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显示面板及显示装置的制作方法

2022-06-18 01:53:17 来源:中国专利 TAG:


1.本发明涉及显示技术领域,尤其涉及一种显示面板及具有该显示面板的显示装置。


背景技术:

2.有机发光二极管(organic light-emitting diode,oled)显示面板由于自发光、响应速度快、视角广、可实现柔性显示等优点被广泛应用。
3.为了提高显示面板的屏占比,现有oled显示面板会进行屏下摄像头(camera under panel,cup)设计;此外,相关技术中,常将触控层设置于oled显示面板内,以提高oled显示面板的集成程度并降低oled显示面板的厚度。为了防止触控层影响cup区域的透光率,常将cup区域内的触控层进行去除,以提高cup区域的透光率,进而提高屏下摄像头的成像效果。
4.但是,在制程上,通常采用蚀刻液对触控层金属进行图案化处理,以得到触控电极图形以及在cup区域形成开口,由于cup区域去除的触控层金属较多,进而需要的蚀刻液的量相比于其他区域更多,进而导致邻近cup区域的触控电极在蚀刻过程中会被cup区域内的蚀刻液所蚀刻,容易使得邻近cup区域的触控电极线宽变小甚至发生断裂等不良现象,进而影响oled显示面板的良率。


技术实现要素:

5.本发明实施例提供一种显示面板及显示装置,能够避免触控部在蚀刻过程中腐蚀,提高了显示面板的良率。
6.本发明实施例提供一种显示面板,所述显示面板包括功能显示区以及围绕所述功能显示区设置的常规显示区;
7.所述显示面板还包括:
8.基板;
9.发光层,设置于所述基板上并包括多个发光像素,多个所述发光像素包括设置于所述常规显示区内的多个第一发光像素以及设置于所述功能显示区内的多个第二发光像素,且相同单位面积内,所述第一发光像素的数量与所述第二发光像素的数量相同;
10.触控层,设置于所述发光层远离所述基板的一侧,所述触控层包括设置于所述功能显示区内的开口、围绕所述开口设置的阻隔部以及位于所述阻隔部远离所述开口一侧并至少位于所述常规显示区内的触控部,所述阻隔部与所述触控部之间绝缘设置;
11.其中,至少部分所述阻隔部设置在所述功能显示区中,所述阻隔部在所述基板上的正投影和所述第一发光像素以及所述第二发光像素在所述基板上的正投影均不重叠设置。
12.在本发明的一种实施例中,所述触控部包括多个触控电极,所述触控电极包括多个相互电连接的第一金属格子,至少部分所述第一金属格子与所述第一发光像素对应设置
且不与对应的所述第一发光像素重叠;
13.所述阻隔部包括多个相互电连接的第二金属格子,各所述第二金属格子与所述第二发光像素或所述第一发光像素对应设置,且不与对应的所述第二发光像素或对应的所述第一发光像素重叠;
14.其中,相同单位面积内所述第二金属格子的数量与所述第一金属格子的数量相同。
15.在本发明的一种实施例中,所述第二金属格子与对应所述第二发光像素之间的最小间距大于所述第一金属格子与对应所述第一发光像素之间的最小间距。
16.在本发明的一种实施例中,所述第二金属格子与对应所述第二发光像素之间的最小间距大于所述第二金属格子与对应所述第一发光像素之间的最小间距。
17.在本发明的一种实施例中,第一颜色的所述第二发光像素的面积小于所述第一颜色的所述第一发光像素的面积,且所述第一颜色包括红色、绿色以及蓝色中的任一者。
18.在本发明的一种实施例中,所述阻隔部在沿远离所述开口中心的任一方向上设置有至少两所述第二金属格子。
19.在本发明的一种实施例中,所述第二金属格子的线宽小于或等于所述第一金属格子的线宽。
20.在本发明的一种实施例中,部分所述第一金属格子还与所述第二发光像素对应设置且不与对应的所述第二发光像素重叠,所述第二金属格子与所述第二发光像素对应设置且不与对应的所述第二发光像素重叠。
