用于投射曝光设备的照明光学单元的多分面反射镜的制作方法

技术特征：
1.一种用于投射曝光设备(1)的照明光学单元(1a)的分面反射镜(7、20)，具有1.1.大量可移位的单独分面(8
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)，其具有1.1.1.分面主体(35)，和1.1.2.布置在其上的反射表面(36)，1.2.其特征在于，所述单独分面(8
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)形成为使得相邻的单独分面(8
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)彼此接触，但仅在所述分面主体(35)中或上形成的止动表面区域中和/或在所述分面主体(35)中或上布置或形成的止动元件(38)的区域中接触。2.一种用于投射曝光设备(1)的照明光学单元(1a)的分面反射镜(7、20)，具有2.1.大量可移位的单独分面(8
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)，其具有2.1.1.分面主体(35)和2.1.2.布置在其上的反射表面(36)，2.2.其中，所述单独分面(8
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)中的至少一些具有位移范围，使得它们在一个或多个位移位置与止动表面接触。3.根据权利要求1或2所述的分面反射镜(7、20)，其特征在于，所有单独分面(8
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)在其相应的原始位置和/或在主动位移位置中以距所有止动表面一距离来布置。4.根据前述权利要求中任一项所述的分面反射镜(7、20)，其特征在于，所述单独分面(8
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)中的一些具有位移范围，使得相邻的单独分面(8
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)在一个或多个位移位置中接触。5.根据前述权利要求中任一项所述的分面反射镜(7、20)，其特征在于，所述单独分面(8
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)中的至少一些形成为使得相邻的单独分面(8
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)能够在预先确定的止动表面的区域中接触。6.根据前述权利要求中任一项所述的分面反射镜(7、20)，其特征在于，所述止动表面在单独分面(8
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)的分面主体(35)上或中形成或者通过分离的止动元件(38)形成。7.根据前述权利要求中任一项所述的分面反射镜(7、20)，其特征在于，所述分面主体(35)形成为使得两个相邻的单独分面(8
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)的分面主体(35)之间的距离小于它们的反射表面(36)之间的距离。8.根据前述权利要求中任一项所述的分面反射镜(7、20)，其特征在于，一个或多个止动元件(38)在各个情况下被配备在所述分面主体(35)上或所述分面主体(35)中。9.根据权利要求7或8所述的分面反射镜(7、20)，其特征在于，所述止动元件(38)在平行于所述反射表面(36)的方向上的范围大于所述反射表面(36)在该方向上的范围和/或突出超过所述分面主体(35)至其远离所述反射表面(36)的一侧。10.根据权利要求7至9中任一项所述的分面反射镜(7、20)，其特征在于，所述止动元件(38)成对地布置在所述分面主体(35)上，使得它们的外包络在由所述包络包围的反射区域(36)的部分区域的垂直投射中在至少一个方向上突出超过所述反射表面(36)。11.根据前述权利要求中任一项所述的分面反射镜(7、20)，其特征在于，一个或多个用于限制所述单独分面(8
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)的位移范围的构件。12.一种用于投射曝光设备(1)的照明光学单元(1a)的分面反射镜(7、20)的单独分面(8、21)，具有12.1.分面主体(35)，和
12.2.布置在其上的反射表面(36)，12.3.其特征在于，在所述分面主体(35)上或所述分面主体(35)中提供一个或多个止动表面和/或止动元件(38)，所述一个或多个止动表面和/或止动元件(38)在所述反射表面的表面法线的方向上的投射中，在垂直于该表面法线的至少一个方向上突出超过所述反射表面(36)。13.根据权利要求12所述的单独分面(8、21)，其特征在于，所述单独分面具有一个或多个止动表面和/或止动元件(38)，其在所述反射表面的表面法线的方向上的投射中，在垂直于该表面法线的至少一个方向上和在相反方向上都突出超过所述反射表面(36)。14.根据权利要求12或13所述的单独分面(8、21)，其特征在于，所述单独分面具有一个或多个止动表面和/或止动元件(38)，其在所述反射表面的表面法线的方向上的投射中，在所述反射表面(36)的整个圆周区域之上突出超过所述反射表面(36)。15.根据权利要求12至14中的任一项所述的单独分面(8、21)，其特征在于，所述投射是平行投射。16.根据权利要求12至15中的任一项所述的单独分面(8、21)，其特征在于，所述投射是正交投射。17.根据权利要求12至16中任一项所述的单独分面(8、21)，其特征在于，所述分面主体(35)和/或所述止动元件(38)中的至少一些在平行于所述反射表面(36)的方向上的范围大于所述反射表面(36)在该方向上的范围。18.根据权利要求12至17中任一项所述的单独分面(8、21)，其特征在于，所述止动元件(38)中的至少一些在其背离所述反射表面(36)的一侧上在至少一个方向上突出超过所述分面主体(35)。19.根据权利要求12至18中任一项所述的单独分面(8、21)，其特征在于，所述止动元件(38)中的至少一些成对地布置在所述分面主体(35)上，使得它们的外包络在由所述包络包围的反射区域(36)的部分区域的垂直投射中在至少一个方向上突出超过所述反射表面(36)。20.根据权利要求12至19中任一项所述的单独分面(8、21)，其特征在于，所述分面主体(35)具有至少一个自由端，所述分面主体(35)的横截面朝向所述自由端减小。21.根据权利要求12至20中任一项所述的单独分面(8、21)，其特征在于，所述分面主体(35)具有用于减小质量惯性矩(i)的构件和/或用于增加刚度的构件。22.一种用于投射曝光设备(1)的照明光学单元(1a)的分面反射镜(7、20)的单独分面(8、21)，具有22.1.分面主体(35)，和22.2.布置在其上的反射表面(36)，22.3.其特征在于，所述分面主体(35)具有用于减小质量惯性矩(i)的构件和/或用于增加刚度的构件。23.一种照明光学单元(1a)，具有至少一个根据权利要求1至11中任一项所述的分面反射镜(7、20)。24.一种照明系统(1c)，具有24.1.根据权利要求23所述的照明光学单元(1a)，以及
24.2.用于产生照明辐射(4)的辐射源(5)。25.一种光学系统，具有25.1.根据权利要求23所述的照明光学单元(1a)，以及25.2.用于将物场(2)投射到像场中的投射光学单元(1b)。26.一种投射曝光设备(1)，具有26.1.用于产生照明辐射(4)的辐射源(5)，26.2.根据权利要求23所述的照明光学单元(1a)，以及26.3.用于将物场(2)投射到像场中的投射光学单元(1b)。27.一种用于制造微结构部件或纳米结构部件的方法，包括以下步骤：-提供根据权利要求26所述的投射曝光设备，-提供具有待成像的结构的掩模母版；-提供具有辐射敏感涂层的晶片，-使用所述投射曝光设备(1)将所述掩模母版的待成像结构成像到所述晶片上。28.一种由根据权利要求27所述的方法制造的部件。

技术总结
一种用于投射印刷系统的照明光学单元的多分面反射镜具有多个可移位的单独分面(8


技术研发人员：W.安德尔 C.科纳 H.奥尔德雷 M.霍尔兹 M.斯通皮 S.塞茨
受保护的技术使用者：卡尔蔡司SMT有限责任公司
技术研发日：2020.09.18
技术公布日：2022/7/9