一种化妆品原料研磨机的制作方法

1.本技术涉及化妆品制作的领域，尤其是涉及一种化妆品原料研磨机。


背景技术：

2.一般膏乳状化妆品在制作时需要将原料研磨至粒度足够小，保证制成的化妆品涂抹至皮肤上的使用感顺滑。由于化妆品原料黏度较大，常用三辊研磨机对原料进行研磨，通过水平的三根辊筒的表面相互挤压机不同速度的摩擦而达到研磨效果。目前对原料进行研磨加工的过程中，工作人员常将膏状原料不断从原料桶中挖出，再涂抹至前两根研磨辊筒间，工具上的原料在涂抹时易将研磨辊筒上涂覆的原料带离，同时工具上的原料仅有部分能够涂抹至辊筒上，影响原料的上料效率和研磨效率，有待进一步改进。


技术实现要素：

3.为了方便原料的上料，提高原料的上料及研磨效率，本技术提供一种化妆品原料研磨机。
4.本技术提供的一种化妆品原料研磨机采用如下的技术方案：
5.一种化妆品原料研磨机，包括机体，所述机体上依次平行转动设置有第一研磨辊、第二研磨辊及第三研磨辊，所述第一研磨辊至所述第三研磨辊的转速依次提高，所述第一研磨辊至所述第三研磨辊下方设置有接料板，所述第三研磨辊背离所述第二研磨辊的一侧设置有出料板，所述第一研磨辊和所述第二研磨辊间上方设置有一对挡板，所述第一研磨辊背离所述第二研磨辊的一侧设置有刮板。
6.通过采用上述技术方案，将化妆品原料中刮板上刮下，使原料从刮板侧面向下滑落至第一研磨辊和第二研磨辊间，方便了原料在第一研磨辊和第二研磨辊间的上料，提高了原料的上料效率和研磨效率，通过第一研磨辊和第二研磨辊对原料进行研磨，第二研磨辊再将原料带至第二研磨辊和第三研磨辊间，通过第二研磨辊和第三研磨辊对原料进行研磨，研磨后的原料再被出料板刮下，方便了化妆品原料的研磨。
7.在一个具体的可实施方案中，所述机体上开设有供所述刮板上下滑移的滑移槽。
8.通过采用上述技术方案，方便了刮板在滑移槽内的滑移，方便了刮板底沿与第一研磨辊间的间距的调整，减小了刮板底沿将第一研磨辊上的原料刮下使原料粘附在刮板背离第一研磨辊的侧面的几率，方便了第一研磨辊和第二研磨辊对原料的研磨。
9.在一个具体的可实施方案中，所述刮板底沿向靠近所述第一研磨辊的方向倾斜设置。
10.通过采用上述技术方案，进一步提高了刮板对上料至第一研磨辊和第二研磨辊间的原料的容纳量，且刮板的倾斜设置更便于工作人员将原料在刮板顶沿刮除时的操作，提高了工作效率。
11.在一个具体的可实施方案中，一对所述挡板的侧边均与所述刮板侧面相抵触。
12.通过采用上述技术方案，减小了挡板与刮板间的间隙，即减小了原料从挡板和刮
板间泄漏的几率，进一步提高了第一研磨辊和第二研磨辊间原料的容纳量。
13.在一个具体的可实施方案中，所述机体上螺纹连接有用于抵紧所述刮板的抵紧螺栓。
14.通过采用上述技术方案，方便了通过抵紧螺栓将刮板抵紧，对刮板在滑移槽内的滑移进行限制，减小了刮板在重力作用下向下滑移，进而将第一研磨辊上的原料刮下的几率，保证了原料的正常研磨。
15.在一个具体的可实施方案中，所述刮板侧面下端涂覆有防粘层。
16.通过采用上述技术方案，使得在刮板顶沿刮下的原料与刮板上端存在较大的粘附力，而原料与刮板底端的粘附力较小，保证了刮板对原料的拉力，同时方便了原料从刮板滑移至第一研磨辊和第二研磨辊间进行研磨。