21.在本发明的一种实施例中,所述功能显示区包括透光显示子区以及位于所述透光显示子区和所述常规显示区之间的过渡子区;
22.至少部分所述阻隔部设置在所述过渡子区中。
23.根据本发明的上述目的,提供一种显示装置,所述显示装置包括所述显示面板,以及摄像头组件,且所述摄像头组件对应所述功能显示区设置于所述显示面板的一侧。
24.本发明的有益效果:本发明通过在触控部靠近功能显示区的一侧设置与触控部相绝缘的阻隔部,进而在制程中,由于功能显示区需要蚀刻去除的触控层材料较多,以形成开口,进而需要较多的蚀刻液进行蚀刻,而本发明中通过在触控部和开口之间设置阻隔部,以在触控部和开口之间起到缓冲作用,即功能显示区内的蚀刻液由于阻隔部的阻挡将无法对触控部产生蚀刻,以提高触控部的蚀刻良率,提高了触控电极和显示面板的良品率。
附图说明
25.下面结合附图,通过对本发明的具体实施方式详细描述,将使本发明的技术方案及其它有益效果显而易见。
26.图1为本发明实施例提供的显示面板的一种平面分布示意图;
27.图2为本发明实施例提供的显示面板的平面局部放大示意图;
28.图3为本发明实施例提供的触控层的一种平面结构示意图;
29.图4为本发明实施例提供的触控电极的平面结构示意图;
30.图5为本发明实施例提供的触控电极的截面结构示意图;
31.图6为本发明实施例提供的触控层的另一种平面结构示意图;
32.图7为本发明实施例提供的显示面板的另一种平面分布示意图;
33.图8为本发明实施例提供的触控层的另一种平面结构示意图;
34.图9为本发明实施例提供的触控层的另一种平面结构示意图;
35.图10为本发明实施例提供的触控层的另一种平面结构示意图;
36.图11为本发明实施例提供的触控层的另一种平面结构示意图。
具体实施方式
37.下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。
38.下文的公开提供了许多不同的实施方式或例子用来实现本发明的不同结构。为了简化本发明的公开,下文中对特定例子的部件和设置进行描述。当然,它们仅仅为示例,并且目的不在于限制本发明。此外,本发明可以在不同例子中重复参考数字和/或参考字母,这种重复是为了简化和清楚的目的,其本身不指示所讨论各种实施方式和/或设置之间的关系。此外,本发明提供了的各种特定的工艺和材料的例子,但是本领域普通技术人员可以意识到其他工艺的应用和/或其他材料的使用。
39.本发明实施例提供一种显示面板,请参照图1、图2以及图3,该显示面板包括功能显示区101以及围绕功能显示区101设置的常规显示区102。
40.进一步地,显示面板还包括基板(图中并未示出)、发光层20以及触控层10;发光层20设置于基板上,发光层20包括多个发光像素,且多个发光像素包括设置于常规显示区102内的多个第一发光像素21以及设置于功能显示区101内的多个第二发光像素22,且相同单位面积内,第二发光像素22的数量与第一发光像素21的数量相同;触控层10设置于发光层20远离基板的一侧,且触控层10包括设置于功能显示区101内的开口1011、围绕开口1011设置的阻隔部12以及位于阻隔部12远离开口1011一侧并至少位于常规显示区102内的触控部11,阻隔部12与触控部11之间绝缘设置。
41.其中,至少部分阻隔部12设置在功能显示区101中,阻隔部12在基板上的正投影和第二发光像素22以及第一发光像素21在基板上的正投影不重叠设置。
42.在实施应用过程中,本发明实施例通过在触控部11靠近功能显示区101的一侧设置与触控部11相绝缘的阻隔部12,进而在制程中,由于功能显示区101需要蚀刻去除的触控层材料较多,以形成开口1011,进而需要较多的蚀刻液进行蚀刻,而本发明实施例中通过在触控部11和开口1011之间设置阻隔部12,以在触控部11和开口1011之间起到缓冲作用,即功能显示区101内的蚀刻液由于阻隔部12的阻挡将无法对触控部11产生蚀刻,以提高触控部11的蚀刻良率,提高了触控电极和显示面板的良品率。
