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改进的矫正器的制作方法

2022-05-21 02:13:36 来源:中国专利 TAG:


1.本发明涉及矫正器以及相关的方法,尤其涉及一种具有顶侧内侧和外侧足弓结构以及平坦的中足部段的用于足部的矫正器,以及一种具有顶侧外翻楔形物和/或内翻楔形物和第一跖骨凹痕的用于足部的矫正器。


背景技术:

2.足部矫正器是用于治疗足部疾病的人工支撑装置。这种矫正器常常作为放置在患者的鞋内的插入物来提供。它们通常包括基部,基部上设置有一个或多个结构,通常是在顶侧和底侧有凸起的结构。传统上,矫正器由提供支撑的结构制成,仅考虑静止时足部的轮廓和位置,例如重新分配站立时施加在使用者足部的一些部分上的负荷。
3.仅在最近,矫正器的开发才开始考虑足部在运动中时的位置和轮廓。例如,申请人的澳大利亚专利no.2012262646描述了一种使用功能测试评估患者的足部的方法,包括考虑通常在运动过程中通常会经历的移动,并基于此制定矫正装置并从预定的矫正设计中进行选择。在申请人的澳大利亚专利申请no.2017325102中描述了更新的矫正装置,包括由多个结构限定的矫正装置,诸如足部的跟骨内侧的凸起点(例如“区1”)、足部的骰骨区域中的凸起点(“区2”)和内侧楔骨后部的凹槽,通过中足区域弯曲到第一跖骨的基部(例如“区3”)。特别地,中足区域通常是由各种不同的矫正装置中的结构支撑的区域。例如,中足区域的凸起支撑被认为有助于足部的自然旋后。另外,中足凹槽被认为减轻足部筋膜弦的压力,以促进自然的绞盘机制。
4.制定和使用用于治疗足部疾病的矫正装置通常仍然是一个反复试验的过程,有时没有可用的矫正装置可以令人满意地治疗给定患者的足部疾病,或为使用者提供某些所需的益处。
5.需要克服或减轻与现有技术相关的一个或多个困难或缺陷。因此,本发明寻求提供一种矫正装置,该矫正装置相对于现有技术提供优点,或者可用于更令人满意地治疗任何给定患者,或者至少提供有用的替代方案。


技术实现要素:

6.在一方面,本发明提供一种用于足部的矫正器,该矫正器具有顶侧和底侧,并且还包括:
7.(a)凸起的内侧足弓结构,位于矫正器的顶侧、在对应于使用者足部的内侧纵向足弓或其一部分的位置处;
8.(b)凸起的外侧足弓结构,位于矫正器的顶侧、在对应于使用者足部的外侧纵向足弓或其一部分的位置处;以及
9.(c)平坦的中足部段,位于内侧足弓结构和外侧足弓结构之间的矫正器的顶侧、在对应于使用者足部的中足区域或其一部分的位置处。
10.用于足部的“矫正器”是指一种人工装置,以用于通过围绕使用者足部的足底适配
来改善足部的操作,该矫正器包括基部,该基部可以被成形为具有一个或多个结构或具有设置在其上的一个或多个结构,通常是凸起的或缩进的,旨在以特定的方式(通常是支撑、施加压力或刺激)与足部的特定部分相互作用。矫正器可以是用于鞋类的可移除插入物的形式或者可以形成为整体鞋类部分,例如形成为鞋内底,或以其他方式形成。因此,矫正器的“顶侧”通常是面向使用者足部的足底的一侧,而矫正器的“底侧”通常是背向使用者足部的足底的一侧。
