一种剥离液及其制备方法与流程

技术特征：
1.一种剥离液，其包括式i所示化合物、水溶性有机溶剂、胺类试剂、缓蚀剂、非离子表面活性剂和水；所述式i所示化合物如下所示：2.根据权利要求1所述的剥离液，所述非离子表面活性剂包括或为式ii所示化合物，其中，n为10-20的整数。3.根据权利要求1-2任一项所述的剥离液，所述水溶性有机溶剂包括选自乙二醇甲醚、乙二醇乙醚、乙二醇丁醚、二乙二醇甲醚、二乙二醇乙醚、二乙二醇丁醚、三乙二醇单甲醚、三乙二醇单丁醚、四乙二醇单甲醚、四乙二醇二甲醚化合物中至少一种。4.根据权利要求1-3任一项所述的剥离液，所述胺类试剂包括选自环状胺和链烷醇胺中的至少一种；任选地，所述胺类试剂包括环状胺和链烷醇胺；任选地，所述环状胺包括选自羟乙基哌嗪、哌嗪、n-甲基-哌嗪、甲基-哌嗪中的至少一种；优选为羟乙基哌嗪；任选地，所述链烷醇胺包括选自单乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺、2-(2-氨基乙氧基)乙醇、n，n-二甲基乙醇胺、n，n-二乙基乙醇胺、n，n-二丁基乙醇胺、n-甲基乙醇胺、n-(2-氨基乙基)乙醇胺、n-乙基乙醇胺、n-丁基乙醇胺、n-甲基二乙醇胺、单异丙醇胺、二异丙醇胺、三异丙醇胺中的至少一种；优选为二乙醇胺。5.根据权利要求1-4任一项所述的剥离液，所述缓蚀剂包括选自苯并三氮唑和山梨醇中的至少一种。6.根据权利要求1-5任一项所述的剥离液，基于所述剥离液的总质量计算，所述式i所示化合物的含量为1wt％-5wt％；任选地，基于所述剥离液的总质量计算，所述水溶性有机溶剂的含量为38.4wt％-78.95wt％；
任选地，基于所述剥离液的总质量计算，所述胺类试剂的含量为5wt％-15wt％；任选地，基于所述剥离液的总质量计算，所述缓蚀剂的含量为0.05wt％-1.5wt％；任选地，基于所述剥离液的总质量计算，所述非离子表面活性剂的含量为0-0.1wt％；任选地，基于所述剥离液的总质量计算，所述水的含量为15wt％-40wt％。7.根据权利要求1-6任一项所述的剥离液，基于所述剥离液的总质量计算，所述式i所示化合物的含量为1wt％-5wt％，所述胺类试剂的含量为5wt％-15wt％，所述缓蚀剂的含量为0.05wt％-1.5wt％，所述非离子表面活性剂的含量为0-0.1wt％，所述水的含量为15wt％-40wt％，余量为所述水溶性有机溶剂。8.根据权利要求1-7任一项所述的剥离液，所述胺类试剂包括环状胺和链烷醇胺；基于所述剥离液的总质量计算，所述环状胺的含量为0.5wt％-5wt％，所述链烷醇胺的含量为5wt％-14.5wt％；任选地，所述缓蚀剂包括苯并三氮唑和山梨醇，基于所述剥离液的总质量计算，所述苯并三氮唑的含量为0.05wt％-1.45wt％，所述山梨醇的含量为0.05wt％-1.45wt％。9.根据权利要求1-8任一项所述的剥离液，其包括式i所示化合物、水溶性有机溶剂、胺类试剂、缓蚀剂、非离子表面活性剂和水；所述非离子表面活性剂为式ii所示化合物，所述胺类试剂包括环状胺和链烷醇胺，所述缓蚀剂包括苯并三氮唑和山梨醇，基于所述剥离液的总质量计算，所述式i所示化合物的含量为1wt％-5wt％，所述环状胺的含量为0.5wt％-5wt％，所述链烷醇胺的含量为5wt％-14.5wt％，所述苯并三氮唑的含量为0.05wt％-1.45wt％，所述山梨醇的含量为0.05wt％-1.45wt％，所述非离子表面活性剂的含量为0-0.1wt％，所述水的含量为15wt％-40wt％，余量为所述水溶性有机溶剂。10.一种权利要求1-9任一项所述的剥离液的制备方法，其包括将式i所示化合物、水溶性有机溶剂、胺类试剂、缓蚀剂、非离子表面活性剂和水混合。

技术总结
一种剥离液及其制备方法，属于液晶面板和半导体生产技术领域。所述剥离液包括式I所示化合物、水溶性有机溶剂、胺类试剂、缓蚀剂、非离子表面活性剂和水。所述剥离液用于光刻胶的剥离，所述剥离液具有剥离效果好，剥离后光刻胶无残留，对金属的防腐蚀性好，使用寿命长等优点。优点。优点。优点。


技术研发人员：卢燕燕 张丽燕
受保护的技术使用者：深圳深骏微电子材料有限公司
技术研发日：2022.01.21
技术公布日：2022/5/25