冷却装置及其制造方法与流程

1.本发明涉及一种冷却装置及其制造方法。冷却装置尤其涉及充注装置，借助该充注装置可以通过输出热量流实现被动冷却。这也称为辐射冷却。


背景技术：

2.为了代替传统的冷却解决方案如例如压缩冷却、吸收冷却或使用冷却水，由现有技术已知的是，借助所谓的辐射冷却来冷却表面。在此，利用根据现有技术的系统，使得由每个热体发出的黑体辐射能够如此发射，使得引起该体的冷却。尤其在此追求：如此提供在大气窗的波长范围内的辐射，在大气窗中，大气尤其对于红外辐射是可穿透的，使得相应地热量几乎又射出到宇宙空间中。
3.该原理已经在世界的多个领域中在晚上应用。
4.shanhui fan等的“nature 2014《在阳光直射下被动辐射冷却低于环境空气温度(passive radiative cooling below ambient airtemperature under direct sunlight)》”描述一种1.8μm的薄涂层，其中由二氧化硅和氧化铪组成的层交替并且在上侧上施加有高反射的银层。相应地可以通过银涂层反射入射的阳光，并且由二氧化硅和氧化铪组成的位于下方的层可以吸收在其下侧上出现的热并且又将该热以辐射的形式发出，其中，发出的辐射的波长范围位于8μm至13μm之间，即在用于该红外辐射的大气窗的范围中，使得热量可以进入地球大气中并且相应地几乎又发射到宇宙空间中。
5.由文献us 2017/0248381 a1已知一种结构，其中使设有玻璃球的塑料薄膜在真空中镀银，以便以这种方式施加涂层。
6.迄今已知的方案聚焦于提供涂层，该涂层例如可以施加到太阳能电池或玻璃上，以便可以以这种方式提高太阳能电池的效率或改善室内气候。
7.然而，为了制造有利的且以简单的方式在更大面积上待制成的冷却装置目前为止缺少方案。


技术实现要素：

8.基于已知的现有技术，本发明的任务在于，提供改善的冷却装置以及用于这样的冷却装置的简化的制造方法。
9.该任务通过具有权利要求1特征的冷却装置来解决。有利的扩展方案由从属权利要求、说明书以及附图得出。
10.相应地提出一种冷却装置，其包括基础衬底和布置在该基础衬底上的吸收确定波长范围的光的涂层。根据本发明，基础衬底是金属衬底。
11.通过以所述方式提供冷却装置可以给出一种简化的冷却装置，其通过在金属衬底上构造涂层提供对于邻接到金属衬底上的本体或邻接到金属衬底上的介质的特别好的热流动。
12.通过构造在金属衬底上还可以是，直接由冷却装置自身构成结构，例如所提出的
冷却装置用于构成冷却元件如例如用于介质冷却器/辐射器(radiator)的壳体。由冷却装置相应地也可以直接构成顶盖或者说顶元件，使得可以实现对位于其下的房屋或者说位于其下的空间进行冷却。
13.通过冷却装置构造在金属衬底上还可以实现，冷却装置本身能够特别简单地制造，如也由制造方法的如下描述所得到的那样。尤其可以实施冷却装置的可扩展的量产或者连续的制造，从而可以实现所提出的冷却装置更大量的成本低的制造。
14.此外可以特别鲁棒地提供所提出的冷却装置，使得该冷却装置可以毫无问题地用于外部区域中并且可以在多年经受天气影响且总是还可提供足够的冷却功率。在此应指出，由现有技术已知的塑料薄膜相比于所提出的冷却装置仅是受限地耐气候影响的，这可能导致较短的使用寿命。
15.优选地，金属衬底是金属板材和/或金属片和/或金属带，其中，金属板材和/或金属片和/或金属带优选地包括铝或铝合金或铁或铁合金、优选地钢或者铜或者铜合金，或者是铝板材或由铝合金制成的板材或者铁板材或由铁合金制成的板材或者铜板材或者由铜合金制成的板材。
16.这些金属由于其机械特性和可制造性和可处理性优选作为用于冷却元件的结构材料和构造材料。此外可以成本低地实现以这些材料大批量地制造冷却装置。
17.此外，金属衬底以聚合物和其他材料涂覆能够在量产运行中实现并且因此可扩展并成本低地实施。此外，经涂覆的金属衬底能够再处理为冷却元件和其它构件。
18.通过提供呈金属板材或金属片或金属带形式的金属衬底可以相应地构造一种结构，该结构本身已经机械稳定且相应地可用于构造构件、顶盖、冷却元件等。金属衬底为此可以例如已经以弯曲或几何构造的形式提供，如例如波纹板材结构。
