掩膜版的套刻补偿参数的确定方法及装置、终端与流程

技术特征：
1.一种掩膜版的套刻补偿参数的确定方法，其特征在于，包括：在第一掩膜版上确定多个定位点，并获取每一个定位点在所述第一掩膜版的位置，所述多个定位点的数量不小于一预设数量；确定所述多个定位点中的每一个定位点在第二掩膜版的位置；基于每一个定位点，确定该定位点在所述第一掩膜版与所述第二掩膜版上所形成的偏差向量；基于所述多个定位点在所述第二掩膜版的位置，计算套刻补偿参数偏差值；根据所述第一掩膜版的套刻补偿参数以及所述套刻补偿参数偏差值，确定所述第二掩膜版的套刻补偿参数；其中，所述第一掩膜版和第二掩膜版中的定位点一一对应且具有相同的设计位置。2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，基于所述多个定位点在所述第二掩膜版的位置，计算套刻补偿参数偏差值包括：将所述多个定位点的第二坐标以及对应的偏差向量代入套刻补偿公式，以计算所述套刻补偿参数偏差值，其中，所述第二坐标为每一个定位点在所述第二掩膜版的坐标。3.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于，所述套刻补偿参数选自以下一项或多项：用于表示晶圆与掩膜版之间的水平或垂直位移的第一参数；用于表示晶圆微观形变引起的放大系数的第二参数；用于表示掩膜版微观形变引起的放大系数的第三参数；用于表示晶圆对准时的角度偏移或转角的第四参数；用于表示掩膜版引起的角度偏移或转角的第五参数。4.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述套刻补偿公式为至少包含n个多元方程的方程组，其中，n为套刻补偿参数的数量；其中，所述多元方程中含有未知数的项选自以下一项或多项：用于表示所述第二掩膜版与第一掩膜版之间的第一参数的差值在x、y方向的分量；用于表示所述第二掩膜版与第一掩膜版之间的第二参数的差值在x、y方向的分量分别与该定位点在第二掩膜版中的第二坐标在x方向的分量的乘积；用于表示所述第二掩膜版与第一掩膜版之间的第三参数的差值在x方向的分量与该定位点在第二掩膜版中的第二坐标在x方向的分量的乘积；用于表示所述第二掩膜版与第一掩膜版之间的第三参数的差值在y方向的分量与该定位点在第二掩膜版中的第二坐标在y方向的分量的乘积；用于表示第二掩膜版与第一掩膜版之间的第四参数的差值在x、y方向的分量分别与该定位点在第二掩膜版中的第二坐标在y方向的分量的负数的乘积；用于表示所述第二掩膜版与第一掩膜版之间的第五参数的差值在x方向的分量与该定位点在第二掩膜版中的第二坐标在y方向的分量的负数的乘积；用于表示所述第二掩膜版与第一掩膜版之间的第五参数的差值在y方向的分量与该定位点在第二掩膜版中的第二坐标在x方向的分量的负数的乘积。5.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，n等于5；每5个定位点中的第二坐标以及对应的偏差向量代入下述五元一次方程的套刻补偿公
式，确定一组套刻补偿参数偏差值：
△
x
no
＝
△
t
x

