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牙齿矫正用支架的制作方法

2022-07-11 12:24:01 来源:中国专利 TAG:


1.本发明涉及一种用于患者的牙齿矫正手术的牙齿矫正用支架,更加详细地涉及一种在口腔内环境下,能够应对多种方向的应力,并稳定地治疗不正咬合的结构的牙齿矫正用支架。


背景技术:

2.牙齿矫正是指利用牙齿矫正用支架来正确地矫正不正牙齿的手术。牙齿矫正治疗一般包括对牙齿的不规则性或周边解剖结构和牙齿的关系进行矫正的牙科工作。不规则性可包括具有各种各样程度的严重性的不正咬合。
3.牙齿矫正用支架通过附着在牙齿表面而进行治疗的过程中,在口腔内环境中受到咀嚼压力、金属丝弧线的旋转力及矫正用种植体或螺旋弹簧等的拉力等多个方向的力量的影响。
4.图1a及图1b是示出实施了牙齿矫正用支架手术的牙齿结构的照片。参照图1a及图1b,口腔内矫正用支架所受的力可以主要是咀嚼时对合齿的咬合方向da,或矫正用种植体或螺旋弹簧等的拉力方向db。另外,虽然未示出,但矫正用支架受到的追加的力具有金属丝弧线的旋转力。
5.借助于以上多个方向的力量,当牙齿矫正用支架以低粘合强度粘贴到齿面时,支架可能会从齿面脱落。这会影响整个牙齿矫正计划,从而导致治疗无效。相反,当牙齿矫正用支架以必要以上的粘合强度粘贴在齿面时,治疗过程中可能会因咀嚼力造成牙齿损伤,治疗后去除牙齿矫正用支架的过程中牙齿表面也可能会受损。
6.另外,当将牙齿矫正用支架粘贴到齿面时,为了增加支架和粘合剂的结合强度有通过化学或机械的形式增加结合力的方法。
7.作为化学性地增加结合力的方法,通常在黏合基底表面涂覆有机硅烷或涂覆二氧化硅sio2。另外,由于该方法的粘合强度过高,在矫正治疗后或治疗过程中,可能会发生牙齿破裂或牙釉质层的损伤等的副作用。
8.作为机械性地增加结合力的方法,具有以难以机械性地脱离矫正用粘合剂(树脂)的下切结构的形态对黏合基底进行图形化的方式。这种方式在矫正用树脂所具有的黏合强度的范围内体现出粘合强度,因此在患者的治疗稳定性方面更有效。另一方面,在以往的机械的结合强度增加方式中,由于无法应对口腔内环境中传递的各种方向的应力,因此在治疗过程中可能会产生牙齿矫正用支架从齿面脱落的问题。


技术实现要素:

9.本发明是考虑到以上的点而设计出来的,涉及一种使得在口腔内环境下能够应对多种方向的应力的结构的牙齿矫正用支架。
10.为了实现上述目的,根据本发明的牙齿矫正用支架,包括:基底,其具有与牙齿相接的接合基准面;支架主体,其设置在基底上,并且形成有插入金属丝的插槽。
11.基底包括多个单位阴刻图案部,其在接合基准面以倾斜规定深度的形式引入形成,以便可收容将基底接合于牙齿的粘合剂,单位阴刻图案部分别具有沿深度方向形成内壁的第一倾斜面至第四倾斜面。
12.第一倾斜面和第二倾斜面以隔开规定距离的状态面对面配置,第三倾斜面配置于第一倾斜面的一侧和第二倾斜面的一侧之间,第四倾斜面配置于第一倾斜面的另一侧和第二倾斜面的另一侧之间,同时,可以相对于第三倾斜面以隔开规定距离的状态面对面配置。
13.在这里,在将基底接合到牙齿时,第一倾斜面及第二倾斜面沿金属丝对支架主体的牵引应力方向或其相反方向配置,第一倾斜面及第二倾斜面各自的倾斜方向可以以沿牵引应力方向或阻轴方向倾斜的形式引入形成。