19.此外，通过使用金属板材或金属片实现：可以简化地实现制造，该制造如由如下描述的制造方法那样产生。
20.优选地，在金属衬底与设置在其上的涂层之间布置有镜面，其中，镜面优选地至少在可见范围内波长的情况下、尤其在400nm至1200nm的范围内波长的情况下具有高反射率，其中，优选地构造为镜面的镀银在金属衬底与涂层之间直接布置在金属衬底上。
21.在金属衬底与涂层之间施加镜面能够实现可良好扩展的镜面化步骤，因为可以直接施加镜面到金属衬底上。这例如可以通过已知的和可扩展的镀银方法如例如使用电镀的镀银方法实现。相比于现有技术(其中在真空中进行费事的汽化渗镀)如此可以简化冷却装置的制造并使其可扩展。
22.此外通过布置在金属衬底与涂层之间而良好地保护镜面免受环境影响，使得冷却装置可以相应地构造为长期耐用的。相比于由现有技术已知的蒸发的塑料薄膜，因此得到对冷却装置的耐久性的改善。
23.通过提供在可见光的波长范围内的高度反射性能够尽可能地反射入射到冷却装置上的太阳光，使得该太阳光不再或不再显著地有助于冷却装置的发热。相应地，也可以在太阳照射下使用冷却装置，使得所提出的冷却装置尤其也适用于装配到屋顶等上。
24.优选地，涂层的透明度在可见范围内波长的情况下、尤其在400nm至1200nm的范围内波长的情况下为至少80％、优选地在90％以上且特别优选地在95％以上。
25.以这种方式可以实现入射到冷却装置上的太阳光透射涂层，然后在金属衬底上或
在反射层或者镜面上被反射，并且然后在重新穿过涂层之后被冷却元件继续反射。从而，冷却装置也可以在太阳光直接入射的情况下良好地使用。
26.优选地，涂层的吸收在对于红外射线可穿透的大气窗中的波长情况下、尤其在7μm至13μm波长的情况下为至少60％、优选地在80％以上、特别优选地在90％以上。
27.以这种方式，热(该热由金属衬底或由邻接于金属衬底的本体或者介质发出给金属衬底)的吸收和然后紧接着的发射在对于红外射线可穿透的大气窗的区域中又能够从冷却装置发射。以这种方式可以实现辐射冷却，因为在金属衬底中存在的热通过涂层的选择性吸收被接收，并且然后在大气窗的区域中几乎射出到宇宙空间中，使得热流动从冷却装置继续发生并且相应地使热从金属衬底射出。
28.以这种方式可以实现将金属衬底或邻接于该金属衬底的本体或介质保持在如下温度或者说达到如下温度：该温度位于环境温度以下。
29.优选地，涂层包括颗粒和聚合物或聚合物前体，优选地包括陶瓷颗粒和热塑性或热硬化的聚合物，其中，颗粒特别优选地包括二氧化硅或氧化铪，并且聚合物优选地包括聚甲基丙烯酸酯、聚甲基戊烯或聚甲基丙烯酸甲酯。
30.陶瓷颗粒在聚合物中的优选的混合比位于1％-15％(重量百分比)。
31.陶瓷颗粒优选地具有在1μm至10μm之间、特别优选地在7μm至13μm之间的平均颗粒大小(d50)。
32.以这种方式可以实现涂层和尤其涂层的陶瓷颗粒的上述性能、即在大气窗的波长范围内热或热辐射从金属衬底的吸收以及随后的发射。同时，陶瓷颗粒可以通过聚合物基体可靠地接合。聚合物基体的提供还导致涂层在可见光的波长范围内的透明度，使得可见光可以穿过涂层并且可以在边界面上朝向金属衬底反射。
33.优选地，颗粒和聚合物或聚合物前体在可见范围内波长的情况下、尤其在400nm至1200nm波长的情况下具有相同或相似的折射率，并且颗粒和聚合物或聚合物前体在大气窗中的波长的情况下、尤其在7μm至13μm波长的情况下优选地具有发散的折射率。
34.优选地，在400nm至1200nm的波长范围内，折射率发散小于10％、优选地小于5％。相比之下在7μm至13μm的波长范围内，折射率发散优选地大于20％、特别优选地大于40％。
35.以这种方式同样可以实现涂层的优选性能，即可见光穿过涂层直至金属衬底或直至布置在金属衬底上的反射层以及吸收和随后发射在红外范围内的辐射。
36.相应地，可以借助上述冷却装置在所有描述的变型和优选构型中实现如下辐射冷却，其中通过在红外范围中热的发射可以实现将热从金属衬底运走。
37.通过涂层的选择性吸收可以相应地实现热能通过冷却装置的选择性输出。