11.总体上讲,一个人的足部可以被认为包括三个区域:前足、中足和后足。这些区域可以由足部的骨骼限定。足部的骨骼、肌腱和肌肉是本领域普通技术人员已知的。作为参考,图1中提供了足部骨骼的图示。前足可以包括跖骨和趾骨。在这个意义上,矫正器的前足区域可以被认为对应于在跖骨基部和远侧趾骨的端部之间延伸的足部区域,或者换句话说,在跖骨基部的前部延伸或跗跖关节的前部延伸。中足可以包括舟骨、骰骨和楔骨。从这个意义上说,矫正器的中足区域可以被认为对应于在舟骨和骰骨的后部与跖骨的基部之间延伸的足部区域,或者换句话说,在跗横关节和跗跖关节之间延伸。中足区域还可被认为由两个子区域组成:前部中足子区域和后部中足子区域。前部中足子区域可以被认为对应于在舟骨-楔骨关节(包括跨骰骨外推)和跗跖关节之间延伸的足部区域。矫正器的后部中足子区域可以被认为对应于在跗横关节和舟骨-楔骨关节之间延伸的足部区域(同样,外推)。最后,后足可以包括距骨和跟骨。从这个意义上说,矫正器的后足区域可以被认为对应于在跟骨的端部与舟骨和骰骨之间延伸的足部区域,或者换言之,在跗横关节的后部延伸。
12.人足部的形状和功能通常定义三个足弓:横向足弓、内侧纵向足弓和外侧纵向足弓。总体上讲,横向足弓沿着与跖骨头部相对应的线延伸横跨足部。内侧纵向足弓通常沿着足部的一条线从第一跖骨头部延伸到足跟或跟骨的中心,而外侧纵向足弓通常沿着足部的一条线从第五跖骨头部也延伸到足跟或跟骨的中心。因此,位于分别对应于使用者足部的内侧纵向足弓和外侧纵向足弓或其一部分的位置处的凸起的内侧足弓结构和外侧足弓结构通常设置在矫正器上、分别沿着对应于足部的第一跖骨头部到足跟或跟骨的中心的线或其一部分延伸,或者沿着对应于足部的第五跖骨头部到足跟或跟骨的中心的线或其一部分延伸。
13.在这个意义上,内侧纵向足弓和外侧纵向足弓通常延伸穿过并限定中足区域的内侧边缘和外侧边缘。因此,“平坦”的中足部段通常意味着矫正器的基部不包含旨在以特定的支撑、压力或刺激方式与使用者足部的相应中足区域相互作用的结构,足部与普通鞋或其他鞋类的内底的相互作用没有任何不同。换句话说,中足部段中没有结构;它是无结构的,就像普通鞋子的内底一样。在优选实施方案中,平坦的中足部段位于对应于使用者足部的后部中足子区域的位置处。在更优选的实施方案中,平坦的中足部段位于对应于使用者足部的中足区域的位置处,即后部中足子区域和前部中足子区域二者。
14.本发明源于对足部的肌肉-骨骼和神经肌肉系统的操作的考虑,以开发一种矫正器,该矫正器在使用者足部的不同位置处提供支撑、压力和/或刺激,或视情况而定不提供支撑、压力和/或刺激,以改善足部的操作,特别是在运动过程中。发明人已经注意到了令人惊讶的结果,即将平坦的中足部段与内侧足弓结构和外侧足弓结构相结合产生了某些优点,特别是在运动期间足部的功能位置的改进,尤其是步态周期的改进。特别是通过沿着内侧足弓和外侧足弓提供支撑来实现改进,以在步态周期的负荷响应和中间站立阶段使足部
定位和稳定以防止过度质子化或旋后。这提供了对齐,并帮助足底腱膜保持纵向足弓,例如在一定的预张力下,为有效的足跟提升和最终站立阶段做好准备。足弓支撑还用于帮助使用者的重量在足跟提升阶段通过足部、朝向拇趾向前滚动,以用于进行正确的重量分布,并在绞盘效应期间鼓励收紧跖骨头部周围的足底筋膜,以提高效率并改进定时。平坦的中足部段,或没有中足结构,通过在绞盘效应期间保护足底筋膜免受压力或刺激来进一步提供帮助。这尤其违背了本领域的传统思维,传统思维持有的普遍共识是,矫正器通常需要中足结构来帮助自然旋后,或减少足底筋膜上的压力。本发明人已经发现中足结构不是必需的,并且在许多情况下可能是有害的,其引起不适并且干扰足底筋膜的自然收紧,从而降低绞盘效应的效率,包括足弓支撑所鼓励的其他情况。