17.在一个具体的可实施方案中，所述刮板顶沿连接有刮刀。
18.通过采用上述技术方案，通过刮刀将上料时的原料进行刮除，进一步提高了原料的上料效率，且方便了在刮刀磨损后对刮刀进行更换，延长了刮板的使用寿命。
19.在一个具体的可实施方案中，所述滑移槽底端与所述第一研磨辊轴线间的距离大于所述第一研磨辊的半径。
20.通过采用上述技术方案，方便了通过滑移槽底端与第一研磨辊轴线间的间距控制，进一步减小了刮板滑移至与第一研磨辊相抵触进而将第一研磨辊上的原料刮下的几率，进一步保证了原料的正常研磨。
21.综上所述，本技术包括以下至少一种有益技术效果：
22.1.通过将化妆品原料中刮板上刮下，使原料从刮板侧面向下滑落至第一研磨辊和第二研磨辊间，方便了原料在第一研磨辊和第二研磨辊间的上料，提高了原料的上料效率和研磨效率，通过第一研磨辊和第二研磨辊对原料进行研磨，第二研磨辊再将原料带至第二研磨辊和第三研磨辊间，通过第二研磨辊和第三研磨辊对原料进行研磨，研磨后的原料再被出料板刮下，方便了化妆品原料的研磨；
23.2.通过在机体侧壁开设滑移槽，使刮板在滑移槽内上下滑移，并通过抵紧螺栓对刮板进行限位，方便了调整刮板与第一研磨辊间的间距，保证了刮板对原料的容纳承托，同时减小了第一研磨辊上的原料被刮板背面刮除的几率；
24.3.通过将刮板斜置，方便了工作人员在刮板顶沿将原料刮下，通过在刮板朝向第一研磨辊的侧面下端涂覆防粘层，方便了原料从刮板向第一研磨辊的流动，同时刮板上端对原料存在一定的拉力，保证了原料向第一研磨辊和第二研磨辊间的上料速度。
附图说明
25.图1是本技术实施例的一种化妆品原料研磨机的结构示意图。
26.图2是本技术实施例的一种化妆品原料研磨机的另一视角的结构示意图。
27.附图标记说明：1、机体；11、滑移槽；12、抵紧螺栓；21、第一研磨辊；22、第二研磨辊；23、第三研磨辊；3、挡板；4、出料板；5、接料板；6、刮板；61、防粘层；62、刮刀。
具体实施方式
28.以下结合附图1-图2对本技术作进一步详细说明。
29.本技术实施例公开一种化妆品原料研磨机。参照图1和图2，一种化妆品原料研磨机，包括机体1，机体1上方转动设置有第一研磨辊21和第二研磨辊22，第一研磨辊21和第二研磨辊22间上方设置有一对挡板3，第一研磨辊21背离第二研磨辊22一侧的上方设有刮板6，机体1上开设有供刮板6两侧边嵌入并滑移的滑移槽11，方便了工作人员将原料在刮板6顶沿刮下，并使原料沿刮板6向下流动至第一研磨辊21和第二研磨辊22间，而无需工作人员将原料涂抹在第一研磨辊21和第二研磨辊22间，防止上料时将第一研磨辊21和第二研磨辊22上的原料带离，或上料时原料与第一研磨辊21和第二研磨辊22间的摩擦力不够，导致上料较少，提高了原料的上料效率和研磨效率。
30.参照图1和图2，刮板6顶沿可拆卸设置有刮刀62，通过刮刀62将上料时的原料刮除，进一步方便了原料在刮板6上刮下，提高了原料的上料效率，且方便了刮刀62的替换，延长了刮板6的使用寿命。
