一种防污染自清洁的固晶设备的制作方法

1.本实用新型涉及半导体生产制造设备技术领域，更具体涉及一种防污染自清洁的固晶设备。


背景技术：

2.cmos(互补金属氧化物半导体)图像传感器对污染非常敏感，如灰尘、纤维、晶圆屑、油污和胶屑等都会造成良率不好。
3.现市场上生产此产品的标准d/b(固晶)设备都是敞开式，一般一片晶圆作业时间长达5个小时左右裸露在环境中；加上作业过程中，放置晶圆的托膜上会产生静电积累吸附灰尘和纤维；机器拾取晶片的机械结构上有弹簧和润滑油，在弹簧伸缩过程中会溅出极其细小的油污；吸巴头和磨巴头上因不断重复作业会积累的晶圆屑和胶屑等；针对以上这些问题设备并没有防止和清洁功能，造成在d/b生产过程中会产生一定的污染而造成产品功能受影响。现有方法是，在成品测试中侦测污染造成的影像问题，然后针对污染位置进行人工清洁，这种方法并没有针对污染产生的根本原因做改善，且利用人工清洁效率低、成本高。


技术实现要素：

4.为了解决上述问题，本实用新型提供了一种能够对污染源进行防治并自动实现清洁的的防污染自清洁的固晶设备。
5.根据本实用新型的一个方面，提供了一种防污染自清洁的固晶设备，其包括固晶设备本体，固晶设备本体具有机壳，固晶设备本体的作业区域内具有放置晶圆的托膜、基板推进区和基板推出区，托膜的上方设有晶圆拾取机构，固晶设备本体的作业区域上方设有防尘盖板，防尘盖板安装于机壳，晶圆拾取机构具有固定杆、且固定杆外套设有可压缩的弹簧，弹簧的下部设有防溅罩，基板推进区设有前置感应清洁机构，基板推出区设有后置感应清洁机构。由此，在作业区域上方加装防尘盖板，可防止晶圆设备环境中的灰尘和纤维掉落至加工中的产品上，减少污染源；在晶圆拾取机构的弹簧外设置防溅罩，这样可避免在弹簧伸缩的过程中溅出的润滑油的油粒污染晶圆；在基板推进区加装前置感应清洁机构，可以对刚推入固晶设备的基板进行清洁，提前出去基板上的灰尘颗粒和纤维，避免在晶圆设备中交叉污染，在作业完成后把基板推出固晶设备，通过加装在基板推出区的后置感应清洁机构对加工后的基板再次进行清洁；该改良后的防污染自清洁的固晶设备，从源头上减少污染并且及时对产品进行清洁，大大提高了产品的良品率，也提高了工作效率。
6.在一些实施方式中，防溅罩为中空的圆柱状结构，防溅罩的顶部敞口、底部封闭且底部设有安装孔，固定杆的末端固定于安装孔。由此，防溅罩为中空的圆柱状结构且位于弹簧的下部，不影响弹簧正常的伸缩，安装后，防溅罩底部闭合和由于防溅罩有一定的高度，可避免弹簧伸缩过程中润滑油溅出，从源头上减少对晶源的污染。
7.在一些实施方式中，前置感应清洁机构包括第一感应器和第一风刀，第一感应器
安装于基板推进区，第一风刀设于基板推进区的上方。由此，第一感应器感应到基板推进的时候，会触发第一风刀进行吹气，对基板表面进行清洁，提前去除基板上的灰尘颗粒和纤维，避免在晶圆设备中交叉污染。
8.在一些实施方式中，后置感应清洁机构包括第二感应器和第二风刀，第二感应器安装于基板推出区，第二风刀设于基板推出区的上方。由此，在固晶设备作业完成后，需要将基板推出去，当第二感应器感应到基板被推出的时候，会触发第二风刀进行吹气，对加工完成的基板表面和晶圆表面再次进行清洁。
9.在一些实施方式中，该防污染自清洁的固晶设备还包括静电消除器，静电消除器位于托膜旁、且静电消除器的出风口对准托膜的下表面。由此，晶圆放置在托膜上加工，通过安装静电消除器来消除作业过程中不断累积在托膜上的静电，避免吸附灰尘和纤维。
10.与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：本实用新型提供的防污染自清洁的固晶设备是基于现有的固晶设备进行改造，通过加装防尘盖板以防止设备放置环境中的灰尘和纤维掉落至作业区域内，通过加装静电消除器消除作业过程中不断累积在托膜上的静电、以避免吸附灰尘和纤维，通过在晶圆拾取机构的弹簧外加装防溅罩、以避免弹簧伸缩过程中溅出的油粒污染晶圆，通过在基板的推进和推出区域上安装第一风刀和第二风刀、对加工前后的基板进行吹气清洁，减少人工清洁的工序，大大提高了产品的良品率，也提高了工作效率。
