过滤单元的过滤孔径，沿研磨液的供应方向依次递减。3.根据权利要求2所述的研磨液供应喷嘴，其特征在于，还包括过滤壳体，所述过滤壳体具有至少一个安装腔，所述研磨液过滤单元可拆卸的设置在所述安装腔内。4.根据权利要求1所述的研磨液供应喷头，其特征在于，所述过滤单元的过滤孔径不大于10微米。5.一种研磨液供应系统，其特征在于，包括：研磨液供应模块，用于提供研磨液；如权利要求1-4任意一项所述的研磨液供应喷头，所述研磨液供应喷头与所述研磨液供应模块通过管道连通。6.根据权利要求5所述的研磨液供应系统，其特征在于，所述研磨液供应模块的出口具有供应模块过滤器，所述供应模块过滤器的出口通过管道与所述研磨液供应喷头连通。7.根据权利要求5所述的研磨液供应系统，其特征在于，所述供应模块过滤器的过滤孔径不大于所述研磨液过滤器的过滤孔径。8.根据权利要求5所述的研磨液供应系统，其特征在于，所述供应模块过滤器的过滤孔径为1～10微米。9.根据权利要求5所述的研磨液供应系统，其特征在于，所述管道的长度不小于3米。10.一种研磨设备，其特征在于，包括：旋转平台；研磨垫，设置在所述研磨平台上表面；如权利要求5-9任意一项所述的研磨液供应系统，所述研磨液供应喷嘴设置在所述研磨垫的上方。

技术总结
本发明提供一种研磨液供应喷头，包括：研磨液过滤器，入口与研磨液供应单元连通；研磨液喷嘴，与所述过滤器出口连通。还提供一种研磨液供应系统，包括：研磨液供应模块，用于提供研磨液；如上述任意一项所述的研磨液供应喷头，所述研磨液供应喷头与所述研磨液供应模块通过管道连通。还提供一种研磨设备，包括：旋转平台；研磨垫，设置在所述研磨平台上表面；如上述任意一项所述的研磨液供应系统，所述研磨液供应喷嘴设置在所述研磨垫的上方。本发明能够对大颗粒的聚集物进行过滤，避免出现大颗粒的聚集物对半导体器件的表面形成划痕。聚集物对半导体器件的表面形成划痕。聚集物对半导体器件的表面形成划痕。


技术研发人员：康大沃 张月 杨涛 卢一泓 田光辉
受保护的技术使用者：真芯（北京）半导体有限责任公司
技术研发日：2021.02.20
技术公布日：2022/8/29