38.优选地，涂层具有压花，以便以这种方式进一步改善热辐射的吸收和发射。通过压花可以以简单的方式实现有效表面的增大。
39.优选地，在金属衬底与反射层之间布置另一金属层，其中，该金属层包括锌或锌合金或铝或铝合金或者锡或锡合金。以这种方式可以尤其为金属衬底提供腐蚀保护。
40.上面所提出的任务还通过具有权利要求10特征的用于制造冷却装置的方法来解决。优选的扩展方案由本说明书、附图以及从属权利要求得到。
41.相应地提出一种用于制造冷却装置的方法，该冷却装置优选地用于提供被动式辐射冷却，该方法包括如下步骤：提供金属衬底；准备金属衬底用于后续加工；以及给金属衬
底涂覆以吸收确定波长范围的光的涂层。
42.以这种方式可以简单地且针对批量生产制造冷却装置。
43.优选地，在涂层金属衬底之前在金属衬底上提供反射层，并且施加涂层到反射层上，其中，优选地通过施加镀银到金属衬底上而产生反射层。
44.施加反射层和尤其镀银特别优选地通过电镀或化学方法进行。在此，用于施加或涂覆反射层的电镀方法可特别好地扩展、成本低且灵活。尤其，在此能够非常好地控制沉积的材料的厚度；所述方法还可以在大气压力下和在简单的周围环境中实施；并且所述方法可以与用于制造冷却装置的其它方法步骤在一个连续的方法中组合。
45.由此，冷却装置的制造可以特别构造为可扩展的，并且能够实现所提出的冷却装置的量产。
46.在施加反射层之前，可以施加另外的涂层到金属衬底上。例如可以施加具有镀锌、带有铝的涂层或者镀锡(用于抗腐蚀和/或用于改善与反射层的相互作用和/或粘附)的钢衬底。
47.借助施加反射层实现上面已经对于冷却装置所说明的优点。
48.优选地，在涂覆之前在清洁装置中清洁金属衬底，和/或在涂覆之前在电解抛光装置中抛光金属衬底。
49.通过这样准备金属衬底而简化随后的加工，并且可以提供金属衬底的辅助光学特性的表面。
50.借助滚动施加装置可以特别简单地施加涂层到金属衬底的至少一侧上。涂层也可以优选地借助刮刀施加装置或挤出装置或层压装置施加到金属衬底的至少一侧上。
51.优选地，金属衬底以金属带的形式提供、优选地以铝带或钢带或铜带的形式提供，并且优选地设置连接装置，用于连接相继的金属带。
52.所提供的金属衬底优选地已经可以包括涂层如例如腐蚀保护，然后将反射层施加到该涂层上。
53.在一个优选的扩展方案中，以涂层涂覆的金属带在压花装置中设有压花。
54.优选地，金属衬底以经涂覆的金属带形式提供，优选地以具有锌涂层或具有锌合金的涂层、或者具有铝涂层或具有铝合金的涂层、或者具有锡涂层或具有锡合金的涂层、或者具有镁涂层或具有镁合金的涂层的带的形式提供。
附图说明
55.本发明的另外的优选实施方式通过附图的如下描述详细地阐述。附图示出了：
56.图1根据本公开的冷却装置的示意性截面图；
57.图2用于制造冷却装置和用于实施用于制造冷却装置的制造方法的制造路径的示意图；
58.图3用于制造冷却装置的替代制造方法的示意图；
59.图4a至4c用于制造冷却装置的另一替代制造方法的示意图；和
60.图5用于制造冷却装置的另一替代制造方法的示意图。
61.在下面根据附图描述优选的实施例。在此，相同、相似或相同作用的元件在不同附图中设有相同的附图标记，并且部分地省去对这些元件的重复描述，以便避免冗余。
具体实施方式
62.在图1中示出冷却装置100的示意性截面图，其中，冷却装置100包括金属衬底110，吸收确定波长范围的光的涂层200施加到该金属衬底上。
63.冷却装置100提供被动的辐射冷却。
64.涂层200可以包括聚合物基体210，在其中嵌入陶瓷颗粒220。
65.金属衬底110优选地涉及金属板材或金属片，在其上施加涂层200。金属板材或金属片可以特别优选地以铝结构或钢结构或铜结构的形式提供，例如以板材或片或金属带的形式。金属衬底的厚度优选地位于10μm至2mm之间、特别优选地在10μm至0.5mm之间。
66.陶瓷颗粒220例如可以以二氧化硅或氧化铪的形式提供，其中，陶瓷颗粒优选地具有在1μm至20μm之间、优选地在7μm至13μm之间的平均颗粒大小(d50)。
67.聚合物基体210例如可以是热塑性聚合物或热硬化的聚合物。优选的聚合物是聚甲基丙烯酸酯、聚甲基戊烯或聚甲基丙烯酸甲酯。
