用于抛光试样的装置和方法

技术特征：
1.一种用于抛光试样的装置，包括：-抛光盘，能围绕轴线旋转，-抛光垫，附接至所述抛光盘，以及-试样保持器，用于将所述试样保持抵靠所述抛光垫，其特征在于，所述装置包括：-用于测量所述抛光垫上多个位置中的物理量的器件，所述物理量指示水分或摩擦力，以及-用于基于所测量的物理量的值将抛光悬浮液分配到所述抛光垫上的所述多个位置的器件。2.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述物理量是所述抛光垫上的电阻，并且用于分配抛光悬浮液的器件配置为如果在一位置处的电阻的值大于第一阈值，则将所述抛光悬浮液分配到所述抛光垫上的该位置。3.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述物理量是所述抛光垫的相对侧之间的电容，并且用于分配抛光悬浮液的器件配置为如果在一位置处的电容的值小于第二阈值，则将所述抛光悬浮液分配到所述抛光垫上的该位置。4.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述物理量是所述抛光垫的表面上的摩擦力，并且用于分配抛光悬浮液的器件配置为如果在一位置处的摩擦力的值大于第三阈值，则将所述抛光悬浮液分配到所述抛光垫上的该位置。5.根据前述权利要求中任一项所述的装置，其特征在于，用于测量物理量的器件包括布置为与所述抛光垫的表面接触的传感器和用于在所述抛光垫上的多个位置之间移动所述传感器的器件。6.根据权利要求5所述的装置，其特征在于，用于移动所述传感器的器件包括设置在所述抛光垫上方的臂和用于沿着所述臂移动所述传感器的致动器。7.根据权利要求1至4中任一项所述的装置，其特征在于，用于测量物理量的器件包括传感器阵列，所述传感器阵列布置成与所述抛光垫的表面接触。8.根据权利要求5至7中任一项所述的装置，其特征在于，所述传感器包括布置成与所述抛光垫的表面接触的至少两个电接触元件，并且用于测量物理量的器件包括用于测量所述至少两个电接触元件中的两个电接触元件之间的电阻的器件。9.根据权利要求8所述的装置，其特征在于，用于测量物理量的器件包括用于测量所述至少两个电接触元件中的一个电接触元件与所述抛光盘之间的电容的装置。10.根据权利要求5至9中任一项所述的装置，其特征在于，用于测量物理量的器件包括用于使所述传感器压压靠所述抛光垫的表面的压缩元件。11.根据权利要求5至10中任一项所述的装置，其特征在于，用于测量物理量的器件包括用于测量作用在所述传感器上的横向力的器件。12.根据前述权利要求中任一项所述的装置，其特征在于，用于分配抛光悬浮液的器件包括设置在所述抛光垫上方的喷射嘴和用于在所述抛光垫上的多个位置之间移动所述喷射嘴的器件。13.根据权利要求12所述的装置，其特征在于，用于移动所述喷射嘴的器件包括设置在所述抛光垫上方的臂和用于沿着所述臂移动所述喷射嘴的致动器。
14.根据权利要求1至11中任一项所述的装置，其特征在于，用于分配抛光悬浮液的器件包括布置在所述抛光垫上方的喷射嘴阵列。15.一种用于抛光试样的方法，包括：-用试样保持器将所述试样保持抵靠抛光垫，所述抛光垫附接至抛光盘，以及-使所述抛光盘围绕轴线旋转，其特征在于，所述方法包括：-在所述抛光垫上的多个位置处测量表示水分或摩擦力的物理量，以及-基于所测量的物理量的值将抛光悬浮液分配到所述抛光垫上的所述多个位置。

技术总结
本发明涉及一种用于抛光试样(104、204)的装置。该装置包括抛光盘(101，201)，其可围绕轴线旋转，抛光垫(103，203)，其附接至抛光盘(101，201)，试样保持器(105，205)，用于将试样(104，204)保持抵靠抛光垫(103，203)，用于测量抛光垫(103，203)上多个位置的物理量的器件(107，110，207，212)，该物理量表示水分或摩擦力，以及用于基于测量的物理量的值将抛光悬浮液分配到抛光垫(103，203)上的多个位置的器件(116，119，120，121，213，215，216，217)。本发明还涉及一种用于抛光试样(104、204)的方法。204)的方法。204)的方法。


技术研发人员：阿托
受保护的技术使用者：图尔库大学
技术研发日：2020.11.16
技术公布日：2022/7/9