一种掩模形貌图处理方法、装置以及计算机设备与流程

一种掩模形貌图处理方法、装置以及计算机设备
【技术领域】
1.本发明涉及光刻技术领域，其特别涉及一种掩模形貌图处理方法、装置以及计算机设备。


背景技术：

2.目前对于掩模形貌图进行处理，得到光刻胶形貌图的主要方式是经过光学临近效应矫正(optical proximity correction，opc)流程仿真出光刻胶形貌图，而基于计算光刻的opc流程往往需要多次迭代优化，且每次优化都需要应用计算光刻模型对当前掩模优化结果进行仿真，因此其时间成本比较高。


技术实现要素：

3.为了解决对于掩模形貌图进行处理时间成本比较高的问题，本发明提供一种掩模形貌图处理方法、装置以及计算机设备。
4.本发明为解决上述技术问题，提供如下的技术方案：一种掩模形貌图处理方法，包含以下步骤：获取待处理掩模设计版图以及所述待处理掩模设计版图对应的掩模形貌图；将所述掩模形貌图输入预设的已训练形貌图映射模型得到所述掩模形貌图对应的光刻胶形貌图。
5.优选地，在将所述掩模形貌图输入预设的已训练形貌图映射模型之前还包括以下步骤：获取初始掩模设计版图的典型掩模设计版图；对所述典型掩模设计版图进行处理得到所述典型掩模设计版图对应的典型掩模形貌图及典型光刻胶形貌图；将所述典型掩模形貌图及所述典型光刻胶形貌图输入未训练形貌图映射模型，并对所述未训练形貌图映射模型进行训练得到所述已训练形貌图映射模型。
6.优选地，上述对所述典型掩模设计版图进行处理得到所述典型掩模设计版图对应的典型光刻胶形貌图包括以下步骤：对所述典型掩模设计版图加载预设的计算光刻模型得到所述典型掩模形貌图；对所述典型掩模设计版图加载预设的计算光刻模型并进行opc处理，得到所述典型光刻胶形貌图。
7.优选地，所述典型掩模设计版图包括典型图形版图、关键图形版图及已知缺陷版图中的一种或多种的组合。
8.优选地，在将所述掩模形貌图输入预设的形貌图映射模型之前还包括以下步骤：获取验证掩模设计版图的典型掩模设计版图；将所述典型掩模设计版图与预设的已训练版图数据库进行匹配，若匹配失败，则对所述已训练形貌图映射模型进行补充训练。
9.优选地，在将所述掩模形貌图输入预设的形貌图映射模型之前还包括以下步骤：将所述预设的计算光刻模型与预设的已训练计算光刻模型数据库进行匹配，若匹配失败，则对所述已训练形貌图映射模型进行补充训练。
10.优选地，所述补充训练包括以下步骤：对所述典型掩模设计版图进行处理得到所述典型掩模设计版图对应的典型掩模形貌图及典型光刻胶形貌图；将所述典型掩模形貌图
及所述典型光刻胶形貌图输入形貌图映射模型进行补充训练；将所述典型掩模设计版图加入所述预设的已训练版图数据库；将所述预设的计算光刻模型加入所述预设的已训练计算光刻模型数据库。
11.优选地，在得到所述掩模形貌图对应的光刻胶形貌图之后还包括以下步骤：对所述光刻胶形貌图添加阈值条件得到光刻胶图形轮廓。
12.本发明为解决上述技术问题，提供又一技术方案如下：一种应用上述方法的装置，装置包括：
13.输入模块：获取待处理掩模设计版图以及待处理掩模设计版图对应的掩模形貌图；
14.处理模块：从掩模形貌图基于预设的已训练形貌图映射模型得到对应的光刻胶形貌图。
15.本发明为解决上述技术问题，提供又一技术方案如下：一种计算机设备，包括存储器、处理器及存储在存储器上的计算机程序，处理器执行上述计算机程序以实现如上述方法的步骤。
16.与现有技术相比，本发明所提供的一种掩模形貌图处理方法、装置和计算机设备，具有如下的有益效果：
17.1.获取待处理掩模设计版图以及整体设计版图对应的掩模形貌图；将掩模形貌图输入预设的已训练形貌图映射模型得到掩模形貌图对应的光刻胶形貌图。使用已训练形貌图映射模型完成掩模形貌图到光刻胶形貌图的映射，降低了工艺流程的时间成本。