68.特别优选地，分别如此选择陶瓷颗粒220和聚合物基体210的折射率，使得在可见波长范围内、即在400nm至1200nm之间的范围内，陶瓷颗粒220和聚合物基体210的折射率基本上相同。
69.相比之下在其它波长范围内的其它区域中、尤其在大气窗(通过该大气窗，在红外范围中的能量可以发射到宇宙空间中)的范围内、尤其在7μm至13μm之间的波长范围内，陶瓷颗粒220和聚合物基体210的折射率优选是发散的并且特别优选地是极其不同的。在7μm至13μm波长范围内的强烈光扩散引起在该范围内期望的高发射率在图1所示的实施例中，在涂层200与金属衬底110之间设置有反射层120，该反射层例如可以以镜面的形式实现。在所示的实施例中，反射层120以镀银的形式提供，其中，镀银例如可以通过施加薄的镀银层提供。
70.镀银层优选地通过电镀提供。为了降低镀银层的制造成本，优选地提供小于10μm的层厚、特别优选地小于500nm的层厚的镀银层。
71.反射层120优选地如此构造，使得该反射层至少在可见波长范围内、即在400nm至1200nm之间提供高反射率。
72.通过所提出的冷却装置100能够实现：一方面在大气窗的范围内实现能量的提高的吸收和从而也实现提高的随后发射，使得可以提供辐射冷却，借助该辐射冷却可以将热能在大气窗的范围内发射到宇宙空间中，以便以这种方式实现辐射冷却。
73.此外，通过涂层200在可见范围内提高的透射同时如此产生入射到冷却装置100上的太阳光的反射，使得可见的太阳光穿过涂层200，然后到达反射层120上，以便然后又穿过涂层200被反射并且相应地由金属衬底110继续反射和从而也由冷却装置100继续反射。
74.相应地，热量(该热量应作为黑体辐射或者作为热辐射发出并且被引入到金属衬底110中)也可以在太阳入射时穿过大气窗发射，其中，通过太阳的可见光入射相应地不起作用或仅起次要作用。
75.通过陶瓷颗粒220并且尤其提供呈二氧化硅或氧化铪形式的陶瓷颗粒220可以将在金属衬底110上提供的热量从该金属衬底吸走并且该热量从陶瓷颗粒在大气窗的波长范围内又被输出。相应地，可以始终发生从金属衬底110发射热量。太阳入射的出现在此不引起热量供应到金属衬底110中或尤其供应到金属衬底110中。
76.由具有相应施加的涂层200的金属衬底110可以因此实现例如在构造顶盖或在构造热交换器的情况下将邻接到金属衬底110上的介质，例如空气或冷却介质保持在位于环境温度以下的一温度。以这种方式可以提供被动的辐射冷却。
77.通过使用金属衬底110可以由冷却装置100构造一种可承载的结构，例如在如下意义上自承载的结构，即由冷却装置100例如可以构造呈辐射器形式的冷却元件或呈顶盖或顶元件形式的冷却元件。基于金属衬底的使用，这样的元件可以直接由冷却装置弯曲或组成。该冷却装置本身可简单地处理并且可以通过与处理金属板材或金属片相同的方式被处理。尤其可以将冷却装置焊接、锯割、钻孔、磨削、粘接等，以便能够构造直接具有冷却装置的结构。
78.在图2中示意性地示出用于制造关于图1所描述的冷却装置的制造路径1。在下面在考虑通过字母标记的各个加工位置的情况下描述制造路径1。
79.在第一位置处提供展开装置a，具有缠绕的金属板材或金属带的卷30或者说“coil”可以被装载到该展开装置a中，并且通过该展开装置a可以将缠绕到该卷30上的金属板材展开，用于在制造路径1中的进一步使用。
80.在一个优选得实施方式中，该实施方式制造具有上述特征和优点的冷却装置100，可以提供例如呈铝板材形式的金属板材，该铝板材可以缠绕在卷30上地插入到展开装置a中并且相应地可以被展开装置a展开。
81.紧接着展开装置a在下游设置连接装置b，借助该连接装置b可以将之前的金属板材与紧接着的金属板材连接。这例如意味着，如果要实现连续的生产，并且相应地在完全处理之前的金属板材卷30(其已经插入在展开装置a中)之后要由展开装置a展开随后的金属板材卷30，并且相应地要将之前的金属板材卷30的末端与随后的卷30的始端连接。以这种方式可以通过添加金属条提供几乎连续不断的板材，由此相应地可以实现连续的制造过程。