31.参照图1和图2，滑移槽11下端向靠近第一研磨辊21的方向倾斜，使得刮板6底沿向靠近第一研磨辊21的方向倾斜，提高了刮板6对上料至第一研磨辊21和第二研磨辊22间的原料的容纳量，且更便于工作人员在刮板6顶沿将原料刮下的操作。刮板6两侧面底端均涂覆有防粘层61，防粘层61在本技术实施例中采用纳米涂层制成，使得原料流动至刮板6下端时受到的摩擦力减小，方便了原料向第一研磨辊21和第二研磨辊22间流动，同时刮板6上端与原料间的摩擦力对原料存在拉力，使得原料保持较为均衡的速度向下流动，保证了原料的持续均衡上料。
32.参照图1和图2，一对挡板3的侧边均与刮板6侧面相抵触，使得原料从挡板3和刮板6间泄漏并向下流动的几率减小，保证了挡板3和刮板6对第一研磨辊21和第二研磨辊22间的原料的容纳。
33.参照图1和图2，机体1侧壁上螺纹连接有抵紧螺栓12，抵紧螺栓12的端部与刮板6侧边相抵触，方便了在调整刮板6位置后，通过抵紧螺栓12将刮板6限位，方便了刮板6底沿与第一研磨辊21间的间距的调整，滑移槽11底端与第一研磨辊21轴线的间距设置为大于第一研磨辊21的半径，使得刮板6在调整时刮板6底沿不与第一研磨辊21相接触，减小了第一研磨辊21转动时刮板6底沿将第一研磨辊21上粘附的原料刮下的几率，同时刮板6背面的防粘层61进一步减小了原料与刮板6背面接触时粘附在刮板6背面上的几率，保证了原料在第一研磨辊21和第二研磨辊22间的正常研磨。
34.参照图1和图2，机体1上于第二研磨辊22背离第一研磨辊21的一侧转动设置有第三研磨辊23，第三研磨辊23背离第二研磨辊22的一侧设置有出料板4，第三研磨辊23轴线与第一研磨辊21轴线及第二研磨辊22轴线位于同一平面上，且第一研磨辊21至第三研磨辊23的转速依次增大，使得原料在第一研磨辊21和第二研磨辊22间进行研磨后，第二研磨辊22将研磨后的原料带离至第二研磨辊22和第三研磨辊23间，原料在第二研磨辊22和第三研磨辊23间进行研磨后，第三研磨辊23将研磨后的原料带离至出料板4，出料板4边沿与第三研磨辊23相抵触，方便了通过出料板4边沿将第三研磨辊23上经二次研磨的原料刮下。
35.参照图1和图2，第一研磨辊21至第三研磨辊23的下方设置有接料板5，方便了通过接料板5将不慎从第一研磨辊21和第二研磨辊22间或从第二研磨辊22和第三研磨辊23间掉落的原料承接，方便了工作人员将掉落的原料再次上料至第一研磨辊21和第二研磨辊22间进行研磨，减少了原料的浪费以及原料对机体1的污染。
36.本技术实施例一种化妆品原料研磨机的实施原理为：启动第一研磨辊21、第二研磨辊22及第三研磨辊23的驱动机构，使第一研磨辊21、第二研磨辊22和第三研磨辊23转动，工作人员通过工具挖出部分原料，并在刮板6顶沿的刮刀62上刮下，原料沿着刮板6向下流动至第一研磨辊21和第二研磨辊22间，第一研磨辊21和第二研磨辊22对原料进行研磨，第二研磨辊22将原料带离至第二研磨辊22和第三研磨辊23间，第二研磨辊22和第三研磨辊23对原料进行再一次的研磨，第三研磨辊23将二次研磨的原料带离至出料板4上方，出料板4边沿将第三研磨辊23上的原料刮下，即完成原料的研磨，若未达到所需研磨效果，即可将原料再次上料至第一研磨辊21和第二研磨辊22间进行再一次的研磨，直至满足需求。
37.以上为本技术的较佳实施例，并非依此限制本技术的保护范围，故：凡依本技术的结构、形状、原理所做的等效变化，均应涵盖于本技术的保护范围之内。