18.2.获取初始掩模设计版图的典型掩模设计版图；对典型掩模设计版图进行处理得到典型掩模设计版图对应的典型掩模形貌图及典型光刻胶形貌图；将典型掩模形貌图及典型光刻胶形貌图输入未训练形貌图映射模型，并对未训练形貌图映射模型进行训练得到已训练形貌图映射模型。当形貌图映射模型未经过训练时，先传入典型掩模形貌图和典型光刻胶形貌图对其进行初次训练，从而得到典型掩模形貌图到典型光刻胶形貌图的映射模型。
19.3.对典型掩模设计版图进行处理得到典型掩模设计版图对应的典型光刻胶形貌图包括以下步骤：对典型掩模设计版图加载预设的计算光刻模型得到典型掩模形貌图；对典型掩模设计版图加载预设的计算光刻模型并进行opc处理，得到典型光刻胶形貌图。对典型掩模设计版图做opc处理得到典型光刻胶形貌图，为掩模形貌图映射模型的训练提供了样本，提高了映射模型的可靠性。
20.4.典型掩模设计版图包括典型图形版图、关键图形版图及已知缺陷版图中的一种或多种的组合。通过得到典型图形版图、关键图形版图和已知缺陷版图来对模型进行训练，提高了训练完成的模型对整体设计版图的掩模形貌图到光刻胶形貌图的映射的可靠性。
21.5.在将掩模形貌图输入预设的形貌图映射模型之前还包括以下步骤：获取验证掩模设计版图的典型掩模设计版图；将典型掩模设计版图与预设的已训练版图数据库进行匹配，若匹配失败，则对已训练形貌图映射模型进行补充训练。对于已经传入训练模型选练过的典型掩模设计版图，无需再次进行训练，因此在训练之前对典型掩模设计版图与预设的已训练版图数据库进行匹配，来判断是否需要进行补充训练，提高了掩模形貌图映射模型的灵活性和可扩展性。
22.6.对典型掩模设计版图进行处理得到典型掩模设计版图对应的典型掩模形貌图及典型光刻胶形貌图；将典型掩模形貌图及典型光刻胶形貌图输入形貌图映射模型进行补充训练；将典型掩模设计版图加入预设的已训练版图数据库；将预设的计算光刻模型加入预设的已训练计算光刻模型数据库。对于不同的计算光刻模型，即使是相同的典型掩模设计版图也会有不同掩模形貌图，因此需要对当前的计算光刻模型与已训练的计算光刻模型进行匹配，若当前的计算光刻模型还没有训练过，则进行补充训练，提高了掩模形貌图映射模型的可靠性。
23.7.补充训练包括以下步骤：对典型掩模设计版图进行处理得到典型掩模设计版图对应的典型掩模形貌图及典型光刻胶形貌图；将典型掩模形貌图及典型光刻胶形貌图输入形貌图映射模型进行补充训练；将典型掩模设计版图加入预设的已训练版图数据库；将预设的计算光刻模型加入预设的已训练计算光刻模型数据库。对于已经训练过的典型掩模设计版图和计算光刻模型，保存到对应的数据库当中，提高可掩模形貌图映射模型的可扩展性。
24.8.在得到掩模形貌图对应的光刻胶形貌图之后还包括以下步骤：对光刻胶形貌图添加阈值条件得到光刻胶图形轮廓。对于通过掩模形貌图映射模型得到的光刻胶形貌图，还不能直接进行应用，通过添加阈值条件对光刻胶形貌图进一步处理，使其便于进行之后的工艺流程，提高掩模形貌图处理方法的实用性。
25.9.本发明实施例还提供一种装置，具有与上述掩模形貌图处理方法相同的有益效果，在此不做赘述。
26.10.本发明实施例还提供一种计算机设备，具有与上述一种掩模形貌图处理方法相同的有益效果，在此不做赘述。
【附图说明】
27.图1是本发明第一实施例提供的掩模形貌图处理方法的流程图。
28.图2是本发明第一实施例提供的对初始掩模形貌图映射模型首次训练的流程图。
29.图3是本发明第一实施例提供的对已训练的掩模形貌图映射模型补充训练的流程图。
30.图4是本发明第一实施例提供的补充训练的流程图。
31.图5是本发明第一实施例提供的一种具体实施方式的流程图。
32.图6是本发明第一实施例提供的典型掩模设计版图。
33.图7是本发明第一实施例提供的掩模形貌图。
34.图8是本发明第一实施例提供的光刻胶形貌图。
35.图9是本发明第一实施例提供的bp人工神经网络模型的示意图。
36.图10是本发明第一实施例提供的光刻胶图形轮廓图。
37.图11是本发明第二实施例提供的装置的示意图。