82.在展开装置a中展开的金属带的末端与紧接着插入到展开装置a中的金属带的始端的连接例如可以通过将带末端与新的带始端焊接来实现。这样的连接装置b也称为缝合器/焊接器(sticher/welder)。
83.在紧接着的加工位置处设有清洁装置c，借助该清洁装置清洁由展开装置a展开的金属带10。在此，金属带10可以在清洁装置c中经过清洁池32，以便以这种方式实现金属带10的清洁。清洁例如可以实现金属带10的除尘和除油。以这种方式改善金属带10的反射能力，并且可以准备和改善随后的加工步骤如尤其是涂覆。
84.通过清洁金属带10也可以使金属带10的表面均质化，从而为涂层的耐久的质量以及进一步的加工步骤打下基础。
85.清洁池32例如可以以适合的酸形式和/或适合的表面活性剂形式和/或适合的碱形式和/或其它清洁介质形式提供，它们不但匹配于相应的金属带10的材料而且匹配于金属带10的预期的污染。金属带也可以相继地经过多个清洁池。
86.在所示的制造路径1的实施例中，紧接着清洁池32或者紧接着清洁装置c设置存储装置d，金属带10在构成回环12的情况下存储在该存储装置中。促成回环12的金属带12的回环形引导在存储装置d中通过滚轮34和配对滚轮36实现，其分别垂直于输送方向彼此隔开地布置。
87.相应地可以在存储装置d的区域中存储预给定长度的金属带10或者将其接收在回环12中，使得在如下情况下：在展开装置a中插入的卷30结束并且新的卷30被插入到展开装置a中，并且然后相应地应将之前的带的末端与新的带的始端在连接装置b中连接，尽管如此连续的带流在存储装置d之后可以通过以下方式实现，即在存储装置d的回环12中被回环形接收的金属带10可以连续地被引导至制造路径1的位于下游的区域中。
88.为此，在如下情况中：连接装置b必须将带末端与新的带始端连接，在连接装置b的区域中固定金属带10，并且将在回环12中缠绕的金属带10通过配对滚轮36运动到滚轮34上被释放而用于在下游的加工步骤。
89.在图2中在存储装置d中示出的多个回环12可以根据金属带10的流动速度并且根据在连接装置b的区域中的时间要求、利用更大数量的回环或者更少数量的回环以及两个相对置的滚轮34、36之间的更大的间距或者两个相继的滚轮34、36之间的更小的间距如此调设，使得在考虑相应的安全边界的情况下能够在正常的运行流程中确保金属带10在存储装置d下游的连续流动。
90.紧接着存储装置d提供电解抛光装置e，在该电解抛光装置中，从存储装置d输出的金属带10经过抛光池38，在该抛光池中发生电解抛光。电解抛光装置e中的电解抛光能够实现：还进一步改善金属带10的表面并且例如提供在电解抛光装置e中处理过的金属带10的表面上的高反射率。
91.电解抛光装置e中的电解抛光以本身已知的方式通过利用外部电流源电化学剥蚀方法进行。为此所使用的电解液相应地又如此与金属带10的材料相协调，使得在电解抛光装置e中实施电解抛光方法时达到以这种方式抛光的金属带10的期望结果。根据对于金属带10所使用的材料而定，要使用的电解液是不同的。
92.在电解抛光方法中，金属在金属带10的表面上在阳极处被剥蚀，使得呈金属带10形式的金属工件构成电化学电池的阳极。
93.紧接着电解抛光装置e，经清洁和抛光的金属带10被浸入在具有镀银池40的镀银装置f中并且在该镀银池中镀银。借助镀银装置f可以相应地将反射层施加到金属带10上。
94.镀银或反射层(其施加到金属带10上)又取决于金属带的材料特性。在镀银装置f中和在镀银装置f的镀银池40中，例如在一个优选实施例中，可以将金属带10浸入到银电解液，例如氰化银钾中，其中，然后通过在金属带10的表面上施加电压沉积出银镀层。换言之，使金属带10经受电镀，以便相应地获得由银组成的电镀层。
95.在通过电解抛光装置e抛光的金属带10的相应地高的表面品质的情况下也可以省去镀银的方法步骤。换言之，如果通过经清洁和抛光的金属带10提供的表面对于可见的太阳光已经足够地反射，则可以取消镀银。是否是这种情况也可以与用于金属带10的材料有关。
96.在紧接着镀银装置f的涂底漆装置g中，在金属带10的至少一侧上施加底漆，其中，在所示的实施例中，涂底漆装置g借助滚轮施加装置42提供，借助该滚轮施加装置可以将底漆施加到金属带10的在图2中所示的下侧上。
