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壳体、其制备方法及电子设备与流程

2022-04-30 14:11:47 来源:中国专利 TAG:

技术特征:
1.一种壳体,其特征在于,包括:陶瓷壳体本体;以及釉层,所述釉层设置于所述陶瓷壳体本体的一侧,所述釉层具有多个纹理部,所述多个纹理部按预设规律排布于所述釉层远离所述陶瓷壳体本体的表面,所述纹理部能对光线进行反射,从而使得所述壳体具有闪光效果。2.根据权利要求1所述的壳体,其特征在于,所述纹理部具有多个反光面,同一个纹理部的多个所述反光面的朝向互不相同,至少部分纹理部的至少部分反光面的朝向相同。3.根据权利要求1所述的壳体,其特征在于,所述釉层远离所述陶瓷壳体本体的表面的粗糙度ra的范围为0.1μm≤ra≤0.5μm。4.根据权利要求3所述的壳体,其特征在于,所述釉层远离所述陶瓷壳体本体的表面的光泽度g的范围110gu≤g≤150gu。5.根据权利要求1所述的壳体,其特征在于,所述纹理部为点状纹理、线状纹理中的至少一种,当所述纹理部为点状纹理时,所述纹理部在所述釉层远离陶瓷壳体本体的表面的正投影所围区域的最长距离w1的范围为120μm≤w1≤200μm;当所述纹理部为线状纹理时,所述纹理部在所述釉层远离陶瓷壳体本体的表面的正投影所围区域的最短距离w2的范围为120μm≤w2≤200μm。6.根据权利要求5所述的壳体,其特征在于,当纹理部为凸起结构时,沿垂直于所述釉层的表面的方向上,所述纹理部的最大高度h的范围为40μm≤h≤180μm;当纹理部为凹陷结构时,沿垂直于所述釉层的表面的方向上,所述纹理部的最大深度h的范围为40μm≤h≤180μm。7.根据权利要求5所述的壳体,其特征在于,当所述纹理部为点状纹理时,任意相邻的两个纹理部之间的最短距离s的范围100μm≤s≤500μm。8.根据权利要求1所述的壳体,其特征在于,所述纹理部为凸起结构、凹陷结构中的至少一种,所述纹理部包括反光面,所述反光面为平面;所述反光面与所述釉层远离所述陶瓷壳体本体的表面之间的角度α的范围为30
°
≤α≤60
°
。9.根据权利要求8所述的壳体,其特征在于,当所述纹理部为凸起结构时,所述纹理部包括棱锥、棱台或线状凸起结构中的至少一种;当所述纹理部为凹陷结构时,所述纹理部包括倒棱锥、倒棱台或线状凹陷结构中的至少一种;所述棱锥包括三棱锥、四棱锥、五棱锥、六棱锥、七棱锥、八棱锥、星型棱锥中的一种或多种;所述棱台包括三棱台、四棱台、五棱台、六棱台、七棱台、八棱台、星型棱台中的一种或多种;所述倒棱锥包括倒三棱锥、倒四棱锥、倒五棱锥、倒六棱锥、倒七棱锥、倒八棱锥、倒星型棱锥中的一种或多种;所述倒棱台包括倒三棱台、倒四棱台、倒五棱台、倒六棱台、倒七棱台、倒八棱台、倒星型棱台中的一种或多种。10.根据权利要求1所述的壳体,其特征在于,所述陶瓷壳体本体的原料组分包括陶瓷粉体,所述陶瓷粉体的平均粒径d的范围为0.2μm≤d≤0.8μm;所述陶瓷粉体包括氧化锆、氧化铝、二氧化硅、二氧化钛、氮化硅、氧化镁、氧化铬、氧化铍、五氧化二钒、三氧化二硼、尖晶石、氧化锌、氧化钙、莫来石、钛酸钡中的至少一种。11.根据权利要求1-10任一项所述的壳体,其特征在于,所述釉层具有至少一种颜色;所述釉层的厚度的范围为100μm至200μm;所述釉层包括氧化钾、氧化钠、氧化钙、氧化镁、氧化铝、氧化硅、氧化铍中的至少一种。
