一种形状记忆材料及其制备方法和应用

技术特征：
1.一种形状记忆材料的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：将聚乙烯-乙烯醇共聚物、单宁酸和有机溶剂混合，加热，得到混合液；将所述混合液和六亚甲基二异氰酸酯混合后，依次进行成膜和固化，得到聚合物薄膜；将所述聚合物薄膜在三氯化铁水溶液中进行浸泡，得到形状记忆聚合物层；在所述形状记忆聚合物层的表面制备有机硅胶层，得到所述形状记忆材料。2.如权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述聚乙烯-乙烯醇共聚物和单宁酸的质量比为1：(0.025～0.1)。3.如权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述加热的温度为90℃，时间为5h。4.如权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述聚乙烯-乙烯醇共聚物和六亚甲基二异氰酸酯的质量比为1：(0.1～0.2)。5.如权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述固化的温度为80℃，时间为12h。6.如权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述三氯化铁水溶液的浓度为0.1～0.2mol/l；所述浸泡的次数为3次，每次浸泡的时间为12～24h。7.权利要求1～6任一项所述的制备方法制备得到的形状记忆材料，其特征在于，包括形状记忆聚合物层和有机硅胶层；所述形状记忆聚合物层包括聚合物和分散在所述聚合物中的络合物；所述络合物为三价铁离子与单宁酸的络合物；所述聚合物为聚乙烯-乙烯醇共聚物与六亚甲基二异氰酸酯形成的聚合物。8.如权利要求7所述的形状记忆材料，其特征在于，所述形状记忆聚合物层的厚度为0.08mm，所述有机硅胶层的厚度为1.20mm。9.如权利要求7所述的形状记忆材料，其特征在于，所述聚合物中的聚乙烯-乙烯醇共聚物和络合物中的单宁酸的质量比为1：(0.025～0.1)。10.权利要求7～9任一项所述的形状记忆材料在智能响应领域中的应用。

技术总结
本发明涉及智能响应材料技术领域，尤其涉及一种形状记忆材料及其制备方法和应用。本发明提供了一种形状记忆材料的制备方法，包括以下步骤：将聚乙烯-乙烯醇共聚物、单宁酸和有机溶剂混合，加热，得到混合液；将所述混合液和六亚甲基二异氰酸酯混合后，依次进行成膜和固化，得到聚合物薄膜；将所述聚合物薄膜在三氯化铁水溶液中进行浸泡，得到形状记忆聚合物层；在所述形状记忆聚合物层的表面制备有机硅胶层，得到所述形状记忆材料。利用所述制备方法制备得到的形状记忆材料同时具有近红外光响应能力、多形状记忆性能和双向形状记忆性能。能。能。


技术研发人员：李裕琪 谢熙 白永康 徐旭 阮红 陆绍荣
受保护的技术使用者：桂林理工大学
技术研发日：2022.03.25
技术公布日：2022/5/16