14.第二倾斜面可以以相对于第一倾斜面平行的形式配置或者以相对于第一倾斜面倾斜规定倾斜度的形式配置,以便使得第一倾斜面和第二倾斜面之间的宽度越往内侧越窄。
15.另外,第一倾斜面至第四倾斜面的彼此相邻的棱角部分r1、r2、r3、r4以规定曲率r形成圆弧形,在第三倾斜面及第四倾斜面分别和接合基准面之间形成的直线部分s3、s4相对于在第一倾斜面或第二倾斜面分别和接合基准面之间形成的直线部分s1、s2可以以相对垂直线段s0倾斜规定倾斜角θ的形式形成。在这里,倾斜角θ可具有45度以下的值。
16.第一倾斜面至第四倾斜面的彼此相邻的棱角部分r1、r2、r3、r4的规定曲率r可具有0.01mm至0.5mm的值。
17.第四倾斜面可以以相对于第三倾斜面平行的形式配置或者以相对于第三倾斜面倾斜规定倾斜度的形式配置,以便使得第三倾斜面和第四倾斜面之间的宽度越往内侧越窄。
18.单位阴刻图案部的总个数n可构成为10个以上40个以下。
19.接合基准面可包括多个接合基准面,在沿牙齿的排列方向对基底进行切断时,具有截面曲率半径不同的不同曲面。
20.在此,多个接合基准面包括:第一接合基准面,在将基底接合到牙齿时,其与牙齿的facc相接,并且与另一个接合基准面相比,具有最小的截面曲率半径;第二接合基准面,其以与第一接合基准面的两端相接的形式形成,当接合基准面整体的面积称为a
all
,第一接合基准面的面积称为a1时,a1与a
all
的面积比可达到0.3至0.95的范围值。
21.在多个单位阴刻图案部中,当将沿相同的倾斜方向引入形成的多个单位阴刻图案部的集合定义为阴刻图案组时,基底至少包括两个以上的阴刻图案组,构成各个阴刻图案组的多个单位阴刻图案部可以以相互隔开规定距离的形式配置至少一列。
22.另外,阴刻图案组可以包括:第一阴刻图案组,将基底粘合在牙齿时,沿牙齿排列的近心(mesial)方向形成多个单位阴刻图案部的引入倾斜方向;第二阴刻图案组,其沿牙齿排列的远心(distal)方向形成多个单位阴刻图案部的引入倾斜方向。
23.在这里,构成第一阴刻图案组的多个单位阴刻图案部和构成第二阴刻图案组的多个单位阴刻图案部分别配置为至少两列,第一阴刻图案组的多个单位阴刻图案部的各列和第二阴刻图案组的多个单位阴刻图案部的各列可以以相互交替的形式排列。
24.另外,阴刻图案组还可以包括:第三阴刻图案组,其沿与构成第一阴刻图案组及第二阴刻图案组的多个单位阴刻图案部的引入倾斜方向相直交的方向形成多个单位阴刻图
案部的引入倾斜方向。此时,第一阴刻图案组及第二阴刻图案组一共配置为四列,其中两列是第一阴刻图案组和第二阴刻图案组排列在一起,剩下的两列是第一阴刻图案组及第二阴刻图案组交替配置,构成第三阴刻图案组的多个单位阴刻图案部可配置为两列。
25.另外,阴刻图案组还可以包括:第四阴刻图案组,其沿与构成第三阴刻图案组的多个单位阴刻图案部的引入倾斜方向相反的方向形成多个单位阴刻图案部的引入倾斜方向。在这里,分别构成第一阴刻图案组、第二阴刻图案组及第四阴刻图案组的多个单位阴刻图案部配置为一列,构成第三阴刻图案组的多个单位阴刻图案部配置为两列,第一阴刻图案组和第二阴刻图案组以相邻的形式配置,第三阴刻图案组及第四阴刻图案组分别配置于第二阴刻图案组及第一阴刻图案组的两侧。
26.根据本发明的牙齿矫正用支架,在口腔内可以有效应对进行作用于支架的咀嚼时对合齿的咬合方向、矫正用种植体或螺旋弹簧等的拉力方向、金属丝弧线的旋转力等多种方向的应力。
附图说明
27.图1a及图1b是分别示出实施了牙齿矫正用支架手术的牙齿结构的照片。
