喷淋头的制造方法、喷淋头以及等离子体处理装置与流程

技术特征：
1.一种喷淋头的制造方法，其为制造在向基板实施利用等离子体的处理的等离子体处理装置中向配置有所述基板并生成等离子体的腔室内的等离子体生成空间喷出用于生成所述等离子体的处理气体的喷淋头的制造方法，其中，所述喷淋头具有：主体部，其具有多个喷出所述处理气体的气体喷出孔；以及气体扩散空间，其设于所述主体部内，被导入所述处理气体，并与所述气体喷出孔连通，所述喷淋头的制造方法包括如下工序：准备金属制的基材的工序，该金属制的基材构成所述主体部的具有所述气体喷出孔的部分，并具有多个套筒安装孔；将套筒安装于所述基材的各所述套筒安装孔的工序，在所述套筒的内部具有所述气体喷出孔；对所述基材和所述套筒进行hip处理，将所述套筒hip接合于所述基材的工序；以及在所述基材的所述等离子体生成空间侧的面和所述套筒的所述等离子体生成空间侧的面形成陶瓷制的喷镀膜的工序。2.根据权利要求1所述的喷淋头的制造方法，其中，该喷淋头的制造方法还包括在形成所述喷镀膜前，进行研磨加工或磨削加工以使所述基材的所述等离子体生成空间侧的面和所述套筒的所述等离子体生成空间侧的面齐平的工序。3.根据权利要求1或2所述的喷淋头的制造方法，其中，所述基材由铝材料构成，所述hip处理在300℃以上550℃以下的温度下进行。4.根据权利要求3所述的喷淋头的制造方法，其中，所述hip处理在400℃以上450℃以下的温度下进行。5.根据权利要求1～4中任一项所述的喷淋头的制造方法，其中，所述套筒由耐腐蚀性金属材料构成。6.根据权利要求5所述的喷淋头的制造方法，其中，在所述等离子体生成空间侧的面形成所述喷镀膜的工序是在将所述基材加热至150℃以上250℃以下的温度的状态下进行的。7.根据权利要求1～4中任一项所述的喷淋头的制造方法，其中，所述套筒由陶瓷构成。8.根据权利要求1～7中任一项所述的喷淋头的制造方法，其中，在所述等离子体生成空间侧的面形成的所述喷镀膜含有氧化钇。9.根据权利要求1～8中任一项所述的喷淋头的制造方法，其中，该喷淋头的制造方法还包括在所述基材的所述气体扩散空间侧的面和所述套筒的所述气体扩散空间侧的面形成陶瓷制的喷镀膜的工序。10.根据权利要求9所述的喷淋头的制造方法，其中，该喷淋头的制造方法还包括在将喷镀膜形成于所述基材的所述气体扩散空间侧的面和所述套筒的所述气体扩散空间侧的面的工序之前，进行研磨加工或磨削加工以使所述基材的所述气体扩散空间侧的面和所述套筒的所述气体扩散空间侧的面齐平的工序。11.根据权利要求1～10中任一项所述的喷淋头的制造方法，其中，所述主体部的具有所述基材和多个套筒的板状的气体喷出部与具有凹部的基体部以
覆盖所述凹部的方式结合，该多个套筒具有所述气体喷出孔，由所述凹部和所述气体喷出部形成的空间成为所述气体扩散空间。12.一种喷淋头，其为在向基板实施利用等离子体的处理的等离子体处理装置中向配置有所述基板并生成等离子体的腔室内的等离子体生成空间喷出用于生成等离子体的处理气体的喷淋头，其中，所述喷淋头具有：主体部，其具有多个喷出所述处理气体的气体喷出孔；以及气体扩散空间，其设于所述主体部内，被导入所述处理气体，并与所述气体喷出孔连通，所述主体部的具有所述气体喷出孔的部分具有：基材，其由金属构成；套筒，其安装于所述基材，在其内部具有所述气体喷出孔；以及陶瓷制的喷镀膜，其形成于所述基材的所述等离子体生成空间侧的面和所述套筒的所述等离子体生成空间侧的面，所述套筒hip接合于所述基材。13.根据权利要求12所述的喷淋头，其中，所述基材的所述腔室侧的面和所述套筒的所述腔室侧的面齐平。14.根据权利要求12或13所述的喷淋头，其中，所述基材由铝材料构成。15.根据权利要求12～14中任一项所述的喷淋头，其中，所述套筒由耐腐蚀性金属材料或陶瓷构成。16.根据权利要求12～15中任一项所述的喷淋头，其中，所述喷镀膜含有氧化钇。17.根据权利要求12～16中任一项所述的喷淋头，其中，该喷淋头还具有在所述基材的所述气体扩散空间侧的面和所述套筒的所述气体扩散空间侧的面形成的陶瓷制的其他喷镀膜。18.根据权利要求17所述的喷淋头，其中，所述基材的所述气体扩散空间侧的面和所述套筒的所述气体扩散空间侧的面齐平。19.一种等离子体处理装置，其为利用等离子体对基板进行处理的等离子体处理装置，其中，该等离子体处理装置具备：腔室，其收纳所述基板；载置台，其在所述腔室内载置基板；等离子体生成机构，其使所述等离子体在所述腔室内生成；以及权利要求12～18中任一项所述的喷淋头，其以与所述载置台相对的方式设置于所述腔室内，将用于生成所述等离子体的处理气体向所述腔室内的等离子体生成空间供给。20.根据权利要求19所述的等离子体处理装置，其中，所述等离子体生成机构构成为，具有高频天线和向所述高频天线供给高频电力的高频电源，通过向所述高频天线供给高频电力，从而在所述腔室内的所述等离子体生成空间形
成电感耦合等离子体，所述高频天线被设置为面向所述喷淋头的与所述等离子体生成空间相反的一侧的面，所述喷淋头被配置为所述腔室的顶壁，作为所述电感耦合等离子体的金属窗发挥功能，具有利用绝缘构件而被分割为多个的构造，以使由流向所述高频天线的高频电流产生的磁场和涡电流到达所述腔室侧。

技术总结
本发明提供能够抑制在高温使用时在套筒的周围产生裂纹的喷淋头的制造方法、喷淋头以及等离子体处理装置。制造在向基板实施利用等离子体的处理的等离子体处理装置中向配置有基板并生成等离子体的腔室内的等离子体生成空间喷出用于生成等离子体的处理气体的喷淋头的制造方法包括：准备金属制的基材的工序，该金属制的基材构成主体部的具有气体喷出孔的部分，并具有套筒安装孔；将套筒安装于基材的套筒安装孔的工序，在所述套筒的内部具有气体喷出孔；对基材和套筒进行HIP处理，将套筒HIP接合于基材的工序；以及在基材的腔室侧的面和套筒的腔室侧的面形成陶瓷制的喷镀膜的工序。工序。工序。


技术研发人员：佐佐木芳彦 南雅人
受保护的技术使用者：东京毅力科创株式会社
技术研发日：2021.11.26
技术公布日：2022/6/10