一种电子电镀含氰废水的处理装置的制作方法

技术特征：
1.一种电子电镀含氰废水的处理装置，其特征在于，包括调配池、反应络合池、沉淀池、碱液罐、一级氧化剂罐和加药罐；该反应络合池包括一池体，该池体沿一水平轴线方向延伸，在该池体内设置有至少两块溢流板，该至少两块溢流板与水平轴线相垂直、且沿该水平轴线方向间隔设置，各溢流板的底部密封地连接在池体的池底，且各溢流板的顶部均低于池体的顶部，使溢流板的顶部形成溢流部；沿该水平轴线方向，各溢流板将池体的内腔分割为若干个反应腔；沿该水平轴线方向，将位于池体两端的反应腔分别称为首级反应腔和末级反应腔；在每个反应腔内均设置有一折流板，折流板的顶部与池体的顶部等高，折流板的底部与池体底面之间具有距离；折流板将反应腔分割为进水腔和出水腔，沿池体内废水的流动方向，其中进水腔位于出水腔的上游侧，在折流板的下端设置有呈通孔状的过流孔，该过流孔连通进水腔和出水腔；废水泵的进口经进水管连通调配池，废水泵的出口经出水管连通反应络合池的首级反应腔，反应络合池的末级反应腔经自流管连通沉淀池；该碱液罐和一级氧化剂罐均连接到该进水管上，该加药罐连通首级反应腔，该加药罐用于添加硫酸亚铁溶液；沉淀池的底部经污泥泵连通压滤机。2.根据权利要求1所述的处理装置，其特征在于，还包括二级氧化剂罐和硫酸罐，该二级氧化剂罐和硫酸罐均连通反应络合池的中间部。3.根据权利要求1所述的处理装置，其特征在于，对应于每个反应腔，在池体的底部均设置有一向下凹陷的沉泥槽，折流板的底部向下伸入到沉泥槽内，且折流板与沉泥槽的底面之间具有距离；在每个沉泥槽的底部均设置有一出泥孔，该出泥孔经污泥泵连通压滤机。4.根据权利要求1所述的处理装置，其特征在于，在出水管上安装有静态混合器。5.根据权利要求1所述的处理装置，其特征在于，还包括一膜过滤器，沉淀池经过滤泵连通膜过滤器的进水口，膜过滤器的浓水出口连通反应络合池的中间部。

技术总结
本申请公开了一种电子电镀含氰废水的处理装置，其包括调配池、反应络合池和沉淀池；反应络合池包括池体和设置在池体内的溢流板，溢流板将池体的内腔分割为反应腔；位于池体两端的反应腔分别称为首级反应腔和末级反应腔；在反应腔内设置有将反应腔分割为进水腔和出水腔的折流板，在折流板的下端设置有连通进水腔和出水腔的过流孔；废水泵的进口经进水管连通调配池，出口连通首级反应腔，末级反应腔连通沉淀池；碱液罐和一级氧化剂罐均连接到进水管上，加药罐连通首级反应腔，沉淀池的底部经污泥泵连通压滤机。本申请取消沉淀池内污泥返回反应络合池的结构，使部分污泥保持在反应络合池内，延长污泥在反应络合池的时间，提高药剂的利用效率。的利用效率。的利用效率。


技术研发人员：孙朋飞 徐徐 高丽 王苏琴
受保护的技术使用者：江苏力波兴水务科技有限公司
技术研发日：2021.12.10
技术公布日：2022/4/29