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一种污水高效臭氧溶气氧化深度处理系统的制作方法

2022-08-17 18:37:22 来源:中国专利 TAG:


1.本技术属于污水处理技术领域,更具体地说,是涉及一种污水高效臭氧溶气氧化深度处理系统。


背景技术:

2.随着环境法规日趋严格,各项污染物的排放标准不断提标,现有的处理技术难以达到提标后的排放标准,特别是污染物含量高,生化性差,生物难以降解的污水,经过生化处理后,几乎无可生化性,一般出水cod浓度为60~200mg/l,而国家要求的排放要求cod低于50mg/l,甚至低于30mg/l,要实现这一排放标准,必须进行有效的深度处理,急需开发经济稳定的处理技术。
3.目前对于这类污水的处理,常规的处理技术是通过预处理、生化处理、深度处理来实现。其中深度处理包括芬顿氧化法、电化学氧化法、臭氧氧化法、光化学氧化法、湿式催化氧化法等,这些在一定程度上提高了污水的处理效果,但上述技术各有其缺陷,要么处理成本高、污泥产量大、腐蚀性强,要么处理效果差。
4.臭氧氧化法在高级氧化法中是比较好的一种方法,不会产生二次污染,运行费用低,占地面积小,可控程度大,容易实现工业化,大部分难处理污水处理装置都配置有臭氧氧化设施。目前工业上一般使用臭氧曝气氧化法、臭氧催化氧化法,曝气法臭氧利用率低,而臭氧催化氧化法在运行过程中,开始处理效果较好,臭氧利用率高,但随着运行时间的延长,催化剂慢慢被泥沙堵塞及覆盖,催化效果降低,且反冲洗后,催化剂活性恢复差。
5.为了提高臭氧氧化的效率,延长臭氧与水的接触时间,采用溶气技术和微气泡技术来增加臭氧在水中的溶解量和停留时间,取得了较好的效果。对于有机污染物浓度较高的污水,单级、单一的技术虽然提高了臭氧的利用率,但现有溶气设备溶气量小,在臭氧投加量大时,需要的溶气设备多,特别是在处理后期,臭氧的利用率低。


技术实现要素:

6.本技术实施例的目的在于提供一种污水高效臭氧溶气氧化深度处理系统,以解决现有技术中臭氧利用率低导致污水处理效果不佳的技术问题。
7.为实现上述目的,本技术采用的技术方案是:提供一种污水高效臭氧溶气氧化深度处理系统,包括:调节池、处理池、进水管、回水管、溶气管和臭氧发生器,所述处理池内包括底部连通的第一氧化池和第二氧化池,所述调节池通过所述进水管与所述第一氧化池的上部连通,所述回水管在所述处理池的外部与所述第一氧化池的上部和下部连通,所述回水管上设有增压泵、水射器和闪反器,所述水射器通过第一臭氧管与所述臭氧发生器连接,所述第二氧化池的上部内侧设有集水槽,所述溶气管的一端与所述集水槽连接,另一端与所述第二氧化池的下部连接,所述溶气管上设有微纳米气泡发生器,所述微纳米气泡发生器与所述臭氧发生器连接,所述第一氧化池的下部设有与所述回水管连接的第一溶气释放盘,所述第二氧化池的下部设有与所述溶气管连接的第二溶气释放盘。
8.在一个实施方式中,所述调节池连接有ph调节剂加药装置,所述进水管道上设有污水提升泵、第一阀门和第一流量计。
9.在一个实施方式中,所述回水管上位于所述增压泵的两侧分别设有第二流量计和第三流量计,所述第二流量计和所述增压泵之间的所述回水管通过连接管与所述进水管连接,所述连接管上设有第二阀门,所述回水管上设有第三阀门,所述水射器的两侧分别设有第一压力表和第二压力表。
10.在一个实施方式中,所述溶气管上设有第四流量计、第三压力表和第四阀门。
11.在一个实施方式中,所述第一臭氧管上设有第一止回阀、第一臭氧流量计和第五阀门,所述微纳米气泡发生器与所述臭氧发生器之间的第二臭氧管上设有第二止回阀、第二臭氧流量计和第六阀门。
12.在一个实施方式中,所述处理池的顶部设有臭氧破坏器。
13.在一个实施方式中,所述集水槽处设有出水管,所述第一氧化池内设有与所述进水管连接的进水布水盘,所述第一氧化池内设有与所述回水管连接的回水收集盘。
14.在一个实施方式中,所述调节池内的ph值为8-11。
15.在一个实施方式中,所述增压泵产生的压力范围为0.2-0.6mpa,所述增压泵的循环水量为污水进水量的50-90%。
16.在一个实施方式中,所述纳米气泡发生器的压力为0.3-0.5mpa,所述微纳米气泡发生器的循环水量为污水进水量的30%-70%。
17.本技术提供的污水高效臭氧溶气氧化深度处理系统的有益效果在于:
18.1、污水先进入到调节池内进行ph值调节,然后进入到第一氧化池内进行氧化反应,经底部流入到第二氧化池内进行氧化反应;通过水射器、闪反器和微纳米气泡发生器的相互配合来调节臭氧在水中的溶解量和停留时间,从而提高臭氧利用率;
19.2、利用水射器和闪反器能对高浓度的污水进行溶气处理,微纳米气泡发生器能对低浓度的污水进行溶气处理,使得臭氧充分溶入到水中进行臭氧氧化;
20.3、通过回水管和溶气管实现污水的循环流动,保证污水被臭氧氧化处理的时间,提高污水处理效果;
21.4、第一溶气释放盘和第二溶气释放盘使得臭氧与污水充分混合,保证溶气效果。
附图说明
22.为了更清楚地说明本技术实施例中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本技术的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
23.图1为本技术实施例提供的污水高效臭氧溶气氧化深度处理系统的结构示意图。
24.其中,图中各附图标记:
25.1、调节池;2、处理池;201、第一氧化池;202、第二氧化池;3、进水管;4、回水管;5、溶气管;6、臭氧发生器;7、增压泵;8、水射器;9、闪反器;10、第一臭氧管;11、集水槽;12、微纳米气泡发生器;13、第一溶气释放盘;14、第二溶气释放盘;15、ph调节剂加药装置;16、污水提升泵;17、第一阀门;18、第一流量计;19、第二流量计;20、第三流量计;21、连接管;22、
第二阀门;23、第三阀门;24、第一压力表;25、第二压力表;26、第四流量计;27、第三压力表;28、第四阀门;29、第一止回阀;30、第一臭氧流量计;31、第五阀门;32、第二臭氧管;33、第二止回阀;34、第二臭氧流量计;35、第六阀门;36、臭氧破坏器;37、出水管;38、进水布水盘;39、回水收集盘;40、供水管。
具体实施方式
26.为了使本技术所要解决的技术问题、技术方案及有益效果更加清楚明白,以下结合附图及实施例,对本技术进行进一步详细说明。应当理解,此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本技术,并不用于限定本技术。
27.需要说明的是,当元件被称为“固定于”或“设置于”另一个元件,它可以直接在另一个元件上或者间接在该另一个元件上。当一个元件被称为是“连接于”另一个元件,它可以是直接连接到另一个元件或间接连接至该另一个元件上。
28.需要理解的是,术语“长度”、“宽度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本技术和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本技术的限制。
29.此外,术语“第一”、“第二”仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此,限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本技术的描述中,“多个”的含义是两个或两个以上,除非另有明确具体的限定。
30.如图1所示,现对本技术实施例提供的一种污水高效臭氧溶气氧化深度处理系统进行说明。该污水高效臭氧溶气氧化深度处理系统,包括:调节池1、处理池2、进水管3、回水管4、溶气管5和臭氧发生器6。其中,调节池1上设有供水管40,污水通过进水管3通入到调节池1内,处理池2内设有隔板,隔板将处理池2内分成底部连通的第一氧化池201和第二氧化池202。
31.在本实施例中,调节池1通过进水管3与第一氧化池201的上部连通,用于将调节池1内调节ph值后的污水通入到第一氧化池201内,回水管4在处理池2的外部与第一氧化池201的上部和下部连通,回水管4用于实现污水的循环处理;具体地,回水管4上设有增压泵7、水射器8和闪反器9,水射器8通过第一臭氧管10与臭氧发生器6连接,臭氧发生器6产生的臭氧经第一臭氧管10进入到水射器8内,水射器8用于使臭氧和污水融合形成溶气,增压泵7用于提供动力,闪反器9对溶气进行分解,用于加快臭氧与污水的反应时间,提高处理效率;由于水射器8和闪反器9可以增加臭氧处理效率,因此可以对高浓度的污水进行臭氧氧化处理,保证臭氧氧化处理的效率及污水处理效果。