43.具体地,在本发明的一种实施例中,请继续参照图1、图2、图3以及图4,显示面板包括基板、设置于基板上的薄膜晶体管层、设置于薄膜晶体管层远离基板一侧的阳极层、设置于阳极层远离薄膜晶体管层一侧的像素定义层和发光层20、设置于发光层远离阳极层一侧的阴极层、设置于阴极层远离发光20一侧的触控层10;其中,阴极层与触控层10之间还可以设置有封装层。
44.可以理解的是,上述基板、薄膜晶体管层、阳极层、像素定义层、阴极层以及封装层在图中并未示出,其中,薄膜晶体管层包括设置于基板上的多个薄膜晶体管以及包覆薄膜晶体管的绝缘层,阳极层包括多个阳极,且每一阳极与以薄膜晶体管电性连接,像素定义层设置于阳极层上,且包括对应各阳极设置的像素开口。需要说明的是,在本发明实施例中,多个阳极可同时分布于常规显示区102以及功能显示区101,对应的,多个像素开口也可同时分布于常规显示区102以及功能显示区101;发光层20包括对应各像素开口设置于对应的阳极上的多个发光像素,且多个发光像素同时分布于常规显示区102以及功能显示区101中。进一步地,阴极层可覆盖发光层20,而封装层可覆盖阴极层,并可将触控层10设置于封装层远离阴极层的一侧。
45.其中,发光层20包括设置于功能显示区101内的多个第二发光像素22以及设置于常规显示区102内的多个第一发光像素21,且第二发光像素22位于功能显示区101内的像素开口中,而第一发光像素21位于常规显示区102内的像素开口中;进一步地,在相同单位面积内,第二发光像素22的数量等于第一发光像素21的数量,以使得功能显示区101也可以进行正常显示功能。
46.需要指出的是,在本发明实施例中,第二发光像素22和第一发光像素21的排列方式相同,即相邻第二发光像素22的几何中心之间的距离等于相邻第一发光像素21的几何中心之间的距离,还等于相邻的第二发光像素22的几何中心与第一发光像素21的几何中心之间的距离。
47.可选的,第二发光像素22和第一发光像素21的形状和单体面积可以相同或不同。在本发明实施例中,以第一发光像素21为菱形和椭圆形、第二发光像素22为圆形为例进行说明。更进一步地,在多个第一发光像素21中,面积最大者可为蓝色像素,且蓝色像素可为菱形,面积最小者可为绿色像素且绿色像素可为椭圆形,而面积介于上述两者之间的可为红色像素,且红色像素可为菱形;在多个第二发光像素22中,面积最大者可为蓝色像素,面积最小这可为绿色像素,面积介于上述两者之间的可为红色像素,且蓝色像素、红色像素以及绿色像素皆为圆形。相对应的,多个第二发光像素22中的蓝色像素的面积小于多个第一发光像素21中的蓝色像素的面积,多个第二发光像素22中的红色像素的面积小于多个第一发光像素21中的红色像素的面积,多个第二发光像素22中的绿色像素的面积小于多个第一发光像素21中的绿色像素的面积。进而可以降低功能显示区101内第一发光像素21的面积占比,以提高功能显示区101内的光透过率。
48.在本发明实施例中,触控层10包括设置于功能显示区101内的开口1011、围绕开口1011设置的阻隔部12以及位于阻隔部12远离开口1011一侧的触控部11。其中,开口1011可进一步提高功能显示区101内的光透过率,阻隔部12与触控部11之间绝缘设置,即阻隔部12与触控部11之间可以为间隔设置。
49.请参照图4以及图5,触控部11至少设置于常规显示区102内,且包括分布于常规显示区102内的多个触控电极120,其中,多个触控电极120可包括沿纵向排列且沿横向延伸的多个第一触控电极1201、以及沿横向排列且沿纵向延伸的多个第二触控电极1202,进一步地,各第一触控电极1201沿横向为连续设置,而各第二触控电极1202在与第一触控电极1201相重叠的位置断开;需要说明的是,显示面板还可以包括设置于触控层10靠近发光层20一侧桥接层以及位于桥接层和触控层10之间的绝缘层1204,其中,桥接层包括多个桥接