38.图12是本发明第三实施例提供的计算机设备的示意图。
39.附图标识说明：
40.1、掩模形貌图处理方法；2、装置；3、计算机设备；
41.21、输入模块；22、映射模块；30、存储器；31处理器；
42.300、计算机程序。
【具体实施方式】
43.为了使本发明的目的，技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施实例，对本发明进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本发明，并不用于限定本发明。
44.请参阅图1，本发明第一实施例提供一种掩模形貌图处理方法，包含以下步骤：
45.步骤s1：获取待处理掩模设计版图以及与该待处理掩模设计版图对应的掩模形貌图；
46.步骤s2：将该待处理掩模设计版图对应的掩模形貌图输入预设的已训练形貌图与光刻胶形貌图的映射模型得到该掩模形貌图对应的光刻胶形貌图。
47.本发明通过使用已训练形貌图映射模型可以快速完成从掩膜设计版图到掩模形貌图再到光刻胶形貌图的映射，降低了工艺流程的时间成本。
48.请参阅图2，优选地，预设已训练形貌图与光刻胶形貌图的映射模型通过以下步骤获得：
49.s101：获取多个初始掩模设计版图的典型掩模设计版图；
50.s102：对多个典型掩模设计版图进行处理得到典型掩模设计版图对应的典型掩模形貌图及典型光刻胶形貌图；
51.s103：将典型掩模形貌图及典型光刻胶形貌图输入初始掩模形貌图和光刻胶行貌图映射模型(后简称形貌图映射模型)进行训练得到已训练形貌图映射模型。当形貌图映射模型未经过训练时，先传入典型掩模形貌图和典型光刻胶形貌图对其进行初次训练，从而得到典型掩模形貌图与典型光刻胶形貌图的映射模型。
52.进一步地，将典型掩模形貌图及典型光刻胶形貌图输入初始形貌图映射模型进行训练得到已训练形貌图映射模型还包括以下步骤：
53.s1030：将已知缺陷版图数据库中的已知缺陷版图对应的掩膜形貌图传入初始形貌图映射模型进行训练。
54.可以理解地，已知缺陷版图数据库中包括在其他工艺过程中检测出的缺陷版图对应的掩膜形貌图。
55.进一步地，待处理掩模设计版图与初始掩模设计版图可以为同一整体设计版图，也可以为不同的整体设计版图。可以理解，多个经过训练的典型掩膜设计版图一起构成了预设的已训练版图数据库。
56.进一步地，上述步骤s102包括以下步骤：
57.s1020：对典型掩模设计版图加载预设的计算光刻模型得到典型掩模形貌图；
58.s1021：对典型掩模设计版图加载预设的计算光刻模型并进行opc处理，得到典型光刻胶形貌图。
59.对典型掩模设计版图做opc处理得到典型光刻胶形貌图，为掩模形貌图映射模型的训练提供了样本，提高了映射模型的可靠性。
60.进一步地，典型掩模设计版图包括典型图形版图、关键图形版图及已知缺陷版图中的一种或多种的组合。
61.可以理解地，典型图形版图、关键图形版图及已知缺陷版图都是自初始掩模设计版图中提取的具有代表性的局部设计版图，通过典型掩模设计版图即可代表初始掩模设计版图上的，能够一定程度上反应初始掩模设计版图关键信息的关键图形。
62.进一步地，在步骤s101：获取初始掩模设计版图的典型掩模设计版图之前还包括以下步骤：
63.s100：对多个初始掩模设计版图进行检测，得到初始掩模设计版图上的典型图形版图和关键图形版图。其中，典型图形版图为初始掩模设计版图中具有代表性图形形状局部版图，关键图形版图为在初始掩模设计版图上出现频率较高的局部版图。
64.请参阅图3，优选地，在上述步骤s2将待处理掩模设计版图对应的掩模形貌图输入预设的已训练形貌图映射模型之前还包括以下步骤：
65.s111：获取验证掩模设计版图的补充典型掩模设计版图；
66.s112：将验证典型掩模设计版图与预设的已训练版图数据库进行匹配，若匹配失败，则对已训练形貌图映射模型进行补充训练。