附图说明
11.图1是本实用新型一种防污染自清洁的固晶设备的结构示意图；
12.图2是防溅罩的安装结构示意图；
13.图3是风刀的安装结构示意图；
14.图4是图3中a部放大图。
具体实施方式
15.下面结合具体实施方式对本实用新型作进一步的说明。
16.如图1所示，本实用新型所述一实施方式的一种防污染自清洁的固晶设备，包括固晶设备本体100，固晶设备本体100的上部具有机壳101，固晶设备本体100的作业区域内具有放置晶圆的托膜102、基板推进区103和基板推出区104。托膜102的上方具有晶圆拾取机构105，晶圆拾取机构105用于对晶圆的拾取并完成晶圆位置的移动，晶圆拾取机构105具有固定杆22，且固定杆22外套设有可压缩的弹簧21，在晶圆拾取机构105运动的过程中，弹簧21会被压缩和释放。
17.如图1所示，固晶设备本体100的作业区域上方设置有防尘盖板1，防尘盖板1通过螺丝安装于机壳101。防尘盖板1采用透明的亚克力板材，采用透明的材质，方便操作人员对作业区域内的工作情况进行观察。在作业区域上方加装防尘盖板1，可防止晶圆设备环境中的灰尘和纤维掉落至加工中的产品上，减少污染源。
18.如图1和2所示，在弹簧21的下部罩设有一个防溅罩2。具体的，防溅罩2为中空的圆柱状结构，防溅罩2的顶部敞口、底部封闭且底部设有安装孔201，固定杆22的末端可通过螺纹固定于安装孔201。防溅罩2为中空的圆柱状结构且位于弹簧21的下部，不影响弹簧21正
常的伸缩，安装后，防溅罩2底部闭合和由于防溅罩2有一定的高度，可避免弹簧21伸缩过程中润滑油溅出，从源头上减少对晶源的污染。
19.如图1、3和4所示，在基板推进区103安装前置感应清洁机构3，可以对刚推入固晶设备的基板进行清洁，提前出去基板上的灰尘颗粒和纤维，避免在晶圆设备中交叉污染。在基板推出区104安装后置感应清洁机构4，在作业完成后把基板推出固晶设备，通过后置感应清洁机构4对加工后的基板再次进行清洁。
20.前置感应清洁机构3包括第一感应器31和第一风刀32。基板推进区103和基板推出区104都具有输送基板的轨道106，将第一感应器31安装于基板推进区103的轨道106前端处，，将第一风刀32通过支架107架设于基板准备进入轨道106处上方。当第一感应器31感应到基板推进入轨道106的时候，会触发第一风刀32进行吹气，对基板表面进行清洁，提前去除基板上的灰尘颗粒和纤维，避免在晶圆设备中交叉污染。
21.后置感应清洁机构4包括第二感应器41和第二风刀42。将第二感应器41安装于基板推出区104的轨道106末端处，将第二风刀42通过支架107架设于基板推出区104的上方。在固晶设备作业完成后，需要将基板推出去，当第二感应器41感应到基板被推出的时候，会触发第二风刀42进行吹气，对加工完成的基板表面和晶圆表面再次进行清洁。
22.如图1所示，该防污染自清洁的固晶设备还包括静电消除器5，静电消除器5位于托膜102旁，且静电消除器5的出风口对准托膜102的下表面。对着托膜102的下表面吹风，可避免从上方吹使晶圆位置偏移。当晶圆放置在托膜102上加工，通过安装静电消除器5来消除作业过程中不断累积在托膜102上的静电，避免吸附灰尘和纤维。
23.本实用新型提供的防污染自清洁的固晶设备是基于现有的固晶设备进行改造，通过加装防尘盖板1以防止设备放置环境中的灰尘和纤维掉落至作业区域内，通过加装静电消除器5消除作业过程中不断累积在托膜102上的静电、以避免吸附灰尘和纤维，通过在晶圆拾取机构105的弹簧21外加装防溅罩2、以避免弹簧21伸缩过程中溅出的油粒污染晶圆，通过在基板的推进和推出区域上安装第一风刀32和第二风刀42、对加工前后的基板进行吹气清洁，减少人工清洁的工序，大大提高了产品的良品率，也提高了工作效率。
24.以上所述的仅是本实用新型的一些实施方式，应当指出，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型的创造构思的前提下，还可以做出其它变形和改进，这些都属于本实用新型的保护范围。