一种用于遮挡输送带上方釉幕的挡釉装置和淋釉装置的制作方法

1.本实用新型涉及陶瓷生产设备，尤其涉及一种用于遮挡输送带上方釉幕的挡釉装置和淋釉装置。


背景技术：

2.钟罩淋釉的方式是使釉浆自钟罩顶部流下在钟罩下方形成釉幕，砖坯由输送带携带经过釉幕，砖坯表面被均匀布施釉料。但是，输送带表面也会被釉料淋到，大尺寸砖坯是直接放置在输送带上的，这就导致砖坯的底面会粘有釉料。当砖坯进入窑炉后，其底面的釉料粘在窑炉辊棒上，经过一段时间后会在辊棒上形成棒钉，一方面使传动运行不平稳，致使烧成带产品造成变形、裂纹、破损等，另一方面，由于棍棒表面粘附物其热稳定性、膨胀系数与棍棒差别较大，在冷热交换时易产生应力会缩短棍棒的使用寿命，因此需经常更换辊棒。
3.现有技术中，为了解决上述问题，在输送带上方设置挡釉机构，如专利202020246951.8公开的一种淋釉装置，在输送带上方增加了挡釉板，挡釉板固定在机架上，在输送带上安装支架，用以增加砖坯的高度，使砖坯在挡釉板上方经过。但是，当砖坯尺寸较大时，在支架上放置的稳定性较差，会影响施釉效果，而且支架难以适应多种尺寸的砖坯，尤其砖坯尺寸小于支架时，支架也会被淋釉，砖坯底部仍然釉粘釉的可能性。