△
m
x
×
x
a
‑△
r
x
×
y
a

△
m
x
×
x
a
‑△
r
x
×
y
a
△
y
no
＝
△
t
y

△
m
y
×
x
a
‑△
r
y
×
y
a

△
m
y
×
y
a
‑△
r
y
×
x
a
其中，
△
x
no
以及
△
y
no
用于表示单个定位点的第二坐标与第一坐标的偏差向量在x、y方向的分量，其中，所述第一坐标为每一个定位点在所述第一掩膜版的坐标；x
a
以及y
a
用于表示该定位点在第二掩膜版中的第二坐标；
△
t
x
以及
△
t
y
用于表示所述第二掩膜版与第一掩膜版之间的第一参数的差值在x、y方向的分量；
△
m
x
以及
△
m
y
用于表示所述第二掩膜版与第一掩膜版之间的第二参数的差值在x、y方向的分量；
△
m
x
以及
△
m
y
用于表示所述第二掩膜版与第一掩膜版之间的第三参数的差值在x、y方向的分量；
△
r
x
以及
△
r
y
用于表示所述第二掩膜版与第一掩膜版之间的第四参数的差值在x、y方向的分量；
△
r
x
以及
△
r
y
用于表示所述第二掩膜版与第一掩膜版之间的第五参数的差值在x、y方向的分量。6.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，基于所述多个定位点在所述第二掩膜版的位置，计算套刻补偿参数偏差值包括：采用每n个定位点确定一组套刻补偿参数偏差值；对各组套刻补偿参数偏差值中的同一个套刻补偿参数偏差值取平均值或者取中位数，以作为所述套刻补偿参数偏差值的最优解；其中，n为套刻补偿参数的数量。7.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述第一掩膜版与所述第二掩膜版的图案密度的差值小于预设密度阈值。8.根据权利要求1或7所述的方法，其特征在于，所述第二掩膜版是基于所述第一掩膜版对应的设计修改后重新制作的掩膜版。9.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，根据所述第一掩膜版的套刻补偿参数以及所述套刻补偿参数偏差值，确定所述第二掩膜版的套刻补偿参数包括：计算所述第一掩膜版的套刻补偿参数以及所述套刻补偿参数偏差值的和；将所计算的和作为所述第二掩膜版的套刻补偿参数。10.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述定位点选自预设的定位图形的中心点。11.根据权利要求10所述的方法，其特征在于，所述定位图形选自：矩形以及空心十字形。12.一种掩膜版的套刻补偿参数的确定装置，其特征在于，包括：第一位置确定模块，用于在第一掩膜版上确定多个定位点，并获取每一个定位点在所述第一掩膜版的位置，所述多个定位点的数量不小于一预设数量；第二位置确定模块，用于确定所述多个定位点中的每一个定位点在第二掩膜版的位置；偏差向量确定模块，用于基于每一个定位点，确定该定位点在所述第一掩膜版与所述
第二掩膜版上所形成的偏差向量；偏差值确定模块，用于基于所述多个定位点在所述第二掩膜版的位置，计算套刻补偿参数偏差值；套刻补偿参数确定模块，用于根据所述第一掩膜版的套刻补偿参数以及所述套刻补偿参数偏差值，确定所述第二掩膜版的套刻补偿参数；其中，所述第一掩膜版和第二掩膜版中的定位点一一对应且具有相同的设计位置。13.一种计算机可读存储介质，其上存储有计算机程序，其特征在于，所述计算机程序被处理器运行时执行权利要求1至11任一项所述掩膜版的套刻补偿参数的确定方法的步骤。14.一种终端，包括存储器和处理器，所述存储器上存储有能够在所述处理器上运行的计算机程序，其特征在于，所述处理器运行所述计算机程序时执行权利要求1至11任一项所述掩膜版的套刻补偿参数的确定方法的步骤。

技术总结
一种掩膜版的套刻补偿参数的确定方法及装置、终端，所述方法包括：在第一掩膜版上确定多个定位点，并获取每一个定位点在所述第一掩膜版的位置，所述多个定位点的数量不小于一预设数量；确定所述多个定位点中的每一个定位点在第二掩膜版的位置；基于每一个定位点，确定该定位点在所述第一掩膜版与所述第二掩膜版上所形成的偏差向量；基于所述多个定位点在所述第二掩膜版的位置，计算套刻补偿参数偏差值；根据所述第一掩膜版的套刻补偿参数以及所述套刻补偿参数偏差值，确定所述第二掩膜版的套刻补偿参数。本发明可以提高确定掩膜版的套刻补偿参数的效率，降低成本。降低成本。降低成本。


技术研发人员：ꢀ(74)专利代理机构
受保护的技术使用者：全芯智造技术有限公司
技术研发日：2021.12.29
技术公布日：2022/4/29