一种使用方便的碳化硅晶片清洗装置的制作方法

1.本实用新型涉及碳化硅晶片技术领域，特别是涉及一种使用方便的碳化硅晶片清洗装置。


背景技术：

2.碳化硅晶片的主要应用领域有led固体照明和高频率器件。该材料具有高出传统硅数倍的禁带、漂移速度、击穿电压、热导率、耐高温等优良特性，在高温、高压、高频、大功率、光电、抗辐射、微波性等电子应用领域和航天、军工、核能等极端环境应用有着不可替代的优势，碳化硅晶片在加工完成后需要对其进行清洗，去除表面的化学制剂，以便于后续的使用。
3.目前使用的清洗装置在使用时通常无法更加便捷的快速的对碳化硅晶片的位置进行调节，在清洗完成后无法快速的将晶片表面的水分进行烘干，需要人工进行转移，使用不够方便。
4.因此，现在亟需设计一种能解决上述一个或者多个问题的一种使用方便的碳化硅晶片清洗装置。


技术实现要素：

5.为解决现有技术中存在的一个或者多个问题，本实用新型提供了一种使用方便的碳化硅晶片清洗装置。
6.本实用新型为达到上述目的所采用的技术方案是：一种使用方便的碳化硅晶片清洗装置，包括底座、固定安装在底座顶部的顶架和多个分别开设在顶架顶部两侧的限位孔，还包括移位机构、拿取机构、冲洗机构和风干机构，所述移位机构设置在顶架顶部，所述移位机构包括开设在顶架一侧的安装槽、两个分别固定安装在安装槽内壁两侧的丝杆滑台、两个分别固定安装在两个丝杆滑台的滑动块一侧的支撑板和固定安装在两个支撑板底部的清洗筐，所述清洗筐内部固定安装有分离机构，所述拿取机构设置在清洗筐一侧，所述冲洗机构固定安装在顶架顶部，所述风干机构固定安装在顶架一侧。
7.优选的，所述分离机构包括多个分别固定安装在清洗筐内壁两侧的支撑块、多个分别开设在多个支撑块一侧的凹槽和多个分别配合安装在多个凹槽内侧的隔板。
8.优选的，所述分离机构还包括多个分别固定安装在多个隔板两侧的防护垫。
9.优选的，所述拿取机构包括活动门、两个分别固定安装在清洗筐外壁一侧的销轴，所述活动门固定安装在两个销轴一侧。
10.优选的，所述冲洗机构包括水箱、安装板、多个分别固定安装在水箱底部两侧的限位杆、三个分别固定连接在水箱底部的连接管、三个分别固定安装在安装板顶部的连接块和三个分别固定安装在三个连接块底部的喷嘴，所述水箱活动安装在顶架顶部，所述安装板固定安装在顶架底部。
11.优选的，所述风干机构包括支撑板、烘干机、出风管、集水箱和两个分别固定安装
在顶架外壁两侧的固定块，所述连接板固定安装在两个固定块一侧，所述烘干机固定安装在连接板顶部，所述出风管固定安装在烘干机底部，所述集水箱固定安装在底座一侧。
12.本实用新型的有益效果是：
13.其一：本实用新型通过设置有移位机构和风干机构，将连接板通过固定块固定安装在顶架一侧，再将烘干机固定安装在连接板顶部，当清洗筐内部的晶片清洗完成后，打开丝杆滑台使丝杆滑台的滑动块带动清洗筐进行移动，使清洗筐移动至出风管下方，再打开烘干机使烘干机的风通过出风管吹出，同时晶片表面的水渍滴落至集水箱内部，进行后续的统一清理，安装槽、丝杆滑台、支撑板和清洗筐的设置，可以更加便捷快速的对晶片的位置进行移动，无需人工进行转移，即可更加便捷的对晶片进行后续操作，有效提升了装置的使用效率，同时固定块、连接板、烘干机、出风管和集水箱，可以更加快速便捷的将晶片表面的水渍进行清理，快速的将晶片进行烘干处理，同时晶片表面的水渍滴落至集水箱内部，更加快速的进行统一清理，大大提升了装置的使用效率。
附图说明
14.图1为本实用新型的立体结构示意图；
15.图2为本实用新型的冲洗机构结构示意图；
16.图3为本实用新型的分离机构结构示意图；
17.图4为本实用新型的图1中a处放大结构示意图。
18.附图标记说明：1、底座；2、顶架；3、移位机构；31、安装槽；32、丝杆滑台；33、支撑板；34、清洗筐；4、分离机构；41、支撑块；42、凹槽；43、隔板；44、防护垫；5、拿取机构；51、销轴；52、活动门；6、限位孔；7、冲洗机构；71、水箱；72、限位杆；73、连接管；74、安装板；75、连接块；76、喷嘴；8、风干机构；81、固定块；82、连接板；83、烘干机；84、出风管；85、集水箱。
具体实施方式
19.为使本实用新型的上述目的、特征和优点能够更加浅显易懂，下面结合附图对本实用新型的具体实施方式做详细的说明。在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本实用新型。但是本实用新型能够以很多不同于在此描述的其它方式来实施，本领域技术人员可以在不违背本实用新型内涵的情况下做类似改进，因此本实用新型不受下面公开的具体实施例的限制。