部1203,且各桥接部1203对应设置于第二触控电极1202与第一触控电极1201相重叠的位置,并通过穿过绝缘层1204的过孔与第二触控电极1202搭接,以实现各第二触控电极1202沿纵向为连续的电连接结构,如图5中a所示;或者桥接层设置于触控层10远离发光层20的一侧,其中,桥接层包括多个桥接部1203,且各桥接部1203对应设置于第二触控电极1202与第一触控电极1201相重叠的位置,第二触控电极1202在断开的位置穿过绝缘层1204与桥接部1203搭接,以实现各第二触控电极1202沿纵向为连续的电连接结构,如图5中b所示。
50.在本发明实施例中,触控层10包括多个金属格子以及多个连接子部,且任一项相邻金属格子之间连接有一连接子部,以使得触控层10形成网格结构,即阻隔部12与触控部11皆为网格结构,且对触控部11对应的网格结构中的连接子部或金属格子进行隔断,以形成多个触控电极120,阻隔部12与触控部11之间的连接子部或金属格子隔断,以使得阻隔部12与触控部11相绝缘设置。
51.优选的,阻隔部12与触控部11皆为相同的网格结构,由于多个第二发光像素22和多个第一发光像素21的排列方式相同,进而当阻隔部12与触控部11皆为相同的网格结构时,则可使用同一掩膜板形成网格结构相同的阻隔部12和触控部11,以使得阻隔部12和触控部11在基板上的正投影与第二发光像素22以及第一发光像素21在基板上的正投影不重叠设置,在本发明实施例中,部分第二发光像素22在触控层10上的正投影位于阻隔部12的网格结构的网孔内,各第一发光像素21在触控层10上的正投影位于阻隔部12的网格结构的网孔内或位于触控部11的网格结构的网孔内。以使得触控层10在不影响各发光像素发光的基础上,还可以简化工艺制程,使得阻隔部12和触控部11采用同一掩膜板形成。
52.具体地,请继续参照图3,触控电极(即触控部11,且后续以触控部11进行说明)包括多个第一金属格子111以及连接于任意相邻两第一金属格子111之间的第一连接子部112,且触控部11设置于常规显示区102内。则部分第一发光像素21在触控层10上的正投影位于第一金属格子111内,或位于相邻第一金属格子111之间,且被相邻第一金属格子111以及连接相邻第一金属格子111的第一连接子部112所围绕,即第一金属格子111与对应的第一发光像素21不重叠。
53.阻隔部12包括多个第二金属格子121以及连接于任意相邻两第二金属格子121之间的第二连接子部122,且阻隔部12设置于功能显示区101内,且部分延伸至常规显示区102内与触控部11相邻,阻隔部12与触控部11之间为绝缘设置。则另一部分第一发光像素21在触控层10上的正投影位于第二金属格子121内,或位于相邻第二金属格子121之间,且被相邻第二金属格子121以及连接相邻第二金属格子121的第二连接子部122所围绕,部分第二发光像素22在触控层10上的正投影位于第二金属格子121内,或位于相邻第二金属格子121之间,且被相邻第二金属格子121以及连接相邻第二金属格子121的第二连接子部122所围绕,即第二金属格子121与对应的第一发光像素21不重叠设置,第二金属格子121与对应的第二发光像素22不重叠设置。
54.可以理解的是,还有部分第二发光像素22位于开口1011内,不被阻隔部12所覆盖。
55.在本实施例中,第一金属格子111与第二金属格子121的排列方式相同,且相同单位面积内,第一金属格子111的数量与第二金属格子121的数量相同。进一步地,第二发光像素22的面积小于第一发光像素21的面积,则第二金属格子121与对应的第二发光像素22之间的最小间距大于第一金属格子111与对应的第一发光像素21之间的最小间距,此外,第二
金属格子121与对应的第二发光像素22之间的最小间距大于第二金属格子121与对应的第一发光像素21之间的最小间距。
