显示基板及其制备方法、显示装置与流程

技术特征：

1.一种显示基板，其特征在于，包括显示区域以及位于所述显示区域外围的周边区域，在所述周边区域设置有阻挡坝以及至少一个阻挡柱；

所述显示基板包括衬底基板、以及设置在所述衬底基板上的发光结构层和封装结构层，所述封装结构层位于所述发光结构层远离所述衬底基板的一侧，所述发光结构层包括阴极，所述封装结构层包括有机封装层；

所述至少一个阻挡柱位于所述阴极与所述阻挡坝之间，所述至少一个阻挡柱在所述衬底基板上的正投影位于所述有机封装层在所述衬底基板上的正投影的范围内。

2.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述至少一个阻挡柱形成围绕所述显示区域的至少一个封闭环。

3.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述周边区域设置多个阻挡柱，所述多个阻挡柱沿远离所述显示区域的方向依次排布。

4.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述阻挡柱的横截面设置为倒梯形。

5.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述阻挡柱的个数小于或等于10。

6.根据权利要求2所述的显示基板，其特征在于，所述阻挡柱包括多个子阻挡柱，相邻子阻挡柱之间存在间隔，所述多个子阻挡柱环绕所述显示区域。

7.根据权利要求6所述的显示基板，其特征在于，所述至少一个阻挡柱包括：沿远离所述显示区域的方向依次排布的第一阻挡柱、第二阻挡柱和第三阻挡柱，在沿远离所述显示区域的方向上，第一阻挡柱的子阻挡柱与第三阻挡柱的子阻挡柱对齐，第一阻挡柱的子阻挡柱之间的间隔与第二阻挡柱的子阻挡柱对齐。

8.根据权利要求6所述的显示基板，其特征在于，所述子阻挡柱包括主体部和自所述主体部向所述显示区域一侧延伸的凸出部。

9.根据权利要求8所述的显示基板，其特征在于，所述至少一个阻挡柱包括沿远离所述显示区域的方向依次排布的第四阻挡柱和第五阻挡柱，第五阻挡柱的子阻挡柱的凸出部面向第四阻挡柱的子阻挡柱之间的间隔。

10.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述阻挡柱靠近所述显示区域一侧的表面与所述阻挡柱远离所述显示区域一侧的表面之间的最远距离设置为1微米至7微米；所述阻挡柱的远离所述衬底基板的表面与靠近所述衬底基板的表面之间的距离设置为0.5微米至5微米。

11.根据权利要求1至10中任意一项所述的显示基板，其特征在于，所述显示基板还包括像素平坦层，所述像素平坦层位于所述发光结构层靠近所述衬底基板的一侧，所述至少一个阻挡柱在所述衬底基板上的正投影与所述像素平坦层在所述衬底基板上的正投影部分交叠。

12.一种显示基板的制备方法，其特征在于，包括：

在显示区域的衬底基板上形成发光结构层、在周边区域的衬底基板上形成阻挡坝和至少一个阻挡柱；所述发光结构层包括阴极，所述至少一个阻挡柱位于所述阴极与所述阻挡坝之间；

在形成上述结构的显示基板上形成封装结构层，所述至少一个阻挡柱在所述衬底基板上的正投影位于所述封装结构层的有机封装层在所述衬底基板上的正投影的范围内。

13.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求1至11中任意一项所述的显示基板。

技术总结
一种显示基板及其制备方法、显示装置。显示基板包括：显示区域以及位于显示区域外围的周边区域，在周边区域设置有阻挡坝以及至少一个阻挡柱；显示基板包括衬底基板、以及设置在衬底基板上的发光结构层和封装结构层，封装结构层位于发光结构层远离衬底基板的一侧，发光结构层包括阴极，封装结构层包括有机封装层，至少一个阻挡柱位于阴极与阻挡坝之间，至少一个阻挡柱在衬底基板上的正投影位于有机封装层在衬底基板上的正投影的范围内。

技术研发人员：何庆;蒋志亮;龙再勇;陈敏;王格;袁晓敏;燕青青;潘向南;
受保护的技术使用者：京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司;
技术研发日：2022.01.28
技术公布日：2022.05.03