用于DAX光栅的稳定顶部桥制造的制作方法

技术特征：
1.一种用于产生成像装置的x射线光栅的方法(100)，所述成像装置用于x射线暗场成像和/或x射线相衬成像，所述方法包括以下步骤：a)在平坦样本(16)上产生(110)具有多个周期性布置的光栅网(12)和光栅开口(14)的抗蚀剂负光栅(10)；b)通过以下操作通过电镀来填充(120)所述平坦样本上的所述光栅开口：持续进行所述电镀直到所述光栅网的高度以形成光栅薄片(18)；c)在所述抗蚀剂负光栅的顶部(22)上处理(130)窗体(26)，所述窗体使得能够引入实质上垂直于所述光栅网的顶部桥(24)；d)使所述抗蚀剂负光栅弯曲(140)到期望半径；并且e)通过电镀来填充(150)所述窗体以在使所述抗蚀剂负光栅弯曲之后形成所述顶部桥。2.根据权利要求1所述的方法，还包括：-在执行所述电镀之后移除所述光栅薄片之间的所述抗蚀剂负光栅。3.根据权利要求1或2所述的方法，其中，在步骤d)中，提供允许使所述抗蚀剂负光栅精确弯曲到所述期望半径的框架。4.根据权利要求3所述的方法，其中，所述框架的所述弯曲半径与所述成像装置中靠近于x射线管的安装位置兼容。5.根据权利要求3或4所述的方法，其中，所述框架是非导电材料的，或者所述框架完全由非导电材料覆盖。6.根据前述权利要求中的任一项所述的方法，其中，步骤e)还包括选择用于所述电镀的温度，其中，选定的温度被选择为使得在所述成像装置中的所述x射线光栅的操作条件下，所述x射线光栅的几何结构变化和/或机械应力最小或接近最小。7.根据前述权利要求中的任一项所述的方法，其中，所述顶部桥被成形为使得在所述成像装置中的所述x射线光栅的操作条件下，由于所述顶部桥造成的机械应力最小或接近最小。8.根据前述权利要求中的任一项所述的方法，其中，所述顶部桥和所述光栅薄片是由相同材料造出的。9.根据权利要求1至7中的任一项所述的方法，其中，所述光栅薄片是以高x射线吸收材料来电镀的；并且其中，所述顶部桥是以低x射线吸收材料来电镀的。10.根据前述权利要求中的任一项所述的方法，其中，所述抗蚀剂负光栅包括用于使所述网稳定的多个稳定结构。11.根据权利要求10所述的方法，其中，所述稳定结构包括桥结构和/或太阳光线结构。12.根据前述权利要求中的任一项所述的方法，其中，步骤d)中的所述弯曲是正弯曲或负弯曲。13.一种由根据权利要求1所述的方法产生的微结构。14.一种用于捕获对象的图像的成像装置(200)，包括：
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x射线源(210)；-源光栅(g0)；-衍射光栅(g1)，其用于使从所述x射线源发射的x射线衍射；-吸收光栅(g2)，其用于吸收由所述衍射光栅衍射的所述x射线的部分；以及-探测器(220)，其用于探测已经穿过所述吸收光栅的所述x射线；其中，所述源光栅、所述衍射光栅和所述吸收光栅中的至少一项包括根据权利要求13所述的微结构。15.一种用于执行x射线相衬和/或暗场成像的方法(300)，包括：-将对象(50)定位(310)在根据权利要求14所述的成像装置的所述源光栅(g0)与所述衍射光栅(g1)之间或者所述衍射光栅(g1)与所述吸收光栅(g2)之间；-将x射线射束(52)发射(320)到所述对象上；并且-探测(330)已经穿过所述对象、所述成像装置的所述源光栅、所述衍射光栅和所述吸收光栅的所述x射线射束以用于采集图像数据。

技术总结
为了改进用于X射线暗场成像和/或X射线相衬成像的具有顶部桥的X射线光栅的机械稳定性，提出了通过制造过程的变化来减少或防止顶部桥上的不期望的高应力。具体地，提出了在弯曲之后对顶部桥进行电镀。换言之，在弯曲的几何结构上执行对顶部桥的电镀。何结构上执行对顶部桥的电镀。何结构上执行对顶部桥的电镀。


技术研发人员：T
受保护的技术使用者：皇家飞利浦有限公司
技术研发日：2020.08.18
技术公布日：2022/5/10