97.底漆用于改善在随后要施加的涂层与镜面化的金属带10之间的施加性能或粘附。在此也可以根据所使用的材料并且尤其根据在镀银装置f中所施加的材料如此选择底漆，使得随后施加涂层能够变得简单。
98.紧接着涂底漆装置g设置硬化装置h，借助该硬化装置使之前施加的底漆硬化。这例如可以通过以下方式实现，即在硬化装置h中设置硬化炉44，使得可以实现底漆的热硬化。
99.紧接着硬化装置h，现在经镜面化和至少在一侧上设有硬化的底漆的金属带10然后经过涂层装置i，在该涂层装置i中借助另一滚轮施加装置46施加涂层到金属带10的设有镜面和底漆的一侧上。
100.在涂层装置i中借助滚轮施加装置46施加到金属带上的涂层例如可以是陶瓷颗粒如二氧化硅颗粒(sio2)和热硬化的聚合物前体的混合物。
101.优选地，聚合物和陶瓷颗粒在可见的波长范围内具有相似的折射率，相比之下，这些材料在大气窗的范围内、即在8至10微米之间的波长范围内的折射率优选地明显不同。
102.紧接着涂层装置i，设有涂层的金属带10经过涂层硬化装置j，在该涂层硬化装置中例如设置硬化炉48。换言之，在涂层装置i中设有涂层的金属带10现在经过硬化炉48，涂层和尤其聚合物可以借助该硬化炉硬化。
103.紧接着涂层硬化装置j可以设置压花装置k，该压花装置k借助两个压花辊50施加压花到设有涂层的金属带10上。
104.通过施加相应的结构化部可以进一步改善呈设有涂层的金属带10形式的冷却装置的冷却功率并且表面的光学特性可以由此匹配于相应的应用情况。出口存储装置l又用于现在将经涂覆的金属带10环绕滚轮52和配对滚轮54形成回环14，以便可以在连续的过程中接收金属带10，如果在随后的缠绕装置n中完全缠绕一个带卷58，并且该带卷58又必须从缠绕装置n取下，以便为新的卷58提供空间。
105.当在缠绕装置n中达到卷58的期望卷厚度或者说期望长度的带缠绕到卷58上时，为了分离金属带10而设置分离装置m，该分离装置m能够利用相应的刀具56实现金属带10的切断。
106.借助制造路径1相应地能够实现，将金属带由展开装置a引导通过清洁池、抛光池和镀银池，以便随后使金属带10的至少一侧设有涂层。该涂层具有如下选择性的吸收，即涂层在例如7-13微米波长的大气窗中具有在60％以上、优选地在80％以上、特别优选地在90％以上的吸收。同时涂层在400nm至1200nm之间的可见波长范围内的透明度在80％以上、优选地在90％以上、特别优选地在95％以上。
107.以这种方式可以实现：在可见范围内的光在镜面上被反射，相比之下，在大气窗的范围内的光被涂层吸收并且然后又被发射。
108.在制造路径1中可以相应地连续并且几乎以无限长的形式制造以这种方式制造的冷却装置100。相应地可以是，由借助制造路径1制造的冷却装置1一体地制造非常不同的设计尺寸的结构。此外可以实现廉价的批量生产，借助该批量生产可以广泛地使用冷却装置。
109.在图3所示的替代构型中，代替关于图2所描述的金属带的连续制造现在也可以涂覆在图3中的单个金属片14。
110.在此例如在第一步骤中进行预处理a
‘
并且例如在滚动台60上运送并清洁并预处理未经涂覆的金属片14。例如也可以抛光或电解抛光金属片14。紧接着也可以进行反射层的施加。
111.在第二步骤中然后进行涂覆b
‘
，其中，涂层借助滚轮施加装置46施加到金属片14
的一侧上。涂层可以是已经关于图2所描述的由热硬化的聚合物或热硬化的聚合物基体与例如呈二氧化硅形式的陶瓷颗粒的混合物。
112.在步骤b中涂覆之后，然后设有涂层的金属片14为了硬化c被带到硬化炉48中，以便在那里类似于图2所描述的那样进行硬化。
113.在另一实施方式中，代替用于涂层热硬化的聚合体或者说热硬化的聚合物基体也可以施加热塑性聚合体，其与陶瓷颗粒混合。
114.该热塑性的聚合物可以如例如在图4a中所示的那样在热熔化状态下施加到在预处理a“中被预处理的金属带10上用于涂覆b“，其中，聚合物然后或者可以被涂抹、被喷射，金属带可以被浸入到热聚合物中，或者聚合物可以被挤出。
115.以这种方式施加的热塑性聚合物然后可以通过冷却而硬化c“，例如通过通风机62冷却或通过在图4b中所示的冷却滚轮64，或者通过喷射来自冷却喷嘴66的冷却介质，如在图4c中所示的那样。