32.在本实施例中,第二氧化池202的上部内侧设有集水槽11,集水槽11内的污水基本处理达标了,溶气管5的一端与集水槽11连接,另一端与第二氧化池202的下部连接,用于实现第二氧化池202内的污水循环处理;溶气管5上设有微纳米气泡发生器12,微纳米气泡发生器12与臭氧发生器6连接,微纳米气泡发生器12用于产生纳米气泡,使得臭氧和污水实现溶气过程,保证臭氧与污水充分混合。
33.在本实施例中,第一氧化池201的下部设有与回水管4连接的第一溶气释放盘13,
第二氧化池202的下部设有与溶气管5连接的第二溶气释放盘14,第一溶气释放盘13和第二溶气释放盘14用于将溶气后的臭氧通入到处理池2内进出臭氧氧化,保证臭氧处理效果。
34.在本实施例中,污水先进入到调节池1内进行ph值调节,然后进入到第一氧化池201内进行氧化反应,经底部流入到第二氧化池202内进行氧化反应;通过水射器8、闪反器9和微纳米气泡发生器12的相互配合来臭氧在水中的溶解量和停留时间,从而提高臭氧利用率;利用水射器8和闪反器9能对高浓度的污水进行溶气处理,微纳米气泡发生器12能对低浓度的污水进行溶气处理,使得臭氧充分溶入到水中进行臭氧氧化;通过回水管4和溶气管5实现污水的循环流动,保证污水被臭氧氧化处理的时间,提高污水处理效果;第一溶气释放盘13和第二溶气释放盘14使得臭氧与污水充分混合,保证溶气效果。
35.在本实施例中,调节池1连接有ph调节剂加药装置15,ph调节剂加药装置15用于对调节池1内添加ph调节剂来实现调节池1内ph值的变化。具体地,在本实施例中,调节池1内的ph至为8-11。
36.在本实施例中,进水管3上设有污水提升泵16、第一阀门17和第一流量计18;污水提升泵16用于对进水管3提供动力,以便将调节池1内的污水通入到第一氧化池201内,第一阀门17用于控制进水管3的通止,第一流量计18用于监控进水管3的污水进水量。
37.在本实施例中,回水管4上位于增压泵7的两侧分别设有第二流量计19和第三流量计20,第二流量计19用于监控回水量,第三流量计20用于监控溶气后的回水量。第二流量计19和增压泵7之间的回水管4通过连接管21与进水管3连接,连接管21上设有第二阀门22,连接管21和第二阀门22可以实现回水重新进入到进水管3内,以调节回水量与污水进水量的比例。
38.在本实施例中,回水管4上设有第三阀门23,水射器8的两侧分别设有第一压力表24和第二压力表25。第三阀门23用于控制回水管4的通止,第一压力表24用于检测回水管4内污水溶气前的压力,第二压力表25用于检测回水管4内的污水经臭氧溶气后的压力。
39.在本实施例中,溶气管5上设有第四流量计26、第三压力表27和第四阀门28,第四流量计26用于监控臭氧经微纳米气泡发生器12进行溶气后进入到第二氧化池202内的流量,第三压力表27用于监控进入到第二氧化池202内的溶气压力,第四阀门28用于控制溶气管5的通止。
40.在本实施例中,第一臭氧管10上设有第一止回阀29、第一臭氧流量计30和第五阀门31,第一止回阀29是防止臭氧回流到臭氧发生器6内,第一臭氧流量计30用于监控水射器8的臭氧溶气量,第五阀门31用于控制第一臭氧管10的通止。
41.在本实施例中,微纳米气泡发生器12与臭氧发生器6之间的第二臭氧管32上设有第二止回阀33、第二臭氧流量计34和第六阀门35;第二止回阀33是防止臭氧回流到臭氧发生器6内,第二臭氧流量计34用于监控微纳米气泡发生器12的臭氧溶气量,第六阀门35用于控制第二臭氧管32的通止。
42.在本实施例中,处理池2的顶部设有臭氧破坏器36,用于将未反应的臭气进行破会分解,防止臭氧污染空气。
43.在本实施例中,集水槽11处设有出水管37,出水管37用于将达标后的污水排出。第一氧化池201内设有与进水管3连接的进水布水盘38,进水布水盘38是用于将污水分散通入到第一氧化池201内,第一氧化池201内设有与回水管4连接的回水收集盘39,回水收集盘39
用于收集污水并导入到回水管4内。
44.在本实施例中,增压泵7优选为离心泵。增压泵7产生的压力范围为0.2-0.6mpa,优选为0.3-0.5mpa;增压泵7的循环水量为污水进水量的50-90%。
45.在本实施例中,水射器8的进口压力为0.2-0.6mpa,优选为0.3-0.5mpa。在本实施例中,微纳米气泡发生器12的压力为0.3-0.5mpa,微纳米气泡发生器12的循环水量为污水进水量的30%-70%。
46.在本实施例中,第一氧化池201内的污水温度为10-40℃,处理时间为60-100min。臭氧发生器6提供的臭氧量和污水中所需要除去的cod量的比值(简称o/c比)为0.8-1.5mgo3/mgcod,优选为0.9-1.2mgo3/mgcod。
47.在第二氧化池202内的污水温度为10-40℃,ph值为8-10,处理时间为60-100min,臭氧发生器6提供的臭氧量和污水中所需要除去的cod量的比值(简称o/c比)为0.6-1.1mgo3/mgcod,优选为0.7-0.9mgo3/mgcod。
48.在本实施例中,污水先通入到调节池1内,然后通过ph调节剂加药装置15对调节池1内的ph值调节到8-11,然后,将污水通过污水提升泵16送入到第一氧化池201内,部分污水回流,经增压泵7、水射器8与提供的臭氧进行溶气,然后经闪反器9作用后送入到第一氧化池201内进行氧化反应,实现对高浓度的cod进行一级去除;第一氧化池201内的污水经底部流入到第二氧化池202内,臭氧经微纳米气泡发生器12进入臭氧溶气后进入到第二氧化池202内对污水进行二级氧化反应,实现对低浓度的cod深度去除。
49.在本实施例中,进行氧化处理时,处理时间、臭氧供给量、ph值等参数可以根据实际需求进行修改。
50.以上所述仅为本技术的较佳实施例而已,并不用以限制本技术,凡在本技术的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等,均应包含在本技术的保护范围之内。
再多了解一些

本文用于企业家、创业者技术爱好者查询,结果仅供参考。

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