技术实现要素：

4.本实用新型的目的在于提出一种用于遮挡输送带上方釉幕的挡釉装置和淋釉装置，使挡釉片可移动，不仅有效放置釉料粘在输送带上，还能保证输送带可适用多种尺寸的砖坯。
5.为达此目的，本实用新型采用以下技术方案：
6.一种用于遮挡输送带上方釉幕的挡釉装置，该输送带由多根皮带组成，其特征在于，该挡釉装置包括驱动电机、连杆、支撑杆和多根挡釉杆；
7.所述连杆的一端与所述电机的输出轴固定连接，所述驱动电机驱动所述连杆在竖直平面内旋转，所述连杆的另一端与所述支撑杆的端部可转动连接；
8.多根所述挡釉杆并排安装于所述支撑杆，所述支撑杆和所述挡釉杆均水平设置，所述挡釉杆与所述支撑杆相互垂直；
9.每根所述挡釉杆均安装有挡釉片，每根所述皮带均对应有一块所述挡釉片；
10.所述驱动电机用于通过所述连杆和所述支撑杆驱动所述挡釉杆，所述连杆旋转带动所述支撑杆在一竖直平面内移动，使所述挡釉杆携带所述挡釉片在所述皮带上方和所述皮带下方之间往复运动。
11.进一步的，所述挡釉片与水平方向的夹角为30
°‑
60
°
。
12.进一步的，所述挡釉片在水平面上的投影长度小于相邻两根皮带的间距。
13.进一步的，所述挡釉片的沿输送带输送方向的两侧设有向上弯折的挡边。
14.进一步的，所述挡釉片的底面开设有长条形的安装孔，所述安装孔用于通过螺钉
使挡釉片固定于所述挡釉杆。
15.进一步的，用于遮挡输送带上方釉幕的挡釉装置，还包括砖坯传感器，所述砖坯传感器与所述驱动件电性连接，所述砖坯传感器用于将砖坯到达信号和砖坯离开信号发送至驱动件；
16.所述砖坯传感器位于所述挡釉杆的上方。
17.一种淋釉装置，包括钟罩、输送带和上述的用于遮挡输送带上方釉幕的挡釉装置，所述输送带由多根皮带组成，所述钟罩位于所述输送带的上方；
18.所述挡釉片靠近所述皮带时，所述挡釉片位于所述钟罩边缘的正下方，所述挡釉片远离所述皮带时，所述挡釉片位于所述输送带的下方。
19.进一步的，淋釉装置还包括砖坯传感器，所述砖坯传感器与所述驱动件电性连接，所述砖坯传感器用于将砖坯到达信号和砖坯离开信号发送至驱动件；
20.所述砖坯传感器位于所述挡釉杆的上方，所述砖坯传感器与所述钟罩的间距为2-5cm。
21.本实用新型实施例的有益效果可以包括：
22.挡釉装置设置了驱动件，通过连杆、支撑杆和挡釉杆的传动作用，使得挡釉片能够靠近和远离皮带。这就能在输送带上的砖坯经过釉幕时，挡釉片能远离皮带为砖坯让位，保证砖坯能完成施釉，当砖坯施釉完成后，驱动件使挡釉片靠近皮带，遮挡皮带上方的釉幕，防止釉料粘在皮带上。该挡釉装置动作灵活，在最大程度上避免对砖坯施釉操作的影响，且保证输送带仍具有适用各尺寸砖坯的输送效果。
附图说明
23.附图对本实用新型做进一步说明，但附图中的内容不构成对本实用新型的任何限制。
24.图1是本实用新型其中一个实施例的挡釉装置的示意图；
25.图2是图1所示挡釉装置的挡釉板位于皮带上方和皮带下方两个状态的示意图；
26.图3是淋釉装置的示意图；
27.图4钟罩和挡釉装置的示意图；
28.附图中：1-驱动件，2-连杆，3-支撑杆，4-挡釉杆，5-挡釉片，51-挡边，52-安装孔，6-砖坯传感器，7-钟罩，8-输送带，81-皮带，9-限位导向板。
具体实施方式
29.下面详细描述本实用新型的实施例，所述实施例的示例在附图中示出，其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，仅用于解释本实用新型，而不能理解为对本实用新型的限制。
30.在本实用新型的描述中，需要理解的是，术语“纵向”、“横向”“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对
本实用新型的限制。在本实用新型的描述中，除非另有说明，“多个”的含义是两个或两个以上。
31.在本实用新型的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。
32.下面结合图1至图4，描述本实用新型实施例的一种用于遮挡输送带上方釉幕的挡釉装置。
33.本实施例的一种用于遮挡输送带上方釉幕的挡釉装置，该输送带8由多根皮带81组成，该挡釉装置包括驱动件1、连杆2、支撑杆3和多根挡釉杆4；连杆2的一端与驱动件1传动连接，连杆2的另一端与支撑杆3连接；多根挡釉杆4并排安装于支撑杆3；
34.每根挡釉杆4均安装有挡釉片5，每根皮带81均对应有一块挡釉片5；驱动件1用于通过连杆2和支撑杆3驱动挡釉杆4，使挡釉杆4携带挡釉片5在皮带81上方和皮带81下方之间往复运动。