116.在另一优选的实施方式中，如在图5中所示地，可以将已经准备的涂层薄膜70层压到准备的金属带10上。金属带10可以在涂层薄膜70的层压之前被清洁、抛光和设有反射层。
117.涂层薄膜70在此与金属带10优选地在层压辊72中如此接合在一起，使得该涂层薄膜70通过辊压步骤或另一机械接合与金属带10可靠地连接。
118.涂层薄膜70可以已经以这种方式预制造并且相应地同样包括聚合物基体，在该聚合物基体中引入陶瓷颗粒。
119.为了改善聚合物涂层的稳定性和耐久性，也可以实施将金属带10或金属片14与聚合物层化的多个步骤，从而相应地将聚合物的多个相继施加的层与金属带连接。
120.在另一有利的实施方案中，聚合物的硬化例如也可以通过用紫外光照射实现。
121.只要可应用，所有各个在各实施例中所示的特征可以相互组合和/或更换，而不会脱离本发明的保护范围。
122.附图标记列表
[0123]1ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
制造路径
[0124]
10
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
金属带
[0125]
12
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
回环
[0126]
14
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
金属片
[0127]
100
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
冷却装置
[0128]
110
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
金属衬底
[0129]
120
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
反射层
[0130]
200
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
涂层
[0131]
210
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
聚合物基体
[0132]
220
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
陶瓷颗粒
[0133]
30
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
卷
[0134]
32
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
清洁池
[0135]
34
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
滚轮
[0136]
36
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
配对滚轮
[0137]
38
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
抛光池
[0138]
40
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
镀银池
[0139]
42
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
滚轮施加装置
[0140]
44
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
硬化炉
[0141]
46
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
滚轮施加装置
[0142]
48
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
硬化炉
[0143]
50
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
压花辊
[0144]
52
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
滚轮
[0145]
54
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
配对滚轮
[0146]
56
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
刀具
[0147]
58
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
卷
[0148]
60
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
滚动台
[0149]
62
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
通风机
[0150]
64
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
冷却滚轮
[0151]
66
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
冷却喷嘴
[0152]
70
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
涂层薄膜
[0153]
72
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
层压辊
[0154]aꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
展开装置
[0155]bꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
连接装置
[0156]cꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
清洁装置
[0157]dꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
存储装置
[0158]eꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
电解抛光装置
[0159]fꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
镀银装置
[0160]gꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
涂底漆装置
[0161]hꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
硬化装置
[0162]iꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
涂层装置
[0163]jꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
涂层硬化装置
[0164]kꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
压花装置
[0165]
l
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
出口存储装置
[0166]mꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
分离装置
[0167]nꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
缠绕装置
[0168]a‘
、a
“ꢀꢀ
预处理
[0169]b‘
、b
“ꢀꢀ
涂层
[0170]c‘
、c
“ꢀꢀ
硬化