15.因此,可以认为本文描述的结构和部段的总体目的是在使用者足部的不同位置提供支撑、压力和/或刺激(或不存在支撑、压力和/或刺激,视情况而定),以便改善使用者足部的操作或优化其正常操作,尤其是在运动过程中。
16.在优选实施方案中,内侧足弓结构位于以下位置处,该位置对应于使用者足部的跟骨内侧的前部并延伸至第一跖骨区。更优选地,内侧足弓结构延伸至第一跖骨基部;即位于以下位置处,该位置对应于使用者足部的跟骨内侧的前部并延伸至第一跖骨的基部。
17.另外,在优选的实施方案中,外侧足弓结构位于以下位置处,该位置对应于使用者足部的骰骨外侧的后部并延伸至第五跖骨头部或第五跖骨基部。
18.更优选地,所述外侧足弓结构包括第一子结构和第二子结构,其中所述第一子结构位于对应于使用者足部的骰骨外侧的后部并延伸至第五跖骨基部的位置处,其中所述第二子结构位于对应于使用者足部的第五跖骨区并延伸至第五跖骨头部的位置处。
19.在更优选的实施方案中,所述外侧足弓结构位于对应于使用者足部的骰骨外侧的后部并延伸至第五跖骨基部的位置处。
20.在优选实施方案中,凸起结构的高度在约2mm到约40mm之间,优选地约10mm到约35mm,并且更优选地约15mm到约30mm之间。总体上讲,凸起结构优选地是倾斜的,并且至少就内侧足弓结构和外侧足弓结构而言,将分别朝向矫正器的内侧周边和外侧周边向上倾斜。优选地,凸起结构包括围绕矫正器的相应周边的大体上半圆形弧,凸起结构的高度围绕该半圆形弧达到峰值。例如,优选地,内侧足弓结构包括两个大体上半圆形弧,第一半圆形弧位于对应于使用者足部的跟骨内侧的前部的位置处,第二半圆形弧位于对应于使用者足部的舟骨的位置处。考虑到两个大体上半圆形弧的相应位置的接近度,它们可以被连结。
21.替代地,并且还优选地,内侧足弓结构包括一个大体上半圆形弧,第一半圆形弧位于对应于使用者足部的跟骨内侧的前部的位置处。类似地,外侧足弓结构包括一个大体上半圆形弧,位于对应于使用者足部的骰骨外侧的后部的位置处。
22.当包括弧时,弧可以具有2mm到40mm的直径,例如2mm、5mm、10mm、15mm、20mm、25mm、30mm、35mm或40mm,或它们之间的任何直径。优选地,凸起结构围绕大体上半圆形弧达到峰值的高度可以如上文所述;约2mm至40mm之间。
23.矫正器可以包括许多其他结构,只要保留凸起的内侧足弓结构和外侧足弓结构以及平坦的中足部段即可。例如,矫正器可以包括如申请人的澳大利亚专利申请no.2017325102中所描述的足跟结构(例如,倾斜的足跟)、屈曲区、第一跖骨凹痕和/或沟结构(即,分别为“区7”、“区8”“区4”、“区6”)。申请人的澳大利亚专利申请no.2017325102的相
关公开内容通过引用纳入本文。
24.在一个实施方案中,矫正器还包括凸起的跖骨垫,位于矫正器的顶侧、在对应于使用者足部的跖骨或其一部分的位置处。在一个实施方案中,跖骨垫可以延伸到前部中足子区域或其一部分,即当平坦的中足部段位于对应于使用者足部的后部中足子区域的位置处时。在此实施方案中,当存在跖骨垫时,优选地,跖骨垫位于以下位置处:该位置对应于使用者足部的至少第二跖骨区、第三跖骨区和第四跖骨区,并且优选地对应于跖骨头部,并且延伸到使用者足部的至少外侧楔骨的头部;即在后部方向上近似楔形。在优选实施方案中,当平坦的中足部段位于对应于使用者足部的中足区域的位置处时,跖骨垫(当存在时)不延伸至中足区域,而是仅延伸至一个或多个跖骨基部。