67.可以理解地，已训练版图数据库为已经进行过初次训练和/或补充训练的掩模形貌图对应的典型掩模设计版图的集合，包含训练过的掩模形貌图对应的典型掩模设计版图。
68.通过对已训练形貌图映射模型进行补充训练，能够有效提升已训练形貌图映射模型的准确度和计算效率，也即通过补充训练对已训练形貌图映射模型进行进一步优化。应理解，对已训练形貌图映射模型进行补充训练时，可将进行补充训练的掩模形貌图对应的典型掩模设计版图加入已训练版图数据库以对已训练版图数据库进行补充优化。
69.可以理解地，验证掩模设计版图与待处理掩模设计版图可以为同一整体设计版图，也可以为不同整体设计版图。
70.优选地，在步骤s111：获取验证掩模设计版图的典型掩模设计版图之前还包括以下步骤：
71.s110：对验证掩模设计版图进行检测，得到验证掩模设计版图上具有代表性图形形状的典型图形版图以及在验证掩模设计版图上出现频率较高或关键图形版图。
72.对于未传入训练模型选练过的掩模形貌图对应的典型掩模设计版图，需要进行处理，得到掩模形貌图再次进行训练，因此在训练之前对典型掩模设计版图与预设的已训练版图数据库进行匹配，来判断是否需要进行补充训练。提高了掩模形貌图映射模型的灵活性和可扩展性。
73.优选地，在将掩模形貌图输入预设的形貌图映射模型之前还包括以下步骤：
74.s113：将预设的计算光刻模型与预设的已训练计算光刻模型数据库进行匹配，若匹配失败，则对已训练形貌图映射模型进行补充训练。
75.可以理解地，从典型掩模设计版图到典型掩模形貌图，需要加载计算光刻模型才能实现。即使相同的典型掩模设计版图，对于不同的计算光刻模型，也会有不同的典型掩模形貌图，所以在每次加载计算光刻模型得到典型掩模形貌图之后，就将当前的计算光刻模型添加到已训练计算光刻模型数据库，即已训练计算光刻模型数据库包括训练过的典型掩模形貌图对应的计算光刻模型。对当前的计算光刻模型与已训练的计算光刻模型数据库进行匹配，若当前的计算光刻模型没有匹配训练过的典型掩模形貌图对应的计算光刻模型，
则进行补充训练。提高了掩模形貌图映射模型的可靠性。
76.请参阅图4，优选地，补充训练包括以下步骤：
77.s1120：对验证掩模设计版图的典型掩模设计版图进行处理得到典型掩模设计版图对应的典型掩模形貌图及典型光刻胶形貌图；
78.s1121：将典型掩模形貌图及典型光刻胶形貌图输入形貌图映射模型进行补充训练；
79.s1122：将典型掩模设计版图加入预设的已训练版图数据库；
80.s1123：将预设的计算光刻模型加入预设的已训练计算光刻模型数据库。
81.对于已经训练过的典型掩模设计版图和计算光刻模型，保存到对应的数据库当中，提高可掩模形貌图映射模型的可扩展性。
82.进一步地，当已知缺陷版图数据库更新后，补充训练还包括以下步骤：
83.s1124：将更新后的已知缺陷版图数据库中更新地已知缺陷版图对应的掩膜形貌图传入掩膜形貌图映射模型进行补充训练。
84.优选地，掩模形貌图映射模型为神经网络模型。具体地，神经网络模型为bp人工神经网络模型。
85.优选地，在得到掩模形貌图对应的光刻胶形貌图之后还包括以下步骤：
86.s3：对光刻胶形貌图添加阈值条件得到光刻胶图形轮廓。
87.在得到待处理掩模设计版图的光刻胶形貌图之后，对光刻胶形貌图的整体形状根据阈值条件进行筛选，去掉了不需要的部分，得到了待处理掩模设计版图的光刻胶图形轮廓。对于通过掩模形貌图映射模型得到的光刻胶形貌图，还不能直接进行应用，通过添加阈值条件对光刻胶形貌图进一步处理，使其便于进行之后的工艺流程，提高掩模形貌图处理方法的实用性。
88.本实施例的一种具体实施方式如图5所示；
89.示例性地，请结合图6至图8，从待处理掩模设计版图中，选取一个40μm*40μm的典型掩模设计版图作为训练使用，如图6所示；