28.图2及图3是分别在不同方向上示出的根据本发明的第一实施例的牙齿矫正用支架的立体图。
29.图4是图3的iv-iv线截面图。
30.图5是图3的v-v线截面图。
31.图6是示出根据本发明的第一实施例的牙齿矫正用支架的一个单位阴刻图案部的正面图。
32.图7是示出根据本发明的第一实施例的牙齿矫正用支架的接合基准面的底面立体图。
33.图8是示出根据本发明的第一实施例的牙齿矫正用支架的接合基准面的底面图。
34.图9是图8的ix-ix线截面图。
35.图10是图8的x-x线截面图。
36.图11是示出根据本发明的第一实施例的牙齿矫正用支架安装在牙齿的样子的照片。
37.图12是示出根据本发明的第二实施例的牙齿矫正用支架的接合基准面的底面图。
38.图13是示出根据第三实施例的牙齿矫正用支架安装于牙齿的样子的照片。
39.图14是示出根据本发明的第三实施例的牙齿矫正用支架的接合基准面的底面图。
具体实施方式
40.以下,参考附图对本发明的实施例进行详细的说明。为了在图上对本发明进行明确的说明而省略了与说明无关的部分,并且决定通过说明书整体对相同或相似的构成要素使用相同的参照标号。
41.图2及图3是分别在不同方向上示出的根据本发明的第一实施例的牙齿矫正用支架的立体图。
42.参照图2和图3,根据本发明的第一实施例的牙齿矫正用支架100包括基底110和支
架主体150,其中,基底110具有与牙齿(未示出)相接的接合基准面111。在矫正牙齿时,基底110通过粘合剂相对于牙齿进行接合安装。支架主体150设置在基底110上,并且具有以插入牙齿矫正用金属丝的形式形成的插槽151。在这里,基底110和支架主体150可以用单一材料形成为一体。
43.基底110包括多个单位阴刻图案部120,其对粘合剂进行收容,并且在接合基准面111以倾斜规定深度的形式引入形成。
44.图4是图3的iv-iv线截面图,图5是图3的v-v线截面图。
45.参照图4和图5,形成于牙齿矫正用支架的基底110的单位阴刻图案部120分别具有沿深度方向形成内壁的第一倾斜面123a、第二倾斜面123b、第三倾斜面123c、第四倾斜面123d。在这里,在单位阴刻图案部120的深度方向的底部形成有阴刻图案基准面121。
46.因此,收容在各个单位阴刻图案部120的粘合剂的容量由阴刻图案基准面121的深度和在第一倾斜面123a、第二倾斜面123b、第三倾斜面123c、第四倾斜面123d之间形成的侧壁内的空间的大小来决定。
47.第一倾斜面123a和第二倾斜面123b以隔开规定距离的状态面对面配置。在这里,当相对于牙齿接合基底110时,第一倾斜面123a及第二倾斜面123b分别沿金属丝对支架主体150的牵引应力方向或其相反方向配置。
48.对收容应对咀嚼力或牵引力的第一倾斜面和第二倾斜面的单位阴刻图案部120的数量和深度进行调节,从而可相对于应力具有稳定性。在这里,阴刻图案基准面121的深度可形成为1mm以内。如上所述,当图案的倾斜面沿与牙齿的牵引方向相对应的方向倾斜时,在结构上相对于牵引力可具有更高的稳定性。
49.第二倾斜面123b可以以相对于第一倾斜面123a平行的形式配置。另外,可以以相对于第一倾斜面倾斜规定倾斜度的形式配置,以便使得第一倾斜面123a和第二倾斜面123b之间的宽度越往内侧的阴刻图案基准面121越窄。
50.如上所述,以锥形化的形式形成的倾斜面,在制造牙齿矫正用支架时,在注塑成型步骤中,可以使得从模具中取出注塑成型体的过程变得容易,从而提高产品的生产率。