25.矫正器还可以包括第一跖骨凹痕,位于矫正器的顶侧、在对应于第一跖骨头部的位置处,以接收足部的内侧球。当第一跖骨凹痕存在时,第一跖骨凹痕将优选地大体上是圆形或椭圆形的,其直径对应于足部的内侧球的直径,通常在25mm至50mm之间,并且将优选地相对较浅,通常深度在约2mm至5mm之间。
26.矫正器还可以包括凸起的足跟结构,位于矫正器的顶侧、在对应于使用者足部的跟骨的后部的位置处。当足跟结构存在时,优选地,足跟结构位于以下位置处:该位置对应于使用者足部的跟骨内侧的前部,并且通过跟骨的后部围绕地延伸至使用者足部的骰骨外侧的后部。当足跟结构存在时,优选地,足跟结构在从使用者足部的跟骨的中心朝向矫正器的周边的方向上向上倾斜,以形成使用者足部的足跟可以适配在其中的“杯状物”。在如本文所述的内侧足弓结构和外侧足弓结构的优选实施方案中,优选地,足跟结构在存在时与内侧足弓结构和外侧足弓结构相交并结合在一起。足跟结构的高度可以在约2mm到约40mm之间,优选地约5mm到约25mm,并且更优选地约10mm到约15mm之间。
27.矫正器还可以包括凸起的前足结构,位于矫正器的顶侧、在对应于使用者足部的第一跖骨头部并延伸至第一远侧趾骨的端部的位置处。当凸起的前足结构存在时,其高度可能小于内侧足弓结构和外侧足弓结构;优选地在约0.5mm到5mm之间,优选地约1mm到2mm之间。
28.矫正器还可以包括缩进的前足结构,位于矫正器的顶侧、在对应于使用者足部的第五跖骨头部并延伸至第五远侧趾骨的端部的位置处。当存在时,凹痕的量可以在约0.5mm至5mm之间,优选地1mm至3mm之间,并且更优选地约1mm或2mm。
29.在一个优选实施方案中,矫正器至少还包括第一跖骨凹痕、凸起的足跟结构和缩进的前足结构,每个结构都位于矫正器的顶侧,如上文所述。
30.矫正器还可以包括外翻楔形物和/或内翻楔形物,每个楔形物都位于矫正器的顶侧、在对应于使用者足部的前足区域或其一部分的位置处。外翻楔形物通常向上倾斜到足部的外侧,而内翻楔形物通常向上倾斜到足部的内侧。当外翻楔形物和内翻楔形物存在时,外翻楔形物和内翻楔形物可以倾斜到约2mm到约15mm之间的高度,优选地约5mm到约10mm之间的高度,并且可以以约3度到约15度,优选约5度至约10度的角度倾斜。
31.在另一个优选实施方案中,矫正器至少还包括外翻楔形物或内翻楔形物,以及第一跖骨凹痕,每一个都位于矫正器的顶侧、在使用者足部的前足部区域中,如上所述。
32.外翻楔形物和/或内翻楔形物与第一跖骨凹痕的这种组合产生了特别的益处。本发明人已经发现,这些特征的组合导致在运动期间足部的功能位置的改善,特别是步态周
期的改善。特别地,通过分别沿着外侧前足区域或内侧前足区域(对于给定患者可能需要沿着其中一个或二者)提供支撑的外翻楔形物或内翻楔形物来实现改善,使得在步态周期的足跟提升和最终站立姿势期间使用者的重量通过足部向前滚动到拇趾以进行脚趾离地时,引导使用者的重量跨越足部的最佳负载部分。第一跖骨凹痕通过提供一个用于接收足部的内侧球的区域来进一步提供帮助,因为足部的内侧球在足底筋膜围绕跖骨头部张紧时隆起。这有助于第一跖骨头部和拇趾对齐,以实现有效的脚趾离地,并防止在足跟提升阶段期间足部的隆起球使前足的内侧凸起,从而在外翻楔形物的情况下对抗外翻楔形物,并在内翻楔形物的情况下,与可能会引导使用者的体重不对齐的楔形物共同作用。
33.因此,在另一方面,本发明提供一种用于足部的矫正器,该矫正器具有顶侧和底侧,并且还包括:
34.(a)外翻楔形物,位于矫正器的顶侧、在对应于使用者足部的前足区域或其一部分的位置处,并向上倾斜至足部的外侧,和/或内翻楔形物,位于矫正器的顶侧、在对应于使用者足部的前足区域或其一部分的位置处,并且向上倾斜到足部的内侧;以及
35.(b)第一跖骨凹痕,位于矫正器的顶侧、在对应于第一跖骨头部的位置处,用于接收足部的内侧球。
36.外翻楔形物、内翻楔形物和第一跖骨凹痕可以如上文所述。矫正器可以进一步包括如上文所述的任何一种或多种其他结构,如所适用的,包括凸起的内侧足弓支撑件和/或外侧足弓支撑件和/或平坦的中足部段。优选地,至少包括平坦的中足部段。
37.本发明的矫正器特别适用于治疗足部疾病。因此,在另一方面,本发明提供一种治疗足部疾病的方法,包括给使用者制定本文所述的矫正器。当然,这也包括一种用于治疗足部疾病的方法,该方法包括使用本文所述的矫正器。这还可以包括一种用于矫正使用者的步态周期的方法,特别是由绞盘效应促进的足跟提升和最终站立姿势阶段。
38.本发明的矫正器不仅可用于治疗足部疾病,还可用于优化或改善足部在运动过程中的正常功能;也就是说,即使可能没有特定的可制定或已知的可治疗疾病。例如,本发明特别适用于舞蹈艺术,例如芭蕾舞。本发明的矫正器还可用于其他活动,例如体育运动,并且可以例如被运动员使用。因此,在另一方面,本发明涉及一种用于在运动期间优化足部的正常功能的方法,包括使用如本文所述的矫正器。这可以包括用于优化或改善使用者的步态周期的方法,特别是由绞盘效应促进的足跟提升和最终站立姿势阶段。
39.对于某些应用,例如当用于舞蹈艺术,特别是芭蕾舞时,矫正器优选地小于足部长度的一半。因此,在另一方面,本发明提供一种用于足部的矫正器,该矫正器具有顶侧和底侧,该矫正器小于足部长度的一半并且包括:
40.(a)凸起的内侧足弓结构,位于矫正器的顶侧、在对应于使用者足部的内侧纵向足弓或其一部分的位置处;
41.(b)凸起的外侧足弓结构,位于矫正器的顶侧、在对应于使用者足部的外侧纵向足弓或其一部分的位置处;以及
42.(c)平坦的中足部段,位于内侧足弓结构和外侧足弓结构之间的矫正器的顶侧、在对应于使用者足部的中足区域或其一部分的位置处。
43.包括细长的跖骨的足部的前足区域与中足区域和后足区域相比相对较长——约与中足区域和后足区域的总长度相同。因此,半足距离通常可以定义为对应于跗跖关节,或
者替代地横跨从第一跖骨基部截取的足部的横向线。在这个意义上,小于足部长度一半的矫正器通常可以被认为对应于半足距离的后部区域。
44.在这方面,内侧结构和外侧结构以及平坦的中足部段可以如本文所述,包括在它们的优选实施方案中,适用于小于足部长度的一半的矫正器。
45.在本说明书中,术语“包括”及其变体并不旨在排除其他整体、部件或步骤的存在。
46.在本说明书中,对说明书中任何现有技术的引用不是也不应被视为承认或任何形式的暗示该现有技术构成澳大利亚或任何其他司法管辖区的公知常识的一部分,或者该现有技术可以本领域技术人员合理预期会组合。
47.现在将参考所附实施例和附图更全面地描述本发明。然而,应当理解,以下描述仅是例示性的,不应以任何方式被视为对上述本发明的一般性的限制。
附图说明
48.图1是足部骨骼的图示。
49.图2是本发明的矫正器的俯视图,包括内侧和外侧足弓结构,没有中足结构和其他特征。
50.图3是本发明的矫正器的顶部等轴视图,包括内侧和外侧足弓结构,没有中足结构和其他特征。
51.图4是本发明的矫正器的脚趾端视图,包括内侧和外侧足弓结构,没有中足结构和其他特征。
具体实施方式