90.掩模形貌图映射模型为已训练的掩模形貌图映射模型。将典型掩模设计版图与预设的已训练版图数据库进行匹配，若匹配失败，则将典型掩模设计版图输入掩模形貌图映射模型进行补充训练，并在补充训练之后，将典型掩模设计版图输入已训练版图数据库中；引入预设的计算光刻模型，并将预设的计算光刻模型与预设的已训练计算光刻模型数据库进行匹配，若匹配失败，则将预设的计算光刻模型输入掩模形貌图映射模型进行补充训练，并在训练完成之后，将计算光刻模型输入已训练计算光刻模型数据库中；
91.在本实施例的一种具体实施方式中，典型掩模设计版图和计算光刻模型对应的掩模形貌图都未曾进行过训练，将典型掩模设计版图加载光刻计算模型，得到典型掩模设计版图的掩模形貌图；如图7所示；
92.对典型掩模设计版图进行opc处理并应用计算光刻模型，进行多次迭代优化，得到典型掩模设计版图的光刻胶形貌图，如图8所示；
93.将典型掩模设计版图的掩模形貌图和光刻胶形貌图传入已训练掩模形貌图映射模型，具体地，掩模形貌图映射模型为bp人工神经网络模型，训练好的bp人工神经网络模型即为掩模形貌图到光刻胶形貌图的映射模型，请参阅图9；
94.对待处理掩模设计版图加载计算光刻模型，得到待处理掩模设计版图的掩模形貌图；
95.将补充训练后的掩模形貌图映射模型应用到待处理掩模设计版图的掩模形貌图，得到待处理掩模设计版图的光刻胶形貌图；
96.请参阅图10，对经过形貌映射模型得出的光刻胶形貌图添加阈值条件，而得到待处理掩模设计版图的光刻胶图形轮廓。
97.本发明第二实施例还提供一种装置2，用于实现上述方法1，请参阅图11，装置包括：
98.输入模块21：获取待处理掩模设计版图以及待处理掩模设计版图对应的掩模形貌图；
99.处理模块22：从掩模形貌图基于预设的已训练形貌图映射模型得到对应的光刻胶形貌图。
100.本发明第三实施例还提供一种计算机设备3，请参阅图12，包括存储器30、处理器31及存储在存储器30上的计算机程序300，处理器31执行上述计算机程序300以实现上述方法1的步骤。
101.在本发明所提供的实施例中，应理解，“与a对应的b”表示b与a相关联，根据a可以确定b。但还应理解，根据a确定b并不意味着仅仅根据a确定b，还可以根据a和/或其他信息确定b。
102.应理解，说明书通篇中提到的“一个实施例”或“一实施例”意味着与实施例有关的特定特征、结构或特性包括在本发明的至少一个实施例中。因此，在整个说明书各处出现的“在一个实施例中”或“在一实施例中”未必一定指相同的实施例。此外，这些特定特征、结构或特性可以以任意适合的方式结合在一个或多个实施例中。本领域技术人员也应该知悉，说明书中所描述的实施例均属于可选实施例，所涉及的动作和模块并不一定是本发明所必须的。
103.在本发明的各种实施例中，应理解，上述各过程的序号的大小并不意味着执行顺序的必然先后，各过程的执行顺序应以其功能和内在逻辑确定，而不应对本发明实施例的实施过程构成任何限定。
104.在本发明的附图中的流程图和框图，图示了按照本技术各种实施例的系统、方法和计算机程序产品的可能实现的体系架构、功能和操作。在这点上，流程图或框图中的每个方框可以代表一个模块、程序段、或代码的一部分，该模块、程序段、或代码的一部分包含一个或多个用于实现规定的逻辑功能的可执行指令。也应当注意，在有些作为替换的实现方案中，方框中所标注的功能也可以不同于附图中所标注的顺序发生。例如，两个接连地表示的方框实际上可以基本并行地执行，它们有时也可以按相反的顺序执行，在此基于涉及的功能而确定。需要特别注意的是，框图和/或流程图中的每个方框、以及框图和/或流程图中的方框的组合，可以用执行规定的功能或操作的专用的基于硬件的系统来实现，或者可以用专用硬件与计算机指令的组合来实现。
105.与现有技术相比，本发明所提供的一种掩模形貌图处理方法、装置和计算机设备，具有如下的有益效果：
106.1.获取待处理掩模设计版图以及整体设计版图对应的掩模形貌图；将掩模形貌图
输入预设的已训练形貌图映射模型得到掩模形貌图对应的光刻胶形貌图。使用已训练形貌图映射模型完成掩模形貌图到光刻胶形貌图的映射，降低了工艺流程的时间成本。