56.可选的,阻隔部12在沿远离开口1011中心的方向上设置有至少两个第二金属格子121,即阻隔部12可由围绕开口1011设置的至少两圈第二金属格子121所组成。在本实施例中,阻隔部12由围绕开口1011设置的三圈第二金属格子121所组成,且至少围绕开口1011中心设置的三圈发光像素在触控层10上的正投影位于阻隔部12的网格结构的网孔内,其中包括一圈第一发光像素21在触控层10上的正投影位于阻隔部12的第二金属格子121内,还包括两圈第二发光像素22在触控层10上的正投影位于第二金属格子121内。
57.需要说明的是,在本发明实施例中,蓝色像素以及红色像素在触控层10上的正投影皆可位于金属格子内,而绿色像素在触控层10上的正投影可位于线路金属格子之间,并由相邻金属格子以及连接相邻金属格子的连接子部所围绕;进一步地,由于蓝色像素的面积大于红色像素的面积,进而可以将蓝色像素对应的金属格子面积设置为大于红色像素对应的金属格子面积。
58.承上,本发明实施例通过在触控部11靠近功能显示区101的一侧设置与触控部11相绝缘的阻隔部12,进而在制程中,由于功能显示区101需要蚀刻去除的触控层材料较多,以形成开口1011,进而需要较多的蚀刻液进行蚀刻,而本发明实施例中通过在触控部11和开口1011之间设置阻隔部12,以在触控部11和开口1011之间起到缓冲作用,即功能显示区101内的蚀刻液由于阻隔部12的阻挡将无法对触控部11产生蚀刻,以提高触控部11的蚀刻良率,提高了触控电极和显示面板的良品率。
59.请参照图6,在本发明的另一种实施例中,在本实施例中,与上一实施例的区别之处在于:阻隔部12设置于功能显示区101内并围绕开口1011设置,触控部11设置于常规显示区102内并围绕功能显示区101设置,即部分第二发光像素22在触控层10上的正投影位于阻隔部12的网格结构的网孔内,各第一发光像素21在触控层10上的正投影位于触控部11的网格结构的网孔内。
60.具体地,触控部11包括多个第一金属格子111以及连接于任意相邻两第一金属格子111之间的第一连接子部112,且触控部11设置于常规显示区102内。则第一发光像素21在触控层10上的正投影位于第一金属格子111内,或位于相邻第一金属格子111之间,且被相邻第一金属格子111以及连接相邻第一金属格子111的第一连接子部112所围绕,即第一金属格子111与对应的第一发光像素21不重叠。
61.阻隔部12包括多个第二金属格子121以及连接于任意相邻两第二金属格子121之间的第二连接子部122,且阻隔部12设置于功能显示区101内,阻隔部12与触控部11之间为绝缘设置。则部分第二发光像素22在触控层10上的正投影位于第二金属格子121内,或位于相邻第二金属格子121之间,且被相邻第二金属格子121以及连接相邻第二金属格子121的第二连接子部122所围绕,即第二金属格子121与对应的第二发光像素22不重叠设置。
62.承上,本发明实施例通过在触控部11靠近功能显示区101的一侧设置与触控部11相绝缘的阻隔部12,进而在制程中,由于功能显示区101需要蚀刻去除的触控层材料较多,以形成开口1011,进而需要较多的蚀刻液进行蚀刻,而本发明实施例中通过在触控部11和开口1011之间设置阻隔部12,以在触控部11和开口1011之间起到缓冲作用,即功能显示区101内的蚀刻液由于阻隔部12的阻挡将无法对触控部11产生蚀刻,以提高触控部11的蚀刻
良率,提高了触控电极和显示面板的良品率。
63.请参照图7以及图8,在本发明的另一种实施例中,在本实施例中,功能显示区101包括透光显示子区1012以及设置于透光显示子区1012与常规显示区102之间的过渡子区1013,其中,透光显示子区1012可用于对应设置摄像头组件。