51.第三倾斜面123c配置于第一倾斜面123a的一侧和第二倾斜面123b的一侧之间。第四倾斜面123d配置于第一倾斜面123a的另一侧和第二倾斜面123b的另一侧之间,同时,相对于第三倾斜面123c以隔开规定距离的状态面对面配置。
52.图6是示出根据本发明的第一实施例的牙齿矫正用支架的一个单位阴刻图案部120的正面图。
53.参照图6,第一倾斜面123a、第二倾斜面123b、第三倾斜面123c、第四倾斜面123d的彼此相邻的棱角部分r1、r2、r3、r4可以以规定曲率r形成圆弧形。另外,在第三倾斜面123c及第四倾斜面123d分别和接合基准面111之间形成的直线部分s3、s4相对于在第一倾斜面123a或第二倾斜面123b分别和接合基准面111之间形成的直线部分s1、s2以相对垂直线段s0倾斜规定倾斜角θ的形式形成。
54.虽然图6是举例示出直线部分s3、s4均相对于垂直线段s0以规定倾斜度设置,但并不限于此,并且也可能只有某一个部分以倾斜的形式设置。
55.在这里,倾斜角θ可满足数学式1的条件。
56.【数学式1】
crown,临床牙冠面轴)是指除大臼齿以外的所有牙齿中,从临床牙冠长轴的二等分点(fa point)到中央叶(central lobe)的最大凸出部(a maximum protruding part),是从大臼齿中分离出两个颊侧尖(buccal cusp)的颊侧沟(buccal groove)。
76.另外,接合基准面可满足下列数学式4的条件。
77.【数学式4】
[0078][0079]
在这里,a1是第一接合基准面p1的面积,a
all
是接合基准面的整体面积。
[0080]
在数学式4中,当条件值不足0.3时,曲面会变舒缓,从而减少与牙齿表面的紧贴度,并且基底110和齿面的粘合力会变弱。相反,当条件值超过0.95时,和牙齿曲面大的患者的紧贴度可能会下降,从而基底110和齿面的粘合力会减弱。
[0081]
另外,如果满足数学式4的条件,对于牙齿的曲面小或大的所有患者,齿面和基底110之间的紧贴度都会增加。
[0082]
图8是示出根据本发明的第一实施例的牙齿矫正用支架的接合基准面的底面图,图9是图8的ix-ix线截面图,图10是图8的x-x线截面图。另外,图11是示出根据第一实施例的牙齿矫正用支架安装在牙齿的模样的照片。
[0083]
参照图8至图11,可将多个单位阴刻图案部120中沿相同的倾斜方向ds、ds'引入形成的多个单位阴刻图案部的集合定义为阴刻图案组。在这种情况下,基底110至少可包括两个以上的阴刻图案组gp1、gp2。构成各个阴刻图案组的多个单位阴刻图案部可以以相互隔开规定距离的形式至少配置为一列。
[0084]
阴刻图案组可包括第一阴刻图案组gp1和第二阴刻图案组gp2。当将基底110粘贴在牙齿上时,第一阴刻图案组gp1沿牙齿排列的近心(mesial)方向形成多个单位阴刻图案部的引入倾斜方向ds。第二阴刻图案组gp2可沿牙齿排列的远心(distal)方向形成多个单位阴刻图案部的引入倾斜方向ds'。
[0085]
此时,构成第一阴刻图案组gp1的多个单位阴刻图案部和构成第二阴刻图案组gp2的多个单位阴刻图案部分别配置为至少两列。另外,第一阴刻图案组gp1的多个单位阴刻图案部的各列和第二阴刻图案组gp2的多个单位阴刻图案部的各列可以以相互交替的形式配置。另外,如图8所示,在形成单位阴刻图案部的一部分列的情况下,可交替配置有构成第一阴刻图案组gp1的单位阴刻图案部和构成第二阴刻图案组gp2的单位阴刻图案部。