52.图2中示出了本发明的矫正器。矫正器10大体上为与使用者的足部相对应的足部的形状,并且例如用于放置在使用者的鞋中。该矫正器包括具有顶侧14和底侧(下方;未示出)的基部。
53.矫正器10的顶侧上设置凸起的内侧足弓结构16,该内侧足弓结构位于对应于使用者足部的内侧纵向足弓或其部分的位置处。众所周知,凸起的内侧足弓结构通常设置在矫正器上,沿着对应于使用者足部的内侧足弓的线延伸,在足部的第一跖骨头部到足跟或跟骨的中心之间延伸。在该实施方案中,内侧足弓结构16位于以下位置:该位置对应于使用者足部的跟骨内侧的前部并延伸至第一跖骨基部。内侧足弓结构从矫正器的基部朝向矫正器的内侧周边26向上倾斜,并且包括围绕周边的半圆形弧,凸起结构在半圆弧处达到峰值高度;第一半圆形弧28位于对应于使用者足部的跟骨内侧的前部的位置处,第二半圆形弧30位于对应于使用者足部的舟骨的位置处。鉴于接近,半圆形弧被连结起来。在第一半圆形弧28处,凸起的内侧足弓结构16从基部到峰顶的高度约为25mm。
54.矫正器10的顶侧上还设置有凸起的外侧足弓结构18,该外侧足弓结构位于对应于使用者足部的外侧纵向足弓或其一部分的位置处。众所周知,凸起的外侧足弓结构通常设置在矫正器上,沿着对应于使用者足部的外侧足弓的线延伸,在足部的第五跖骨头部到足跟或跟骨的中心之间延伸。在该实施方案中,外侧足弓结构分别包括第一子结构22和第二子结构24。第一子结构22位于以下位置处,该位置对应于使用者足部的骰骨外侧的后部,并延伸至第五跖骨基部。第二子结构24位于以下位置:该位置对应于使用者足部的第五跖骨
区,并延伸至第五跖骨头部。在其他优选实施方案中,可以仅包括第一子结构22。外侧足弓结构从基部12朝向矫正器的外侧周边32向上倾斜,并且包括围绕周边的半圆形弧34,在半圆形弧34处凸起结构达到峰值高度,该半圆形弧34位于对应于使用者足部的骰骨外侧的后部的位置处。在半圆形弧34处,凸起的外侧足弓结构18从基部到峰顶的高度约为15mm。
55.矫正器10还包括平坦的中足部段20,该中足部段分别位于内侧足弓结构16和外侧足弓结构18之间的顶侧,并且在线44和45之间的区域中,位于对应于使用者足部的中足区域或其一部分的位置处。也就是说,在该区域中不存在设置在矫正器的基部上的结构。
56.该实施方案还包括在矫正器10的顶侧上的凸起的足跟结构36,该凸起的足跟结构位于以下位置处:该位置对应于使用者足部的跟骨内侧的前部,并且通过跟骨的后部围绕地延伸到使用者足部的骰骨外侧的后部。足跟结构在从使用者足部的跟骨的中心朝向矫正器的周边的方向上向上倾斜,从而形成一个“杯状物”,使用者足部的足跟可以适配在该杯状物中。足跟结构与内侧足弓结构16和外侧足弓结构18相交并结合在一起。足跟结构的高度统一为约10mm。
57.该实施方案还包括在矫正器10的顶侧上凸起的前足结构38,该前足结构位于以下位置处:该位置对应于使用者足部的第一跖骨头部并延伸至第一远侧趾骨的端部。高度约为4mm。还包括缩进的前足结构40,该缩进的前足结构40位于以下位置处:该位置对应于使用者足部的第五跖骨头部并延伸至第五远侧趾骨的端部。高度约为1-2mm。还包括第一跖骨凹痕42,该第一跖骨凹痕42位于矫正器顶侧、在对应于第一跖骨头部的位置处,以接收足部的内侧球。深度约为2mm。
58.应当理解,半足部实施方案是适用的,例如,如果矫正器10将终止于线44(线44位于大致对应于使用者足部的跗跖关节的位置)。