64.其中,阻隔部12设置于功能显示区101内,并位于过渡子区1013内,触控部11设置于常规显示区102内并延伸至过渡子区1013内,即部分第二发光像素22在触控层10上的正投影位于阻隔部12的网格结构的网孔内以及位于触控部11的网格结构的网孔,各第一发光像素21在触控层10上的正投影位于触控部11的网格结构的网孔内。
65.具体地,触控部11包括多个第一金属格子111以及连接于任意相邻两第一金属格子111之间的第一连接子部112,且触控部11设置于常规显示区102内。则第一发光像素21在触控层10上的正投影位于第一金属格子111内,或位于相邻第一金属格子111之间,且被相邻第一金属格子111以及连接相邻第一金属格子111的第一连接子部112所围绕;部分第二发光像素22在触控层10上的正投影位于第一金属格子111内,或位于相邻第一金属格子111之间,且被相邻第一金属格子111以及连接相邻第一金属格子111的第一连接子部112所围绕,即第一金属格子111与对应的第一发光像素21不重叠,第一金属格子111与对应的第二发光像素22不重叠设置。
66.阻隔部12包括多个第二金属格子121以及连接于任意相邻两第二金属格子121之间的第二连接子部122,且阻隔部12设置于功能显示区101内,阻隔部12与触控部11之间为绝缘设置。则部分第二发光像素22在触控层10上的正投影位于第二金属格子121内,或位于相邻第二金属格子121之间,且被相邻第二金属格子121以及连接相邻第二金属格子121的第二连接子部122所围绕,即第二金属格子121与对应的第二发光像素22不重叠设置。
67.在本实施例中,阻隔部12靠近透光显示子区1012一侧的边界与过渡子区1013靠近透光显示子区1012一侧的边界相间隔设置,即位于过渡子区1013内的部分第二发光像素22位于阻隔部12的覆盖范围以外。
68.承上,本发明实施例通过在触控部11靠近功能显示区101的一侧设置与触控部11相绝缘的阻隔部12,进而在制程中,由于功能显示区101需要蚀刻去除的触控层材料较多,以形成开口1011,进而需要较多的蚀刻液进行蚀刻,而本发明实施例中通过在触控部11和开口1011之间设置阻隔部12,以在触控部11和开口1011之间起到缓冲作用,即功能显示区101内的蚀刻液由于阻隔部12的阻挡将无法对触控部11产生蚀刻,以提高触控部11的蚀刻良率,提高了触控电极和显示面板的良品率;此外,本实施例中将阻隔部12设置于过渡子区1013内,将不影响透光显示子区1012内的透光率,进而可以提高与透光显示子区1012相对应的摄像头组件的成像效果。
69.请参照图9,在本发明的另一种实施例中,阻隔部12设置于功能显示区101内,并位于过渡子区1013内,触控部11设置于常规显示区102内并延伸至过渡子区1013内,即部分第二发光像素22在触控层10上的正投影位于阻隔部12的网格结构的网孔内以及位于触控部11的网格结构的网孔,各第一发光像素21在触控层10上的正投影位于触控部11的网格结构的网孔内。
70.具体地,触控部11包括多个第一金属格子111以及连接于任意相邻两第一金属格子111之间的第一连接子部112,且触控部11设置于常规显示区102内。则第一发光像素21在
触控层10上的正投影位于第一金属格子111内,或位于相邻第一金属格子111之间,且被相邻第一金属格子111以及连接相邻第一金属格子111的第一连接子部112所围绕;部分第二发光像素22在触控层10上的正投影位于第一金属格子111内,或位于相邻第一金属格子111之间,且被相邻第一金属格子111以及连接相邻第一金属格子111的第一连接子部112所围绕,即第一金属格子111与对应的第一发光像素21不重叠,第一金属格子111与对应的第二发光像素22不重叠设置。
71.阻隔部12包括多个第二金属格子121以及连接于任意相邻两第二金属格子121之间的第二连接子部122,且阻隔部12设置于功能显示区101内,阻隔部12与触控部11之间为绝缘设置。则部分第二发光像素22在触控层10上的正投影位于第二金属格子121内,或位于相邻第二金属格子121之间,且被相邻第二金属格子121以及连接相邻第二金属格子121的第二连接子部122所围绕,即第二金属格子121与对应的第二发光像素22不重叠设置。
