一种日光温室黄瓜栽培工艺的制作方法

技术特征：
1.一种日光温室黄瓜栽培工艺，其特征在于：包括播种、定植、田间管理、病虫害防治、采收。2.根据权利要求1所述的日光温室黄瓜栽培工艺，其特征在于：所述播种将包衣种子直接在营养钵内育苗，并采用单粒播种。3.根据权利要求2所述的日光温室黄瓜栽培工艺，其特征在于：所述播种的具体步骤如下：a1，将营养块封堵营养钵的大孔内，然后少量多次的方式将蒸馏水喷淋至营养钵，直至营养钵底部形成积液；所述营养钵间隔设置在苗床上，且苗床上设置有一层聚乙烯薄膜；所述营养块为泥炭营养块，且泥炭营养块将三分之一的营养钵覆盖；a2，待营养钵内的营养块表面积液去除并静置2-6h后，加入黄瓜种子，然后采用混合蛭石覆盖，静置至育苗。4.根据权利要求3所述的日光温室黄瓜栽培工艺，其特征在于：所述泥炭营养块以蛭石和菇渣为主。5.根据权利要求3所述的日光温室黄瓜栽培工艺，其特征在于：所述混合蛭石采用粒状蛭石与粉状蛭石混合而成，所述粒状蛭石的粒径为2-5mm。6.根据权利要求5所述的日光温室黄瓜栽培工艺，其特征在于：所述混合蛭石的铺设方法如下：将粒状蛭石平铺在营养块表面形成第一蛭石层，然后将粉状蛭石均匀洒落在第一蛭石层表面，形成第二蛭石层，最后振荡10-20min，得到混合蛭石层，所述第一蛭石层和第二蛭石层的厚度比为3:1-2，所述振荡的功率为50-100w。7.根据权利要求1所述的日光温室黄瓜栽培工艺，其特征在于：所述定植采用育苗完成的黄瓜苗，采用双行错位定植，同行株距50cm，植株基部距同部位槽边10cm。所述黄瓜苗在二叶一心时进行定植。所述定植过程中基质略高于苗坨。8.根据权利要求1所述的日光温室黄瓜栽培工艺，其特征在于：所述田间管理包括：苗期白天温度控制在20-25℃、夜间15-20℃；坐瓜期白天温度控制在25-28℃、夜温15-18℃；苗期每天每m2灌水1-3l，结果期每天每m2灌4-5l；苗期和坐瓜期进行少量多次施肥方式，所述苗期施肥间隔为5-8d，坐瓜期的施肥间隔是8-10d。9.根据权利要求1所述的日光温室黄瓜栽培工艺，其特征在于：所述病虫害防治以农业防治、物理防治等综合防治技术为主，以化学防治为辅，防治霜霉病、细菌性角斑病、立枯病、蚜虫和瓜绢螟；所述综合防治技术包括：定植前高温闷棚，彻底消灭室内病虫源，放风口设置防虫网，室内挂黄色板。10.根据权利要求1所述的日光温室黄瓜栽培工艺，其特征在于：所述采收是在黄瓜由淡绿色转为深绿色后即可采收，每天采收1次，原则上瓜柄必须保留至少1cm长。

技术总结
本发明属于黄瓜技术领域，具体涉及一种日光温室黄瓜栽培工艺，包括播种、定植、田间管理、病虫害防治、采收，并提供具体的种植方法。本发明解决了现有温室栽培技术的缺陷，利用少量多次施肥的方式，减少肥料的浪费，同时增加了植物对肥料的吸收效率，从而提升黄瓜的产率，并且口感好，清脆鲜嫩品味正。清脆鲜嫩品味正。


技术研发人员：康欣娜 杨英茹 周彦伟 武亚红 刘娜 周广英 周胜利 陈帅
受保护的技术使用者：石家庄市农林科学研究院
技术研发日：2022.03.09
技术公布日：2022/6/4