59.图3示出了矫正器10的相同实施方案。从该视角来看,凸起的内侧足弓结构的高度是清楚的,由第一半圆形弧28(位于对应于使用者足部的跟骨内侧的前部的位置处)和第二半圆形弧30(位于对应于使用者足部的舟骨的位置处)以及它们的倾斜和连体结构表示。类似地,凸起的外侧足弓结构的高度由第一子结构22(位于对应于使用者足部的外侧骰骨的后部并延伸至第五跖骨基部的位置)和第二子结构24(位于对应于使用者足部的第五跖骨区并延伸至第五跖骨头部的位置)表示。半圆形弧34也被指示为对应于使用者足部的骰骨外侧的后部。还可以看到凸起的足跟结构36(位于对应于使用者足部的跟骨内侧的前侧,并通过跟骨的后部围绕地延伸到使用者足部的骰骨外侧的后部的位置)包括“杯状物”的结构,使用者足部的足跟可以适配在其中。还示出了平坦的中足部段20(在内侧足弓结构和外侧足弓结构之间以及线44和45之间)、凸起的前足结构38(位于对应于使用者足部的第一跖骨头部的位置处并延伸到第一远侧趾骨的端部)、缩进的前足结构40(位于对应于使用者足部的第五跖骨头部的位置处,并延伸至第五远侧趾骨的端部)和第一跖骨凹痕42(位于矫正器的顶侧、在对应于第一跖骨头部的位置处,以接收足部的内侧球)。
60.图4示出了矫正器10的相同实施方案。从这个视角来看,清楚的是,平坦的中足部段20位于矫正器的顶侧(在内侧足弓结构和外侧足弓结构之间以及线44和45之间)、位于对应于使用者足部的中足区域或其一部分的位置处。也就是说,可以看到,在此区域中不存在设置在矫正器基部上的结构。还指示了凸起的足跟结构36、凸起的前足结构38、缩进的前足结构40和第一跖骨凹痕42。
61.应当理解,尤其是从图4的视角来看,外翻楔形物和内翻楔形物中的一个或两个都位于矫正器的顶侧、在对应于使用者足部的前足区域或其一部分的位置处。代表性的外翻楔形物被设想为向上倾斜至足部的外侧,而内翻楔形物被设想为向上倾斜至足部的内侧至约10mm的高度并以约6度的角度倾斜。内翻楔形物是特别优选的,其位于缩进的前足结构40的区域附近,尤其是当伴随有第一跖骨凹痕42时。
62.临床研究
63.附图中体现的和本文描述的矫正器10已经在涉及100多名患者的临床研究中进行了私下试验。
64.结果显示,98%的患者报告称比他们目前的设备具有高得多的舒适度。大多数患者还立即报告几乎没有不适,这表明矫正器不需要像澳大利亚足病协会建议的指南那样在长时间使用后逐渐佩戴。所有患者还报告称,在步态周期中体验了更大的活动自由度,并且伴随着姿势的改善。试验组中患有功能相关的腰痛的患者全都报告称,根据1到10的感知量表评估,他们的症状减轻了80%以上。同样,试验组中患有髋关节和膝关节疼痛的患者报告称,在1到10的感知量表上,症状减少了约85%。超过95%的患者还报告称足部和足跟疼痛减轻了。
65.临床研究的结果突出了以下矫正器的益处,该矫正器具有位于矫正器顶侧的凸起的内侧足弓结构和外侧足弓结构,特别是位于它们之间的平坦的中足部段。很明显,对于许多患者来说,中足区域的结构,尤其是中足区域后部的结构,会导致破坏绞盘效应,并在运动过程中阻碍力传递通过足部,从而引起不适、疼痛和不良姿势。本发明的矫正器避免了对绞盘效应的这种破坏和力传递阻碍,从而在步态周期期间允许最佳的力传递和功能效率。
66.最后,应当理解,在不脱离本文概述的本发明的原理的情况下,可以进行各种改变、修改和/或添加。
再多了解一些

本文用于企业家、创业者技术爱好者查询,结果仅供参考。

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