72.在本实施例中,阻隔部12靠近透光显示子区1012一侧的边界与过渡子区1013靠近透光显示子区1012一侧的边界相重合。
73.承上,本发明实施例通过在触控部11靠近功能显示区101的一侧设置与触控部11相绝缘的阻隔部12,进而在制程中,由于功能显示区101需要蚀刻去除的触控层材料较多,以形成开口1011,进而需要较多的蚀刻液进行蚀刻,而本发明实施例中通过在触控部11和开口1011之间设置阻隔部12,以在触控部11和开口1011之间起到缓冲作用,即功能显示区101内的蚀刻液由于阻隔部12的阻挡将无法对触控部11产生蚀刻,以提高触控部11的蚀刻良率,提高了触控电极和显示面板的良品率;此外,本实施例中将阻隔部12设置于过渡子区1013内,将不影响透光显示子区1012内的透光率,进而可以提高与透光显示子区1012相对应的摄像头组件的成像效果。
74.请参照图10,在本发明的另一种实施例中,阻隔部12设置于功能显示区101内,并位于过渡子区1013内且部分延伸至透光显示子区1012内,触控部11设置于常规显示区102内并延伸至过渡子区1013内,即部分第二发光像素22在触控层10上的正投影位于阻隔部12的网格结构的网孔内以及位于触控部11的网格结构的网孔,各第一发光像素21在触控层10上的正投影位于触控部11的网格结构的网孔内。
75.具体地,触控部11包括多个第一金属格子111以及连接于任意相邻两第一金属格子111之间的第一连接子部112,且触控部11设置于常规显示区102内。则第一发光像素21在触控层10上的正投影位于第一金属格子111内,或位于相邻第一金属格子111之间,且被相邻第一金属格子111以及连接相邻第一金属格子111的第一连接子部112所围绕;部分第二发光像素22在触控层10上的正投影位于第一金属格子111内,或位于相邻第一金属格子111之间,且被相邻第一金属格子111以及连接相邻第一金属格子111的第一连接子部112所围绕,即第一金属格子111与对应的第一发光像素21不重叠,第一金属格子111与对应的第二发光像素22不重叠设置。
76.阻隔部12包括多个第二金属格子121以及连接于任意相邻两第二金属格子121之间的第二连接子部122,且阻隔部12设置于功能显示区101内,阻隔部12与触控部11之间为绝缘设置。则部分第二发光像素22在触控层10上的正投影位于第二金属格子121内,或位于相邻第二金属格子121之间,且被相邻第二金属格子121以及连接相邻第二金属格子121的第二连接子部122所围绕,即第二金属格子121与对应的第二发光像素22不重叠设置。
77.在本实施例中,阻隔部12与透光显示子区1012部分重叠设置。
78.承上,本发明实施例通过在触控部11靠近功能显示区101的一侧设置与触控部11相绝缘的阻隔部12,进而在制程中,由于功能显示区101需要蚀刻去除的触控层材料较多,以形成开口1011,进而需要较多的蚀刻液进行蚀刻,而本发明实施例中通过在触控部11和开口1011之间设置阻隔部12,以在触控部11和开口1011之间起到缓冲作用,即功能显示区101内的蚀刻液由于阻隔部12的阻挡将无法对触控部11产生蚀刻,以提高触控部11的蚀刻良率,提高了触控电极和显示面板的良品率。
79.请参照图11,在本发明的另一种实施例中,阻隔部12位于透光显示子区1012内,而触控部11位于常规显示区102内并部分延伸至过渡子区1013内,即部分第二发光像素22在触控层10上的正投影位于阻隔部12的网格结构的网孔内以及位于触控部11的网格结构的网孔,各第一发光像素21在触控层10上的正投影位于触控部11的网格结构的网孔内。
