技术特征：
1.一种清洁装置的抹布机构，其特征在于，所述抹布机构包括：导轨，所述导轨沿竖向设置于所述清洁装置的底部；抹布组件，所述抹布组件可上下滑动地设置于所述导轨；与所述清洁装置的控制器电连接的直线驱动装置，所述直线驱动装置的输出端的顶部设置有斜坡，所述抹布组件的底部设置有与所述斜坡配合的滚轮，所述控制器通过所述直线驱动装置驱动所述斜坡相对所述滚轮移动的方式控制所述抹布组件沿所述导轨升降。2.根据权利要求1所述的清洁装置的抹布机构，其特征在于，所述直线驱动装置包括电机、齿轮和齿条，所述齿轮设置于所述电机的枢转轴，所述齿条的侧壁与所述齿轮啮合，所述斜坡设置于所述齿条的顶部。3.根据权利要求1所述的清洁装置的抹布机构，其特征在于，所述斜坡的底部和顶部均设置有放置台，且所述斜坡与所述放置台之间设置有弧形过渡角。4.根据权利要求2所述的清洁装置的抹布机构，其特征在于，所述抹布组件包括转动盘、设置于所述转动盘的底部的抹布以及驱动所述转动盘的驱动装置，所述滚轮设置于所述驱动装置的底部。5.根据权利要求4所述的清洁装置的抹布机构，其特征在于，所述抹布机构还包括设置于所述清洁装置的底部的底板，所述底板设置有与所述抹布组件配合的升降口，所述转动盘和所述抹布在所述升降口处伸出所述底板的外部。6.根据权利要求5所述的清洁装置的抹布机构，其特征在于，所述底板设置有与所述齿条的底部接触的滑轮，所述电机驱动所述齿条沿所述滑轮滑动。7.根据权利要求5所述的清洁装置的抹布机构，其特征在于，所述底板上设置有沿所述升降口的周向分布的多个所述导轨，所述抹布组件的周边设置有与多个所述导轨一一配合的多个滑轨。8.根据权利要求7所述的清洁装置的抹布机构，其特征在于，所述导轨套设有与所述滑轨连接的弹性元件，所述弹性元件与所述直线驱动装置配合驱动所述滑轨沿所述导轨升降，且所述滑轨能够通过所述弹性元件沿所述导轨上下浮动。9.根据权利要求1至8中任一项所述的清洁装置的抹布机构，其特征在于，所述抹布机构包括多个所述抹布组件，所述抹布机构还包括与多个所述抹布组件一一配合的多个所述直线驱动装置。10.一种清洁装置，其特征在于，所述清洁装置包括根据权利要求1至9中任一项所述的清洁装置的抹布机构，所述清洁装置根据所处的待清洁面的类型控制所述抹布组件的升降。
技术总结
本实用新型具体涉及一种清洁装置的抹布机构及具有其的清洁装置。本实用新型旨在解决现有清洁装置无法根据具体的清洁环境有效控制抹布升降的技术问题。为此目的，本实用新型提供了一种清洁装置的抹布机构，抹布机构包括：导轨，导轨沿竖向设置于清洁装置的底部；抹布组件，抹布组件可上下滑动地设置于导轨；与清洁装置的控制器电连接的直线驱动装置，直线驱动装置的输出端的顶部设置有斜坡，抹布组件的底部设置有与斜坡配合的滚轮，控制器通过直线驱动装置驱动斜坡相对滚轮移动的方式控制抹布组件沿导轨升降。本实用新型提供的抹布机构能够通过直线驱动装置的输出端的斜坡与抹布组件的滚轮配合来控制抹布组件的升降，提高抹布升降过程中的顺畅性。抹布升降过程中的顺畅性。抹布升降过程中的顺畅性。
技术研发人员：蒋育江 王兆光 高鑫 陈奇 徐良通 徐小伟 朱坤鹏 张哲 丁铁
受保护的技术使用者：美智纵横科技有限责任公司
技术研发日：2022.01.07
技术公布日：2022/5/10
再多了解一些
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