35.本实施例的挡釉装置设置了驱动件1，通过连杆2、支撑杆3和挡釉杆4的传动作用，使得挡釉片5能够靠近和远离皮带81。这就能在输送带8上的砖坯经过釉幕时，挡釉片5能远离皮带81为砖坯让位，保证砖坯能完成施釉，当砖坯施釉完成后，驱动件1使挡釉片靠近皮带81，遮挡皮带81上方的釉幕，防止釉料粘在皮带81上。该挡釉装置动作灵活，在最大程度上避免对砖坯施釉操作的影响，且保证输送带8仍具有适用各尺寸砖坯的输送效果。
36.为了简化设备结构，支撑杆3和挡釉杆4均水平设置，挡釉杆4与支撑杆3相互垂直，连杆2的端部与支撑杆3的端部可转动连接；连杆2的端部与驱动电机1的输出轴固定连接，驱动件1驱动连杆2在第一竖直平面内旋转；连杆2旋转带动支撑杆3在第二竖直平面内移动。第一竖直平面与第二竖直平面相平行或为同一竖直平面。
37.具体的，电机的输出轴水平设置且与支撑杆3相垂直。当连杆2处于水平状态，支撑杆3与连杆2处于同一直线，挡釉片5位于皮带81的上方，能够遮挡皮带81上方的釉幕。此时，电机的输出轴旋转90
°
，使连杆2处于竖直状态，支撑杆3位于最低点，挡釉片5位于皮带81的下方，砖坯可顺利经过釉幕。可见，通过简单的机械联动结构，即可完成挡釉片5的挡釉和为砖坯让位动作，且该动作可靠性好。在实际应用中，驱动电机1和输送带均由机架支撑，在机架靠近驱动电机1的位置设置限位导向板9，限位导向板9开设有弧形的导向槽，连杆2与支撑杆3的连接处突出有导向块，导向块伸入导向槽内，实现对支撑杆3运动的导向；限位导向板9固定有两个限位条，用于对连杆2运动固定最高位和最低位进行限位。需要说明的是，在支撑杆3的另一端也设有该限位导向板9，如此，支撑杆3的两端运用保持一致。不仅如此，支撑杆3的另一端通过连接杆连接于机架。该连接杆的一端可转动连接支撑杆3的端部，另一端可转动连接于机架。
38.为了达到较好的挡釉效果，挡釉片5与水平方向的夹角为30
°‑
60
°
。以该角度设置的挡釉片5不仅能很好的遮挡釉幕，在釉幕下形成供输送带经过的空间，还能使承接的釉料顺利流动至下方的釉料承接容器。优选的，挡釉片5与水平方向的夹角为45
°
。
39.可以理解的，基于支撑杆3的端点在竖直平面内的运动轨迹为半圆形，挡釉片5的
运动轨迹也为半圆形，为了使挡釉片5能顺利自皮带81上方移动至皮带81下方，挡釉片5在水平面上的投影长度小于相邻两根皮带81的间距，相邻两根皮带81的间距大小为挡釉片5移动提供足够的空间。具体的，该间距为挡釉片5在水平面上的投影长度小于等于相邻两根皮带81的间距的二分之一。
40.为了防止挡釉片5上的釉料外溢滴落至皮带81，挡釉片5的沿输送带输送方向的两侧设有向上弯折的挡边51，能保证釉料流动至挡釉片5的底端后下落至釉料承接容器内。
41.基于皮带81直径不同，皮带81设置间距不同，挡釉装置在安装时，需要调节挡釉片在挡釉杆4的安装位置，因此，挡釉片5的底面开设有长条形的安装孔52，安装孔52用于通过螺钉使挡釉片固定于挡釉杆4，通过调节安装孔52和螺钉的安装位置即可实现挡釉片5在挡釉杆4安装位置的调节。
42.若挡釉片5能在砖坯来到釉幕时及时撤走和砖坯离开釉幕时及时遮挡釉幕，可以完全避免釉料粘附在皮带81上，还能达到很好的施釉效果。因此，该挡釉装置还包括砖坯传感器6，砖坯传感器6与驱动件1电性连接，砖坯传感器6用于将砖坯到达信号和砖坯离开信号发送至驱动件1；砖坯传感器6位于挡釉杆4的上方。具体的，砖坯传感器6是光电传感器。
43.相应的，本实施例还提供了一种淋釉装置，包括钟罩7、输送带8和上述的用于遮挡输送带上方釉幕的挡釉装置，输送带8由多根皮带81组成，钟罩7位于输送带8的上方；挡釉片5靠近皮带81时，挡釉片5位于钟罩8边缘的正下方，挡釉片5远离皮带81时，挡釉片5位于输送带8的下方。砖坯传感器6与钟罩7的间距为2-5cm。
44.根据本实用新型实施例的一种用于遮挡输送带上方釉幕的挡釉装置的其他构成等以及操作对于本领域普通技术人员而言都是已知的，这里不再详细描述。
45.在本说明书的描述中，参考术语“实施例”、“示例”等的描述意指结合该实施例或示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本实用新型的至少一个实施例或示例中。在本说明书中，对上述术语的示意性表述不一定指的是相同的实施例或示例。而且，描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任何的一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。
46.尽管已经示出和描述了本实用新型的实施例，本领域的普通技术人员可以理解：在不脱离本实用新型的原理和宗旨的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本实用新型的范围由权利要求及其等同物限定。