20.如图1至4所示，本实用新型提供了一种使用方便的碳化硅晶片清洗装置，包括底座1、固定安装在底座1顶部的顶架2和多个分别开设在顶架2顶部两侧的限位孔6，还包括移位机构3、拿取机构5、冲洗机构7和风干机构8，移位机构3设置在顶架2顶部，移位机构3包括开设在顶架2一侧的安装槽31、两个分别固定安装在安装槽31内壁两侧的丝杆滑台32、两个分别固定安装在两个丝杆滑台32的滑动块一侧的支撑板33和固定安装在两个支撑板33底部的清洗筐34，清洗筐34内部固定安装有分离机构4，拿取机构5设置在清洗筐34一侧，冲洗机构7固定安装在顶架2顶部，风干机构8固定安装在顶架2一侧。
21.上述具体实施方案：打开丝杆滑台32使丝杆滑台32的滑动块带动清洗筐34进行移动，使清洗筐34移动至出风管84下方，可以更加便捷快速的对晶片的位置进行移动，无需人工进行转移，即可更加便捷的对晶片进行后续操作，有效提升了装置的使用效率。
22.具体的，分离机构4包括多个分别固定安装在清洗筐34内壁两侧的支撑块41、多个分别开设在多个支撑块41一侧的凹槽42和多个分别配合安装在多个凹槽42内侧的隔板43，通过设置有支撑块41、凹槽42和隔板43，可以更加便捷的根据晶片的大小尺寸对晶片之间进行分离隔档，确保每一个晶片都可以得到有效的清洗，使用更加的便捷。
23.具体的，分离机构4还包括多个分别固定安装在多个隔板43两侧的防护垫44，通过设置有防护垫44，可以更加便捷的对晶片两侧进行防护，防止晶片在清洗过程中收到水的压力进行晃动，导致晶片两侧的损坏，影响后续的使用。
24.具体的，拿取机构5包括活动门52、两个分别固定安装在清洗筐34外壁一侧的销轴51，活动门52固定安装在两个销轴51一侧，通过设置有销轴51和活动门52，可以更加便捷的对清洗筐34内部的零件进行检修更换，同时可以更加便捷快速的对晶片拿取。
25.具体的，冲洗机构7包括水箱71、安装板74、多个分别固定安装在水箱71底部两侧的限位杆72、三个分别固定连接在水箱71底部的连接管73、三个分别固定安装在安装板74顶部的连接块75和三个分别固定安装在三个连接块75底部的喷嘴76，水箱71活动安装在顶架2顶部，安装板74固定安装在顶架2底部，通过设置有水箱71、限位杆72、连接管73、安装板74、连接块75和喷嘴76，可以更加便捷快速的对多个晶片进行均匀的清洗，清洗更加的均匀，同时限位杆72的设置可以更加便捷的对水箱71进行安装拆卸。
26.具体的，风干机构8包括连接板82、烘干机83、出风管84、集水箱85和两个分别固定安装在顶架2外壁两侧的固定块81，连接板82固定安装在两个固定块81一侧，烘干机83固定安装在连接板82顶部，出风管84固定安装在烘干机83底部，集水箱85固定安装在底座1一侧，通过设置有固定块81、连接板82、烘干机83、出风管84和集水箱85，可以更加快速便捷的将晶片表面的水渍进行清理，快速的将晶片进行烘干处理，同时晶片表面的水渍滴落至集水箱85内部，更加快速的进行统一清理，大大提升了装置的使用效率。
27.综上，本实用新型包括：首先接通外部电源，拉动活动门52使活动门52带动销轴51旋转打开，将支撑块41固定安装在清洗筐34内壁两侧，再将隔板43放置在支撑块41之间，然后将晶片放置在隔板43之间，再将水箱71底部的限位杆72插入限位孔6内部，对水箱71进行固定，打开水箱71的阀门使水箱内部的清洗液通过喷嘴76喷出，对晶片进行清洗，其次将连接板82通过固定块81固定安装在顶架2一侧，再将烘干机83固定安装在连接板82顶部，当清洗筐34内部的晶片清洗完成后，打开丝杆滑台32使丝杆滑台32的滑动块带动清洗筐34进行移动，使清洗筐34移动至出风管84下方，最后打开烘干机83使烘干机83的风通过出风管84吹出，同时晶片表面的水渍滴落至集水箱85内部，进行后续的统一清理，其中丝杆滑台32的型号为：pkh40，烘干机83的型号为：cnt-18g。
28.以上所述实施例仅表达了本实用新型的一种或者多种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对实用新型专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本实用新型的保护范围。因此，本实用新型专利的保护范围应以所附权利要求为准。