一种半导体生产的除脂装置的制作方法

1.本实用新型属于半导体生产领域，具体是涉及一种半导体生产的除脂装置。


背景技术：

2.自然界的物质、材料按导电能力大小可分为导体、半导体和绝缘体三大类。半导体的电阻率在1mω
·
cm～1gω
·
cm范围取值，反映半导体内在基本性质的却是各种外界因素如光、热、磁、电等作用于半导体而引起的物理效应和现象。目前市场现有半导体生产用到除脂装置，只能从一个角度对半导体表面进行清洗，往往使半导体表面除脂效果不佳，工作人员在调节半导体清洗位置时，很容易使清洗不均匀，从而导致除脂时间长，工作质量差。


技术实现要素：

3.本实用新型的目的就在于提供一种半导体生产的除脂装置。
4.本实用新型所采用的技术方案如下：
5.一种半导体生产的除脂装置，包括清洗机构、移动机构、还包括便于对不同规格半导体在清洗过程中进行翻转冲洗的除脂机构，所述清洗机构外侧设置有所述移动机构，所述移动机构上方设置有所述除脂机构，所述除脂机构包括支撑架、旋转轴、旋转电机、连接杆、翻转轴、翻转电机、托座、电动推杆、定位夹、清洗管、喷头，所述支撑架内侧设置有所述旋转轴，所述旋转轴外侧设置有所述旋转电机，所述旋转轴内侧设置有所述连接杆，所述连接杆内侧设置有所述翻转轴，所述翻转轴外侧设置有所述翻转电机，所述翻转轴内侧设置有所述托座，所述托座内侧设置有所述电动推杆，所述电动推杆伸缩端设置有所述定位夹，所述托座上方设置有所述清洗管，所述清洗管前侧设置有所述喷头。
6.优选地：所述清洗机构包括承载台、支架、清洗水槽、超声波发生器，所述承载台下方设置有所述支架，所述承载台上方设置有所述清洗水槽，所述清洗水槽内侧设置有所述超声波发生器。
7.优选地：所述承载台与所述支架通过焊接连接，所述承载台与所述清洗水槽通过焊接连接，所述清洗水槽与所述超声波发生器通过螺栓连接。
8.如此设置，方便拆装更换所述超声波发生器进行维修。
9.优选地：所述移动机构包括轨道、移动座、螺杆、移动电机，所述轨道内侧设置有所述移动座，所述移动座内侧设置有所述螺杆，所述螺杆前侧设置有所述移动电机。
10.优选地：所述轨道与所述移动座滑动连接，所述轨道与所述螺杆通过轴承连接，所述螺杆与所述移动电机键连接。
11.如此设置，轴承连接便于所述螺杆灵活转动。
12.优选地：所述支撑架与所述旋转轴通过轴承连接，所述旋转轴与所述旋转电机键连接，所述旋转轴与所述连接杆通过焊接连接，所述连接杆与所述翻转轴通过轴承连接，所述翻转轴与所述翻转电机键连接，所述翻转轴与所述托座通过焊接连接，所述托座与所述电动推杆固定端通过螺栓连接，所述电动推杆与所述定位夹伸缩端通过螺栓连接，所述托
座与所述清洗管通过焊接连接，所述清洗管与所述喷头通过螺栓连接。
13.如此设置，轴承连接便于所述旋转轴、所述翻转轴灵活转动，方便拆装更换所述电动推杆、所述定位夹、所述喷头进行维修。
14.本实用新型的有益效果为：采用除脂机构，启动旋转电机带动旋转轴和连接杆与定位夹进行旋转移动，配合着电动推杆伸缩推动着定位夹进行左右移动，对不同规格的半导体表面进行夹紧定位，再启动翻转电机带动翻转轴和定位夹与喷头进行翻转运动，在超声波清洗过程中进行翻转冲洗，从而可以使半导体表面的油脂快速脱落，减少人为操作，加强除脂效率，提高工作质量。
附图说明
15.附图是用来提供对本实用新型的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与下面的具体实施方式一起用于解释本实用新型，但并不构成对本实用新型的限制。在附图中：
16.图1是本实用新型所述一种半导体生产的除脂装置的正视示意图；
17.图2是本实用新型所述一种半导体生产的除脂装置的立体示意图；