80.具体地,触控部11包括多个第一金属格子111以及连接于任意相邻两第一金属格子111之间的第一连接子部112,且触控部11设置于常规显示区102内。则第一发光像素21在触控层10上的正投影位于第一金属格子111内,或位于相邻第一金属格子111之间,且被相邻第一金属格子111以及连接相邻第一金属格子111的第一连接子部112所围绕;部分第二发光像素22在触控层10上的正投影位于第一金属格子111内,或位于相邻第一金属格子111之间,且被相邻第一金属格子111以及连接相邻第一金属格子111的第一连接子部112所围绕,即第一金属格子111与对应的第一发光像素21不重叠,第一金属格子111与对应的第二发光像素22不重叠设置。
81.阻隔部12包括多个第二金属格子121以及连接于任意相邻两第二金属格子121之间的第二连接子部122,且阻隔部12设置于功能显示区101内,阻隔部12与触控部11之间为绝缘设置。则部分第二发光像素22在触控层10上的正投影位于第二金属格子121内,或位于相邻第二金属格子121之间,且被相邻第二金属格子121以及连接相邻第二金属格子121的第二连接子部122所围绕,即第二金属格子121与对应的第二发光像素22不重叠设置。
82.在本实施例中,阻隔部12位于透光显示子区1012内,触控部11覆盖常规显示区102以及过渡子区1013。
83.承上,本发明实施例通过在触控部11靠近功能显示区101的一侧设置与触控部11相绝缘的阻隔部12,进而在制程中,由于功能显示区101需要蚀刻去除的触控层材料较多,以形成开口1011,进而需要较多的蚀刻液进行蚀刻,而本发明实施例中通过在触控部11和开口1011之间设置阻隔部12,以在触控部11和开口1011之间起到缓冲作用,即功能显示区101内的蚀刻液由于阻隔部12的阻挡将无法对触控部11产生蚀刻,以提高触控部11的蚀刻良率,提高了触控电极和显示面板的良品率。
84.进一步地,由于阻隔部12位于触控部11和开口1011之间,进而在制程中,阻隔部12将阻挡开口1011位置的蚀刻液,由于开口1011位置的蚀刻液量较多,有可能会对阻隔部12产生蚀刻作用,进而在本发明实施例中,阻隔部12的网格结构的线宽小于或等于触控部11的网格结构的线宽。
85.另外,本发明实施例还提供一种显示装置,该显示装置包括上述实施例中所述的显示面板以及摄像头组件,且摄像头组件对应功能显示区101设置于显示面板的一侧,进一步地,摄像头组件对应功能显示区101设置于显示面板的一侧。具体地,摄像头组件对应透
光显示子区1012设置于显示面板的一侧。
86.本发明实施例中的触控层10在功能显示区101内开设开口1011,以提高功能显示区101的光透过率,进而可以提高摄像头组件的成像效果;进一步地,发光层20中的发光像素同时分布于常规显示区102以及功能显示区101内,进而使得功能显示区101既可以完成摄像头组件的成像功能,也可以实现显示功能;再进一步地,本发明实施例在触控部11和开口1011之间设置阻隔部12,进而阻隔部12可以阻挡开口1011位置的蚀刻液对触控部11产生蚀刻作用,提高了触控部11的良率,提高了显示面板的良率。
87.在上述实施例中,对各个实施例的描述都各有侧重,某个实施例中没有详述的部分,可以参见其他实施例的相关描述。
88.以上对本发明实施例所提供的一种显示面板及显示装置进行了详细介绍,本文中应用了具体个例对本发明的原理及实施方式进行了阐述,以上实施例的说明只是用于帮助理解本发明的技术方案及其核心思想;本领域的普通技术人员应当理解:其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改,或者对其中部分技术特征进行等同替换;而这些修改或者替换,并不使相应技术方案的本质脱离本发明各实施例的技术方案的范围。
再多了解一些

本文用于企业家、创业者技术爱好者查询,结果仅供参考。

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