107.2.获取初始掩模设计版图的典型掩模设计版图；对典型掩模设计版图进行处理得到典型掩模设计版图对应的典型掩模形貌图及典型光刻胶形貌图；将典型掩模形貌图及典型光刻胶形貌图输入未训练形貌图映射模型，并对未训练形貌图映射模型进行训练得到已训练形貌图映射模型。当形貌图映射模型未经过训练时，先传入典型掩模形貌图和典型光刻胶形貌图对其进行初次训练，从而得到典型掩模形貌图到典型光刻胶形貌图的映射模型。
108.3.对典型掩模设计版图进行处理得到典型掩模设计版图对应的典型光刻胶形貌图包括以下步骤：对典型掩模设计版图加载预设的计算光刻模型得到典型掩模形貌图；对典型掩模设计版图加载预设的计算光刻模型并进行opc处理，得到典型光刻胶形貌图。对典型掩模设计版图做opc处理得到典型光刻胶形貌图，为掩模形貌图映射模型的训练提供了样本，提高了映射模型的可靠性。
109.4.典型掩模设计版图包括典型图形版图、关键图形版图及已知缺陷版图中的一种或多种的组合。通过得到典型图形版图、关键图形版图和已知缺陷版图来对模型进行训练，提高了训练完成的模型对整体设计版图的掩模形貌图到光刻胶形貌图的映射的可靠性。
110.5.在将掩模形貌图输入预设的形貌图映射模型之前还包括以下步骤：获取验证掩模设计版图的典型掩模设计版图；将典型掩模设计版图与预设的已训练版图数据库进行匹配，若匹配失败，则对已训练形貌图映射模型进行补充训练。对于已经传入训练模型选练过的典型掩模设计版图，无需再次进行训练，因此在训练之前对典型掩模设计版图与预设的已训练版图数据库进行匹配，来判断是否需要进行补充训练，提高了掩模形貌图映射模型的灵活性和可扩展性。
111.6.对典型掩模设计版图进行处理得到典型掩模设计版图对应的典型掩模形貌图及典型光刻胶形貌图；将典型掩模形貌图及典型光刻胶形貌图输入形貌图映射模型进行补充训练；将典型掩模设计版图加入预设的已训练版图数据库；将预设的计算光刻模型加入预设的已训练计算光刻模型数据库。对于不同的计算光刻模型，即使是相同的典型掩模设计版图也会有不同掩模形貌图，因此需要对当前的计算光刻模型与已训练的计算光刻模型进行匹配，若当前的计算光刻模型还没有训练过，则进行补充训练，提高了掩模形貌图映射模型的可靠性。
112.7.补充训练包括以下步骤：对典型掩模设计版图进行处理得到典型掩模设计版图对应的典型掩模形貌图及典型光刻胶形貌图；将典型掩模形貌图及典型光刻胶形貌图输入形貌图映射模型进行补充训练；将典型掩模设计版图加入预设的已训练版图数据库；将预设的计算光刻模型加入预设的已训练计算光刻模型数据库。对于已经训练过的典型掩模设计版图和计算光刻模型，保存到对应的数据库当中，提高可掩模形貌图映射模型的可扩展性。
113.8.在得到掩模形貌图对应的光刻胶形貌图之后还包括以下步骤：对光刻胶形貌图添加阈值条件得到光刻胶图形轮廓。对于通过掩模形貌图映射模型得到的光刻胶形貌图，还不能直接进行应用，通过添加阈值条件对光刻胶形貌图进一步处理，使其便于进行之后的工艺流程，提高掩模形貌图处理方法的实用性。
114.9.本发明实施例还提供一种装置，具有与上述掩模形貌图处理方法相同的有益效果，在此不做赘述。
115.10.本发明实施例还提供一种计算机设备，具有与上述一种掩模形貌图处理方法相同的有益效果，在此不做赘述。
116.以上对本发明实施例公开的一种掩模形貌图处理方法、装置和计算机设备进行了详细介绍，本文中应用了具体个例对本发明的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只是用于帮助理解本发明的方法及其核心思想；同时，对于本领域的一般技术人员，依据本发明的思想，在具体实施方式及应用范围上均会有改变之处，综上所述，本说明书内容不应理解为对本发明的限制，凡在本发明的原则之内所作的任何修改，等同替换和改进等均应包含本发明的保护范围之内。