18.图3是本实用新型所述一种半导体生产的除脂装置的清洗机构示意图；
19.图4是本实用新型所述一种半导体生产的除脂装置的移动机构示意图；
20.图5是本实用新型所述一种半导体生产的除脂装置的除脂机构示意图。
21.附图标记说明如下：
22.1、清洗机构；2、移动机构；3、除脂机构；11、承载台；12、支架；13、清洗水槽；14、超声波发生器；21、轨道；22、移动座；23、螺杆；24、移动电机；301、支撑架；302、旋转轴；303、旋转电机；304、连接杆；305、翻转轴；306、翻转电机；307、托座；308、电动推杆；309、定位夹；310、清洗管；311、喷头。
具体实施方式
23.下面通过实施例结合附图进一步说明本实用新型。
24.如图1、图2、图3、图4、图5所示，一种半导体生产的除脂装置，包括清洗机构1、移动机构2、还包括便于对不同规格半导体在清洗过程中进行翻转冲洗的除脂机构3，清洗机构1外侧设置有移动机构2，移动机构2上方设置有除脂机构3，清洗机构1包括承载台11、支架12、清洗水槽13、超声波发生器14，承载台11下方设置有支架12，承载台11上方设置有清洗水槽13，清洗水槽13内侧设置有超声波发生器14，移动机构2包括轨道21、移动座22、螺杆23、移动电机24，轨道21内侧设置有移动座22，移动座22内侧设置有螺杆23，螺杆23前侧设置有移动电机24，除脂机构3包括支撑架301、旋转轴302、旋转电机303、连接杆304、翻转轴305、翻转电机306、托座307、电动推杆308、定位夹309、清洗管310、喷头311，支撑架301内侧设置有旋转轴302，旋转轴302外侧设置有旋转电机303，旋转轴302内侧设置有连接杆304，连接杆304内侧设置有翻转轴305，翻转轴305外侧设置有翻转电机306，翻转轴305内侧设置有托座307，托座307内侧设置有电动推杆308，电动推杆308伸缩端设置有定位夹309，托座307上方设置有清洗管310，清洗管310前侧设置有喷头311。
25.优选地：承载台11与支架12通过焊接连接，承载台11与清洗水槽13通过焊接连接，清洗水槽13与超声波发生器14通过螺栓连接；轨道21与移动座22滑动连接，轨道21与螺杆
23通过轴承连接，螺杆23与移动电机24键连接；支撑架301与旋转轴302通过轴承连接，旋转轴302与旋转电机303键连接，旋转轴302与连接杆304通过焊接连接，连接杆304与翻转轴305通过轴承连接，翻转轴305与翻转电机306键连接，翻转轴305与托座307通过焊接连接，托座307与电动推杆308固定端通过螺栓连接，电动推杆308与定位夹309伸缩端通过螺栓连接，托座307与清洗管310通过焊接连接，清洗管310与喷头311通过螺栓连接。
26.工作原理：使用时，启动旋转电机303带动旋转轴302和连接杆304与定位夹309进行旋转移动，工作人员将不同规格的半导体放置在定位夹309内，利用电动推杆308伸缩推动着定位夹309进行左右移动，对不同规格的半导体表面进行夹紧定位，然后启动移动电机24带动螺杆23和移动座22与除脂机构3进行上下料移动，将半导体送至清洗水槽13内部，然后用清洗水槽13内部安装着超声波发生器14进行清洗工作，再启动翻转电机306带动翻转轴305和定位夹309与喷头311进行翻转运动，在超声波清洗过程中进行翻转冲洗，从而可以使半导体表面的油脂快速脱落，减少人为操作，加强除脂效率，提高工作质量。
27.以上结合附图对本实用新型的优选实施方式做了详细说明，但本实用新型并不限于上述实施方式，在所属技术领域技术人员所具备的知识范围内，还可以在不脱离本实用新型宗旨的前提下作出各种变化。