12.一种壳体的制备方法,其特征在于,包括:制备陶瓷壳体本体;在所述陶瓷壳体本体的表面形成釉层,并在所述釉层远离陶瓷壳体本体的表面形成多个纹理部,所述多个纹理部按预设规律排布,所述纹理部能对光线进行反射,从而使得所述壳体具有闪光效果。13.根据权利要求12所述的壳体的制备方法,其特征在于,在所述陶瓷壳体本体的表面形成釉层,并在所述釉层远离陶瓷壳体本体的表面形成多个纹理部;包括:在所述陶瓷壳体本体的表面形成釉料层,并在所述釉料层远离所述陶瓷壳体本体的表面形成多个纹理部;以及于1000℃至1200℃下,进行第一烧结,所述第一烧结的时间的范围为3h至5h,以使所述釉料层形成釉层。14.根据权利要求12所述的壳体的制备方法,其特征在于,所述制备方法还包括:于抛光液中进行第二抛光,其中,所述抛光液包括抛光颗粒,所述抛光颗粒的平均粒径的范围为80nm至120nm,所述抛光液的ph值为9至12。15.根据权利要求14所述的壳体的制备方法,其特征在于,所述抛光颗粒包括二氧化硅颗粒、氧化铝颗粒、氧化铈颗粒中的至少一种。16.根据权利要求12-15任一项所述的壳体的制备方法,其特征在于,所述制备陶瓷壳体本体包括:将陶瓷粉体与粘结剂混合,进行造粒,以得到粒料,所述粒料的目数的范围为40目至100目,所述粒料的bet比表面积为6m2/g至10m2/g,所述粘结剂为环氧类粘结剂、聚醚类粘结剂中的至少一种,在所述粒料中,粘合剂的重量百分比的范围为3%至5%;采用所述粒料进行成型,以得到生坯;以及将所述生坯进行排胶,并进行第二烧结,得到陶瓷壳体本体。17.根据权利要求16所述的壳体的制备方法,其特征在于,所述成型为模压成型、注塑成型、流延成型中的至少一种;当所述成型为模压成型时,所述采用所述粒料进行成型,以得到生坯,包括:于模压的压力的范围为10mpa至15mpa下,进行模压成型,保压10s至20s,以得到生坯。18.根据权利要求17所述的壳体的制备方法,其特征在于,所述将所述生坯进行排胶,并进行第二烧结,包括:将所述生坯逐步升温800℃至950℃进行排胶,所述排胶时间的范围为2h至3h,以及于1350℃至1500℃下,进行第二烧结,所述第二烧结的时间的范围为8h至10h。19.根据权利要求18所述的壳体的制备方法,其特征在于,所述将所述生坯进行排胶,并进行第二烧结之后,所述制备陶瓷壳体本体还包括:进行机械加工及第一抛光,以使所述陶瓷壳体本体的粗糙度ra’的范围为5nm至25nm,所述陶瓷壳体本体表面的光泽度为130gu至160gu,所述陶瓷壳体本体的光泽度大于所述釉层的光泽度。20.一种电子设备,其特征在于,包括:显示组件;权利要求1至11任一项所述的壳体,所述壳体设置于所述显示组件的一侧;以及
电路板组件,所述电路板组件设置于所述壳体与显示组件之间,且与所述显示组件电连接,用于控制所述显示组件进行显示。

技术总结
本申请提供一种壳体、其制备方法及电子设备。所述壳体包括:陶瓷壳体本体;以及釉层,所述釉层设置于所述陶瓷壳体本体的一侧,所述釉层具有多个纹理部,所述多个纹理部按预设规律排布于所述釉层远离所述陶瓷壳体本体的表面,所述纹理部能对光线进行反射,从而使得所述壳体具有闪光效果。本申请的壳体可以呈现哑光的高闪闪光效果。高闪闪光效果。高闪闪光效果。


技术研发人员:晏刚
受保护的技术使用者:OPPO广东移动通信有限公司
技术研发日:2022.01.28
技术公布日:2022/4/29
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