光谱仪的光学系统的制作方法

技术特征：
1.一种光学系统(1)，包括：-至少一个入射孔径(2)，用于进入待分析的光(l)，-至少一个衍射光栅(3)，用于所述光(l)的光谱偏转，-至少两个测量所述光(l)的光谱的探测器(5，5a，5b)，其中所述检测器设置在所述光学系统的偏转平面的同一侧，以及-至少两个垂直聚焦镜元件(4，4a，4b)，用于将所述光(l)聚焦到指定给所述垂直聚焦镜元件的所述检测器(5，5a，5b)上，其特征在于，所述垂直聚焦镜元件(4)被布置为沿着两个多边形图形(6a，6b)彼此偏移并且与焦点曲线偏移的前排镜元件(4b)和后排镜元件(4a)，其中所述多边形图形(6a，6b)的每个部分平行于与所述光栅(3)的焦点曲线的专用局部切线，从而-所述前排镜元件(4b)的偏转角从而使所述前排镜元件(4b)相对于所述焦点曲线的偏移(d1)最小，-所述前排镜元件(4b)和指定给所述前排镜元件(4b)的相应检测器(5b)之间的距离(d1)最小化，同时仍然避免所述相应检测器(5b)及所述相应检测器(5b)的支架与后排检测器(5a)及所述后排检测器(5a)的支架之间的碰撞，以及-所述前排镜元件(4b)的至少一个端部(7a)与相邻后排镜元件(4a)重叠，或者如果从光栅(3)观看的话与相邻的直射光检测器(5，5a，5b)的接收区域重叠。2.根据权利要求1所述的光学系统(1)，其特征在于，至少一个所述垂直聚焦镜元件(4，4a，4b)的反射表面的形状是圆锥的一部分。3.根据权利要求1或2所述的光学系统(1)，其特征在于，至少一个所述垂直聚焦镜元件(4，4a，4b)的反射表面的形状是圆柱体。4.根据前述权利要求中任一项所述的光学系统(1)，其特征在于，至少一个所述垂直聚焦镜元件(4，4a，4b)是平面镜元件(4b)，所述平面镜元件(4b)将所述光偏转到指定给所述平面镜元件(4b)的所述检测器(5，5b)中的一个上。5.根据前述权利要求中任一项所述的光学系统(1)，其特征在于，至少两个垂直聚焦镜元件(4，4a，4b)的偏转角的绝对值不同。6.根据前述权利要求中任一项所述的光学系统(1)，其特征在于，至少两个垂直聚焦镜元件(4，4a，4b)的平均或恒定曲率半径(ρ
cyl
)不同。7.根据前述权利要求中任一项所述的光学系统(1)，其特征在于，具有不同偏转角具有不同偏转角绝对值的至少两个镜元件垂直聚焦镜元件(4，4a，4b)具有相同的平均或恒定的曲率半径(ρ
cyl
)。8.根据前述权利要求中任一项所述的光学系统(1)，其特征在于，至少一个检测器(5，5a，5b)没有指定的垂直聚焦镜元件(4，4a，4b)，因此所述检测器(5，5a，5b)沿着所述光栅(3)的原始焦距曲线的一段被定位，以使所述光谱的一部分被直接成像到所述检测器(5，5a，5b)。9.根据前述权利要求中任一项所述的光学系统(1)，其特征在于，至少一个检测器(5，5a，5b)配备有用于垂直聚焦的透镜。
10.根据前述权利要求中任一项所述的光学系统(1)，其特征在于，所述光学系统(1)的构建原理是paschen-runge设置或平场设置或czemy-tumer设置或ebert-fastie设置。11.根据前述权利要求中任一项所述的光学系统(1)，其特征在于，所述检测器(5，5a，5b)是线检测器，优选为ccd或cmos检测器。12.一种光谱仪设备(100)，其特征在于，包括至少一个根据前述权利要求之一所述的光学系统(1)，还包括操作单元，所述操作单元至少连接到所述检测器(5，5a，5b)，以操作所述检测器(5，5a，5b)并分析所测量的所述光(l)的光谱。

技术总结
一种光谱仪设备(100)，包括入射孔径(2)、衍射光栅(3)、对进入的光(L)进行光谱测量两个检测器(5a，5b)，检测器位于偏转平面的同一侧。两个垂直聚焦镜(4，4a，4b)将光聚焦到探测器上，其沿两个多边形图形(6a，6b)排列成前排镜(4b)和后排镜(4a)，前排镜和后排镜相互之间偏移并和焦点曲线偏移。前排镜的偏转角小于90


技术研发人员：海因茨
受保护的技术使用者：日立高科技分析科学有限公司
技术研发日：2020.11.06
技术公布日：2022/6/7