[0086]
如上所述,包括第一阴刻图案组gp1和第二阴刻图案组gp2,从而可对近心方向和远心方向的应力具有较高的稳定性。
[0087]
图12是示出根据本发明的第二实施例的牙齿矫正用支架的接合基准面的底面图。另外,图13是示出根据第三实施例的牙齿矫正用支架安装于牙齿的模样的照片。
[0088]
参照图12和图13,根据本发明的第二实施例的牙齿矫正用支架的阴刻图案组可包括第一阴刻图案组gp1、第二阴刻图案组gp2、第三阴刻图案组gp3。在这里,构成第一阴刻图案组gp1及第二阴刻图案组gp2的多个单位阴刻图案部的引入倾斜方向与图10的第一阴刻图案组及第二阴刻图案组实质上相同。另一方面,第三阴刻图案组gp3可沿与构成第一阴刻图案组gp1及第二阴刻图案组gp2的多个单位阴刻图案部的引入倾斜方向相直交的方向形成有多个单位阴刻图案部的引入倾斜方向ds"。
[0089]
在这里,第一阴刻图案组gp1及第二阴刻图案组gp2一共可配置为四列。此时,两列是第一阴刻图案组gp1和第二阴刻图案组gp2排列在一起,剩下的两列是第一阴刻图案组及第二阴刻图案组各配置为一列。另外,构成第三阴刻图案组的多个单位阴刻图案部可配置为两列。
[0090]
通过如上所述的结构,第一阴刻图案组及第二阴刻图案组对近心方向和远心方向的应力具有较高的稳定性,第三阴刻图案组可以更稳定地应对咀嚼力方向或其相反方向da。另外,根据本实施例的支架能够更加稳定地应对因过度咬合进行的治疗案例较多的牙齿。
[0091]
图14是示出根据本发明的第三实施例的牙齿矫正用支架的接合基准面的底面图。
[0092]
参照图14,根据本发明的第三实施例的牙齿矫正用支架的阴刻图案组可包括第一阴刻图案组gp1、第二阴刻图案组gp2、第三阴刻图案组gp3、第四阴刻图案组gp4。在这里,构成第一阴刻图案组gp1、第二阴刻图案组gp2、第三阴刻图案组gp3的多个单位阴刻图案部的引入倾斜方向与图10至图13的第一至第三阴刻图案组实质上相同。
[0093]
与构成第三阴刻图案组gp3的多个单位阴刻图案部的引入倾斜方向相反地,第四阴刻图案组gp4可形成有多个单位阴刻图案部的引入倾斜方向。在这种情况下,分别构成第一阴刻图案组gp1、第二阴刻图案组gp2、第四阴刻图案组gp4的多个单位阴刻图案部被配置成一列。构成第三阴刻图案组gp3的多个单位阴刻图案部被配置成两列。另外,第一阴刻图案组gp1和第二阴刻图案组gp2以相邻的形式配置,第三阴刻图案组gp3和第四阴刻图案组gp4可分别配置在第二阴刻图案组gp2和第一阴刻图案组gp1的两侧。
[0094]
通过如上所述的结构,第一阴刻图案组及第二阴刻图案组对近心方向和远心方向的应力具有较高的稳定性,第三阴刻图案组可以更加稳定地应对咀嚼力,第四阴刻图案组对牙齿的下压或萌出方向具有阻轴方向,因此可以更加稳定地应对上下左右的复合应力。
[0095]
以上实施例不过是示例性的,如果是在本发明所属的技术领域具有一般知识的人,可由此实现多种变形及均等的其他实施例。因此,本发明的真正的技术保护范围应该由权利要求书中记载的发明的技术思想来确定。
再多了解一些

本文用于企业家、创业者技术爱好者查询,结果仅供参考。

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